[發明專利]超高精度的雷達物位計標定裝置及方法有效
| 申請號: | 202110882246.6 | 申請日: | 2021-08-02 |
| 公開(公告)號: | CN113624304B | 公開(公告)日: | 2023-09-19 |
| 發明(設計)人: | 呼秀山;夏陽 | 申請(專利權)人: | 北京銳達儀表有限公司 |
| 主分類號: | G01F25/20 | 分類號: | G01F25/20 |
| 代理公司: | 北京庚致知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11807 | 代理人: | 李偉波;韓德凱 |
| 地址: | 100744 北京市通州區中關村科技*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 超高 精度 雷達 物位計 標定 裝置 方法 | ||
1.一種超高精度的雷達物位計標定裝置,其特征在于,包括:
第一反射板,所述第一反射板位于雷達物位計的對側,能夠接收雷達物位計發出的雷達波并且能夠對所述雷達波進行反射以形成第一飛行方向的第一反射波作為雷達波,并且所述雷達物位計能夠接收所述第一反射板反射形成的雷達波;以及
第二反射板,所述第二反射板位于雷達物位計的同側并且具有允許雷達物位計發出的雷達波通過的通過空間,經由所述通過空間,所述雷達物位計發出的雷達波能夠到達所述第一反射板,能夠接收來自所述第一反射板反射形成的雷達波且進行反射以形成第二飛行方向的第二反射波作為雷達波,并且所述第一反射板能夠接收來自所述第二反射板反射形成的雷達波且進行反射來再次形成第一飛行方向的第一反射波作為雷達波,其中所述第一飛行方向與所述雷達物位計發出的雷達波的方向相反,所述第二飛行方向與所述雷達物位計發出的雷達波的方向相同,
其中,所述雷達物位計發出的雷達波經由所述第一反射板和所述第二反射板進行反射,并且所述雷達物位計接收所述第一反射板反射形成的雷達波,至少基于所述雷達物位計所接收的經所述第一反射板反射形成的雷達波的反射次數和所述第一反射板與所述第二反射板之間的間距來得到距離測量值,并且通過所述距離測量值與距離標準值來進行所述雷達物位計的標定。
2.如權利要求1所述的雷達物位計標定裝置,其特征在于,所述第一反射板和第二反射板之間的封閉空間構成微波飛行通道,所述微波飛行通道的四周包圍有吸波材料或者不設置有任何微波反射物體。
3.如權利要求2所述的雷達物位計標定裝置,其特征在于,所述吸波材料包括錐形吸波海綿。
4.如權利要求2所述的雷達物位計標定裝置,其特征在于,所述第一反射板和第二反射板的形狀為矩形或圓形,并且所述微波飛行通道為長方體或圓柱體。
5.如權利要求1所述的雷達物位計標定裝置,其特征在于,所述第一反射板與第二反射板的尺寸相同。
6.如權利要求1所述的雷達物位計標定裝置,其特征在于,所述第一反射板和所述第二反射板與所述雷達物位計發出的雷達波的方向垂直。
7.如權利要求1所述的雷達物位計標定裝置,其特征在于,所述雷達物位計設置在所述第二反射板的中心位置處并且所述雷達物位計發出的雷達波射向所述第一反射板的中心位置處。
8.如權利要求1所述的雷達物位計標定裝置,其特征在于,所述第一反射板和/或第二反射板的表面為平面狀或曲面狀,或者所述第一反射板和/或第二反射板的表面為拋物面。
9.如權利要求1所述的雷達物位計標定裝置,其特征在于,還包括支架,所述第一反射板與所述第二反射板安裝至所述支架上。
10.如權利要求1所述的雷達物位計標定裝置,其特征在于,所述距離測量值基于所述雷達物位計所接收的雷達波被反射的次數、所述第一反射板與第二反射板之間的間距、和所述雷達物位計的安裝位置來確定。
11.如權利要求1所述的雷達物位計標定裝置,其特征在于,所述第一反射板與第二反射板之間的間距固定,并且為已知距離。
12.如權利要求1所述的雷達物位計標定裝置,其特征在于,所述第一反射板與所述第二反射板之間的間距能夠改變,并且還包括距離測量裝置以及移動驅動裝置,以便測量變化后的間距。
13.如權利要求12所述的雷達物位計標定裝置,其特征在于,所述第一反射板與所述第二反射板之間的最大間距為最小間距的2倍以上。
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