[發明專利]一種基于無掩膜版工藝的快速曝光裝置及其使用方法在審
| 申請號: | 202110879850.3 | 申請日: | 2021-08-02 |
| 公開(公告)號: | CN113568275A | 公開(公告)日: | 2021-10-29 |
| 發明(設計)人: | 吳尚;張翔;熊寶星;袁孝 | 申請(專利權)人: | 南京科天光電工程研究院有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/16 | 分類號: | G03F7/16 |
| 代理公司: | 南京燦爛知識產權代理有限公司 32356 | 代理人: | 李志鴻 |
| 地址: | 210000 江蘇省南京市江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 無掩膜版 工藝 快速 曝光 裝置 及其 使用方法 | ||
1.一種基于無掩膜版工藝的快速曝光裝置,其特征在于,包括:
曝光機構(1),用于與曝光作業生產線對接,所述曝光機構(1)的頂部設置有硅片本體(5),所述曝光機構(1)包括機體(11),所述機體(11)的內部設置有直線模組一(12)以及直線模組二(15),所述直線模組一(12)的頂部通過電動推桿一(13)設置有承載板一(14),所述直線模組二(15)的頂部設置有承載板二(17),所述承載板一(14)以及承載板二(17)的內部均設置有用于吸附硅片本體(5)的吸盤;
曝光組件(2),用于對噴膠后的所述硅片本體(5)進行曝光作業,所述曝光組件(2)包括設置于機體(11)頂部的曝光機(22);
噴膠烘干組件(3),用于對清洗后的所述硅片本體(5)進行噴膠和烘干操作,所述噴膠烘干組件(3)包括設置于機體(11)頂部的箱體(31),所述箱體(31)的內部設置有電機(311),所述箱體(31)的頂部設置有頂蓋(32),所述頂蓋(32)的底部設置有軟烘組件(321);
所述軟烘組件(321)包括出風板(3211),所述出風板(3211)的頂部設置有電加熱絲(3213),所述頂蓋(32)的底部設置有彈簧(324),所述彈簧(324)的底端與出風板(3211)的頂部固定連接,所述頂蓋(32)的內部設置有數量不少于一個的風機(328),所述頂蓋(32)的內部設置有噴膠頭(327),所述箱體(31)的內部設置有收集筒(33),用于對噴膠過程中溢出的膠水進行收集,所述收集筒(33)的底部通過收集管(332)設置有匯合筒(38),所述電機(311)的輸出端延伸至收集筒(33)的內部并設置有負壓筒(34),所述負壓筒(34)的表面通過密封軸承設置有固定板(35),所述固定板(35)的內部設置有與負壓筒(34)內部相連通的氣管(36),所述氣管(36)遠離負壓筒(34)的一端貫穿至箱體(31)的外部,通過負壓筒(34)連接負壓設備,維持所述負壓腔內部的負壓狀態;
支撐組件(4),用于對所述硅片本體(5)進行上料和下料的操作,所述支撐組件(4)包括設置于箱體(31)內部的電動推桿二(41),所述電動推桿二(41)的頂部設置有一端延伸至收集筒(33)內部的連接桿(44);
膠箱(6),用于儲存和回收光刻膠,所述膠箱(6)設置于機體(11)的頂部,所述膠箱(6)的頂部設置有用于抽取膠箱(6)內部的光刻膠向噴膠頭(327)輸送的泵機(61),所述膠箱(6)的頂部設置有一端貫穿箱體(31)并延伸至匯合筒(38)內部的回收管(63)。
2.根據權利要求1所述的一種基于無掩膜版工藝的快速曝光裝置,其特征在于:所述直線模組二(15)的頂部設置有直線模組三(16),所述承載板二(17)設置于直線模組三(16)的頂部,啟動所述直線模組二(15)和直線模組三(16),實現對所述承載板二(17)的前后左右位移,所述曝光機(22)的頂部設置有一端與機體(11)頂部固定連接的支撐架(21)。
3.根據權利要求1所述的一種基于無掩膜版工藝的快速曝光裝置,其特征在于:所述負壓筒(34)的表面開設有數量不少于一個的負壓孔(341),所述負壓筒(34)的頂部設置有橡膠墊(342),所述硅片本體(5)設置于橡膠墊(342)的頂部,所述電機(311)輸出軸的表面通過密封軸承與收集筒(33)的內部活動套接,所述匯合筒(38)的底部設置有支桿且支桿的底部與箱體(31)內壁的底部固定連接。
4.根據權利要求1所述的一種基于無掩膜版工藝的快速曝光裝置,其特征在于:所述電動推桿二(41)的頂部設置有支撐板(42),所述電動推桿二(41)的數量為兩個,兩組所述支撐板(42)之間通過連接板(43)固定連接,所述連接桿(44)設置支撐板(42)的頂部,所述連接桿(44)的頂部設置有位于硅片本體(5)下方的頂板(45)。
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