[發明專利]一種包裝盒的防偽印刷工藝有效
| 申請號: | 202110893526.7 | 申請日: | 2021-08-04 |
| 公開(公告)號: | CN113619302B | 公開(公告)日: | 2022-12-23 |
| 發明(設計)人: | 何寶華 | 申請(專利權)人: | 江蘇美嘉包裝有限公司 |
| 主分類號: | B41M1/12 | 分類號: | B41M1/12;B41M1/30;B41M5/00;B41M3/14;C09D11/50;C09D11/107;C09D11/101;C08J5/18;C08L29/04;C08L3/02;C08L67/02;C08K3/04;C08K3/22 |
| 代理公司: | 北京君泊知識產權代理有限公司 11496 | 代理人: | 王程遠 |
| 地址: | 223300 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 包裝 防偽 印刷 工藝 | ||
1.一種包裝盒的防偽印刷工藝,其特征在于:具體印刷步驟如下:
步驟一:將基料加入到雙螺桿擠出機中進行共混、造粒,然后進行流延制膜處理,得到基膜;
步驟二:設計三維防偽印刷圖案,然后將三維防偽印刷圖案拆解成兩部分,制得第一防偽印刷圖案和第二防偽印刷圖案,根據第一防偽印刷圖案和第二防偽印刷圖案,使用CTP直接制版機分別進行制版;
步驟三:使用基膜對包裝盒需要做防偽處理的位置進行第一層覆膜處理;
步驟四:將第一防偽印刷圖案的樣版放入到絲網印刷機中,然后利用熱敏油墨和基料充分混合后使用絲網印刷機對步驟三中的第一層覆膜外部進行印刷處理,得到第一層防偽印刷圖案;
步驟五:使用基膜對第一層防偽印刷圖案外部進行第二層覆膜處理;
步驟六:將第二防偽印刷圖案的樣版放入到UV打印機中,然后利用水性UV油墨和基料充分混合后使用UV打印機對步驟五中的第二層覆膜外部進行印刷處理,得到第二層防偽印刷圖案;
步驟七:使用基膜對第二層防偽印刷圖案外部進行第三層覆膜處理;防偽印刷完成;
所述熱敏油墨按照重量百分比計算包括:41.40~42.20%的水性丙烯酸樹脂、22.80~23.60%的二炔二醇類不可逆變色顏料、1.20~1.60%的乳化劑、6.40~7.40%的助溶劑、2.90~3.50%的分散劑、0.35~0.55%的消泡劑,其余為去離子水;
所述水性UV油墨按照重量百分比計算包括:52.30~53.50%的水性UV樹脂、9.50~10.20%的光引發劑、3.20~4.20%的玻璃纖維、4.30~4.70%的納米氧化鋅、3.80~4.40%的納米纖維素,其余為活性稀釋劑;
所述基料按照重量百分比計算包括:19.40~19.80%的聚己二酸對苯二甲酸丁二酯、19.60~20.80%的淀粉、4.80~5.40%的納米氧化石墨、48.60~49.60%的聚乙烯醇、0.27~0.33%的十二烷基硫酸鈉、0.12~0.13%的羧甲基纖維素,其余為納米二氧化鈦;
所述基料的制備工藝,具體制備步驟如下:
S1:稱取上述重量份的聚己二酸對苯二甲酸丁二酯、淀粉、納米氧化石墨、聚乙烯醇、十二烷基硫酸鈉、羧甲基纖維素和納米二氧化鈦;
S2:將步驟S1中的淀粉、納米氧化石墨和聚乙烯醇加入到去離子水中,進行水浴雙頻超聲處理40~50min,然后進行離心水洗干燥,得到混合料A;
S3:將步驟S2中制得的混合料A和步驟S1中的聚己二酸對苯二甲酸丁二酯進行共混,得到混合料B;
S4:將步驟S3中制得的混合料B和步驟S1中的十二烷基硫酸鈉、羧甲基纖維素和納米二氧化鈦進行共混,然后加入到微納米氣流粉碎機中進行粉碎加工處理,得到基料。
2.根據權利要求1所述的一種包裝盒的防偽印刷工藝,其特征在于:在步驟四中,基料和熱敏油墨的重量份比為1∶30~40;在步驟六中,基料和水性UV油墨的重量份比為1∶20~30。
3.根據權利要求1所述的一種包裝盒的防偽印刷工藝,其特征在于:在步驟六中,印刷后均通過UV光固機進行固化,UV光固機功率7950~8050W,光固時間1~2分鐘。
4.根據權利要求1所述的一種包裝盒的防偽印刷工藝,其特征在于:所述熱敏油墨按照重量百分比計算包括:41.40%的水性丙烯酸樹脂、22.80%的二炔二醇類不可逆變色顏料、1.20%的乳化劑、6.40%的助溶劑、2.90%的分散劑、0.35%的消泡劑、24.95%的去離子水;所述水性UV油墨按照重量百分比計算包括:52.30%的水性UV樹脂、9.50%的光引發劑、3.20%的玻璃纖維、4.30%的納米氧化鋅、3.80%的納米纖維素、26.90%的活性稀釋劑;所述基料按照重量百分比計算包括:19.40%的聚己二酸對苯二甲酸丁二酯、19.60%的淀粉、4.80%的納米氧化石墨、48.60%的聚乙烯醇、0.27%的十二烷基硫酸鈉、0.12%的羧甲基纖維素、7.21%的納米二氧化鈦。
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