[發(fā)明專利]缺陷檢測裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110874760.5
• 申請日: 2021-07-30
• 公開（公告）號: CN115684168A
• 公開（公告）日: 2023-02-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉逍;于大維;李潤芝
• 申請（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備（集團）股份有限公司
• 主分類號: G01N21/88
• 分類號: G01N21/88;G01N21/95;G01N21/956
• 代理公司: 上海思捷知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31295
• 代理人: 鄭星

1.一種缺陷檢測裝置，用于檢測待測結(jié)構(gòu)上的缺陷，所述待測結(jié)構(gòu)包括相對布置的第一表面和第二表面，其特征在于，所述缺陷檢測裝置包括照明模塊、圖像處理模塊以及兩個成像模塊；

所述照明模塊用于提供檢測光束，所述檢測光束入射至所述第一表面并透過所述待測結(jié)構(gòu)照射至所述第二表面；

所述兩個成像模塊用于從兩個不同的角度接收由所述第一表面和所述第二表面散射的所述檢測光束并進行成像以形成所述待測結(jié)構(gòu)的兩個檢測圖像，并將所述兩個檢測圖像傳輸至所述圖像處理模塊；

所述圖像處理模塊與所述兩個成像模塊信號連接，所述圖像處理模塊用于基于所述兩個檢測圖像確定所述待測結(jié)構(gòu)的缺陷的位置。

2.如權(quán)利要求1所述的缺陷檢測裝置，其特征在于，所述兩個成像模塊對所述待測結(jié)構(gòu)的第一表面的成像視場重合，并且對所述待測結(jié)構(gòu)的第二表面的成像視場分離。

3.如權(quán)利要求1所述的缺陷檢測裝置，其特征在于，所述圖像處理模塊包括信號連接的圖像處理器和識別器，所述圖像處理器用于將所述兩個檢測圖像構(gòu)建于同一圖像坐標系下，所述識別器用于識別所述兩個檢測圖像中與所述待測結(jié)構(gòu)的缺陷對應(yīng)的缺陷圖像，并通過識別到的所述缺陷圖像與所述圖像坐標系得到所述待測結(jié)構(gòu)的缺陷的位置。

4.如權(quán)利要求3所述的缺陷檢測裝置，其特征在于，所述識別器識別到所述缺陷圖像后，所述識別器通過所述圖像坐標系獲取與所述缺陷對應(yīng)的所述缺陷圖像在所述兩個檢測圖像中的相對位置關(guān)系，以通過所述相對位置關(guān)系得到所述缺陷的位置；其中，當識別到的所述相對位置關(guān)系為位置相同或存在偏移量，且所述偏移量小于或者等于預定偏移量時，判定所述缺陷位于所述待測結(jié)構(gòu)的第一表面，或者，當識別到的所述相對位置關(guān)系為存在偏移量，且所述偏移量大于所述預定偏移量時，判定所述缺陷位于所述待測結(jié)構(gòu)的第二表面。

5.如權(quán)利要求4所述的缺陷檢測裝置，其特征在于，所述識別器還用于根據(jù)所述兩個檢測圖像中的所述缺陷圖像的數(shù)量得到所述缺陷的數(shù)量，以及根據(jù)所述兩個檢測圖像中的所述缺陷圖像的灰度值得到所述缺陷的尺寸。

6.如權(quán)利要求1所述的缺陷檢測裝置，其特征在于，所述兩個成像模塊中的一個所述成像模塊的最佳焦面為所述待測結(jié)構(gòu)的第一表面，另一個所述成像模塊的最佳焦面為所述待測結(jié)構(gòu)的第二表面。

7.如權(quán)利要求6所述的缺陷檢測裝置，其特征在于，所述檢測裝置還包括垂向焦面控制模塊，所述垂向焦面控制模塊用于測量所述待測結(jié)構(gòu)的第一表面和第二表面與所述成像模塊之間的離焦量，并根據(jù)測量到的所述離焦量，控制所述待測結(jié)構(gòu)沿所述第一表面或所述第二表面的垂向運動，以調(diào)節(jié)所述待測結(jié)構(gòu)的第一表面和所述第二表面與所述成像模塊之間的離焦量，從而使所述待測結(jié)構(gòu)的第一表面為一個所述成像模塊的最佳焦面，并使所述待測結(jié)構(gòu)的第二表面為另一個所述成像模塊的最佳焦面。

8.如權(quán)利要求1所述的缺陷檢測裝置，其特征在于，所述缺陷檢測模塊還包括安裝于所述待測結(jié)構(gòu)的第二表面的水平運動模塊，所述水平運動模塊用于帶動所述待測結(jié)構(gòu)沿水平方向運動。

9.如權(quán)利要求1所述的缺陷檢測裝置，其特征在于，所述照明模塊提供的檢測光束包括多個子光束，所述多個子光束以多個入射角入射至所述第一表面，其中，所述多個子光束的入射角為0°～45°。

10.如權(quán)利要求9所述的缺陷檢測裝置，其特征在于，所述照明模塊提供的檢測光束為非相干光束。

11.如權(quán)利要求1所述的缺陷檢測裝置，其特征在于，所述兩個成像模塊對稱設(shè)置于所述待測結(jié)構(gòu)的上方，所述第一表面朝向所述成像模塊，其中，所述兩個成像模塊的視場角均為30°～60°。