[發明專利]波像差測量裝置及波像差測量方法在審
| 申請號: | 202110874663.6 | 申請日: | 2021-07-30 |
| 公開(公告)號: | CN115685688A | 公開(公告)日: | 2023-02-03 |
| 發明(設計)人: | 楊珂;馬明英 | 申請(專利權)人: | 上海微電子裝備(集團)股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20;G01M11/02 |
| 代理公司: | 上海思捷知識產權代理有限公司 31295 | 代理人: | 鄭星 |
| 地址: | 201203 上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 波像差 測量 裝置 測量方法 | ||
1.一種波像差測量裝置,其特征在于,包括沿光路方向依次設置的光源、第一基板、投影物鏡、第二基板及圖像探測單元,其中,所述光源用于發出照明光束;所述第一基板上設有沿X向延伸的第一光柵和沿Y向延伸的第二光柵,所述第一光柵沿Y向的寬度大于所述照明光束的視場沿Y向的寬度,所述第二光柵沿Y向的寬度大于所述照明光束的視場沿Y向的寬度;所述第二基板上設有沿X向延伸的第三光柵和沿Y向延伸的第四光柵;所述投影物鏡將透過所述第一基板的照明光束投影至所述第二基板上,沿Y向移動所述第二基板,以使所述圖像探測單元獲取透過所述第二基板的照明光束的動態波像差圖像。
2.如權利要求1所述的波像差測量裝置,其特征在于,所述投影物鏡的倍率為N,所述第一光柵及所述第二光柵的周期為所述第三光柵和所述第四光柵的周期的N倍。
3.如權利要求1所述的波像差測量裝置,其特征在于,所述第一光柵沿Y向的寬度與所述第二光柵沿Y向的寬度相同,且所述第一光柵和所述第二光柵的中心在Y向上的位置相同;所述第三光柵沿Y向的寬度與所述第四光柵沿Y向的寬度相同,且所述第三光柵與所述第四光柵的中心在Y向上的位置相同。
4.如權利要求3所述的波像差測量裝置,其特征在于,所述第一光柵及所述第二光柵在X向上具有間距;所述第三光柵及所述第四光柵在X向上具有間距。
5.如權利要求4所述的波像差測量裝置,其特征在于,所述第一光柵、所述第二光柵、所述第三光柵和所述第四光柵的占空比均為1:1。
6.如權利要求5所述的波像差測量裝置,其特征在于,所述第一光柵、所述第二光柵、所述第三光柵和所述第四光柵均為一維光柵。
7.如權利要求1所述的波像差測量裝置,其特征在于,在所述圖像探測單元和所述第二基板之間具有空氣間隙。
8.如權利要求1所述的波像差測量裝置,其特征在于,還包括運動臺,用于驅動所述第二基板沿Y向移動。
9.一種利用如權利要求1~8中任一項所述的波像差測量裝置的波像差測量方法,其特征在于,包括:
光源發出的照明光束入射至第一基板上;
沿Y向移動第二基板,以使投影物鏡將透過所述第一基板的照明光束投影至所述第二基板上;以及,
沿Y向移動所述第二基板,圖像探測單元獲取透過所述第二基板的照明光束的動態波像差圖像。
10.如權利要求9所述的波像差測量方法,其特征在于,沿Y向移動所述第二基板時,將所述第二基板從剛好進入所述照明光束的視場沿Y向移動至完全移出所述照明光束的視場。
11.如權利要求9或10所述的波像差測量方法,其特征在于,沿Y向移動所述第二基板時,所述第一基板保持靜止。
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