[發明專利]次氯酸分子溶液制備裝置在審
| 申請號: | 202110887488.4 | 申請日: | 2021-08-03 |
| 公開(公告)號: | CN113529109A | 公開(公告)日: | 2021-10-22 |
| 發明(設計)人: | 班永鑫 | 申請(專利權)人: | 北京德義法正科技有限公司 |
| 主分類號: | C25B1/26 | 分類號: | C25B1/26;C25B9/00;C25B15/02;A61K33/20;A61L2/03;A61P17/00;A61P31/10;A61P17/02;A61L101/20 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;李茂家 |
| 地址: | 100142 北京市海淀*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 次氯酸 分子 溶液 制備 裝置 | ||
1.一種次氯酸分子溶液制備裝置,其包括次氯酸發生器,所述次氯酸發生器包括電極組件,所述電極組件包括陽極組件和陰極組件,所述陽極組件包括陽極片,所述陽極片為鍍膜電極片,其中鍍膜由氧化釕、氧化銥和氧化銠三種氧化物中的任意一種或多種、導電劑和粘合劑組成,所述陰極組件包括陰極片,所述陰極片由選自鈦、不銹鋼和石墨中的一種或多種材料構成。
2.權利要求1所述的次氯酸分子溶液制備裝置,所述鍍膜中氧化釕、氧化銥、氧化銠、導電劑和粘合劑的比例為(0-10):(0-6):(0-5):1:1,鍍膜厚度為1-30μm。
3.權利要求1或2所述的次氯酸分子溶液制備裝置,其中電極間距為5-10mm。
4.權利要求1或2所述的次氯酸分子溶液制備裝置,其中所述陽極組件包括多個串聯連接的陽極片,所述陰極組件包括多個串聯連接的陰極片。
5.權利要求1或2所述的次氯酸分子溶液制備裝置,其還包括主機,所述主機包括中央處理器、電源插頭和電源組件,所述電源組件將220V交流電轉換為12-36V直流電,所述電源組件的輸入端與所述電源插頭電連接,所述電源組件的輸出端與所述電極組件電連接。
6.權利要求1或2所述的次氯酸分子溶液制備裝置,其中所述次氯酸發生器還包括水流擾動器,所述水流擾動器配置為增強水中的分子運動。
7.權利要求5所述的次氯酸分子溶液制備裝置,所述主機還包括用戶交互界面,所述用戶交互界面配置為接收用戶指令并將信號傳輸到中央處理器和/或顯示從中央處理器接收的信號。
8.權利要求5所述的次氯酸分子溶液制備裝置,其中所述次氯酸發生器還包括水溫傳感器,所述水溫傳感器與所述中央處理器通訊連接。
9.權利要求8所述的次氯酸分子溶液制備裝置,其中所述次氯酸發生器還包括TDS傳感器,所述TDS傳感器與所述中央處理器通訊連接。
10.權利要求9所述的次氯酸分子溶液制備裝置,所述中央處理器配置為根據水溫傳感器和TDS傳感器的信號反饋,動態調整電解功率因數和電解反應進行的時間。
11.權利要求5所述的次氯酸分子溶液制備裝置,其中所述電源組件包括功率因數調整系統。
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