[發(fā)明專利]用于負性光刻膠的聚酰亞胺樹脂及包含其的負性光刻膠有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110884547.2 | 申請日： | 2021-08-03 |
| 公開（公告）號： | CN113736082B | 公開（公告）日： | 2023-08-15 |
| 發(fā)明（設計）人： | 請求不公布姓名 | 申請（專利權(quán)）人： | 上海極紫科技有限公司 |
| 主分類號： | C08G73/10 | 分類號： | C08G73/10;G03F7/038;G03F7/004 |
| 代理公司： | 上海互順專利代理事務所(普通合伙) 31332 | 代理人： | 韋志剛 |
| 地址： | 201805 上海市嘉定*** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 光刻 聚酰亞胺 樹脂 包含 | ||
1.負性光刻膠，其特征在于，按重量份計，其包括：
100重量份的溶劑；
10-30重量份的用于負性光刻膠的聚酰亞胺樹脂；
1-10重量份的光致產(chǎn)酸劑；和
0.1-2重量份的助劑；
其中所述聚酰亞胺樹脂具有下式I的化學結(jié)構(gòu)：
其中，x為0.05-0.95；n為5-200；
Ar1、Ar2各自獨立地選自下組：
R1選自下組：
R3選自單鍵、氧原子、硫原子、苯環(huán)、亞甲基、羰基、砜基、異丙基或三氟異丙基；
R2選自下組：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的負性光刻膠，其特征在于，按重量份計，其包括：
100重量份的溶劑；
15-25重量份的用于負性光刻膠的聚酰亞胺樹脂；
1-9重量份的光致產(chǎn)酸劑；和
0.1-1重量份的助劑。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的負性光刻膠，其特征在于，所述x為0.4-0.7。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的負性光刻膠，其特征在于，所述n為8-60。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的負性光刻膠，其特征在于，所述聚酰亞胺樹脂的化學結(jié)構(gòu)為：
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的負性光刻膠，其特征在于，所述溶劑選自N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、二甲亞砜、間甲酚、對甲酚、丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)和γ-丁內(nèi)酯中的一種或多種。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的負性光刻膠，其特征在于，所述光致產(chǎn)酸劑為可產(chǎn)生磺酸的產(chǎn)酸劑。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的負性光刻膠，其特征在于，所述光致產(chǎn)酸劑選自硫鎓鹽、碘鎓鹽、三嗪類物質(zhì)、磺酸酯類化合物和對甲苯磺酸類衍生物中的一種或多種。
9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的負性光刻膠，其特征在于，所述助劑選自增感劑、阻溶劑和酸猝滅劑中的一種或多種。
10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的負性光刻膠，其特征在于，所述助劑選自三乙醇胺、三戊胺和三正十二胺中的一種或多種。
11.用于負性光刻膠的聚酰亞胺樹脂在制備負性光刻膠中的用途，其中所述聚酰亞胺樹脂具有下式I的化學結(jié)構(gòu)：
其中，x為0.05-0.95；n為5-200；
Ar1、Ar2各自獨立地選自下組：
R1選自下組：
R3選自單鍵、氧原子、硫原子、苯環(huán)、亞甲基、羰基、砜基、異丙基或三氟異丙基；
R2選自下組：
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的用途，其特征在于，所述x為0.4-0.7。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的用途，其特征在于，所述n為8-60。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的用途，其特征在于，所述聚酰亞胺樹脂的化學結(jié)構(gòu)為：
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