[發明專利]后處理裝置

有效

• 申請號: 202110873272.2
• 申請日: 2018-10-29
• 公開（公告）號: CN113460775B
• 公開（公告）日: 2023-04-18
• 發明（設計）人: 近藤勝行;宮川正好
• 申請（專利權）人: 精工愛普生株式會社
• 主分類號: B65H31/10
• 分類號: B65H31/10
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 田喜慶

本發明涉及后處理裝置。一種介質排出裝置，具備：排紙盤，配置于比排出輥的高度位置靠下方處，并具有供通過排出輥排出的介質載置的載置面；以及支承部件，構成為能夠在排出輥與載置面之間的空間中，在介質排出方向上的上游側的退避位置與下游側的推進位置之間進退。在介質排出方向上，與無支承部件的情況下排出的介質在介質排出方向上的下游端最初接觸先載置在載置面上的介質的上表面的位置相比，位于推進位置的支承部件在介質排出方向上的下游端的位置配置于靠下游側處。

本申請是申請日為2018年10月29日、申請號為201811266719.4、發明名稱為“介質排出裝置”的專利申請的分案申請，其全部內容結合于此作為參考。

技術領域

本發明涉及介質排出裝置。

背景技術

以往以來，提出了通過從液體排出部的噴嘴向記錄介質噴射墨水來進行記錄處理(印刷)的噴墨式的記錄裝置，并實用化。若使用這樣的記錄裝置進行記錄處理，則有如下情況：記錄介質的記錄面由于吸收墨水而膨脹，實施了記錄處理的記錄介質在被排出輥排出而載置于排紙盤時，記錄介質以與記錄面相反的面(未被噴出墨水的面)凹陷的方式卷曲。

為了應對這樣的問題，提出了如下技術：在將實施了記錄處理的記錄介質排出的排出部中，設有使記錄介質的寬度方向兩端部向比中央部靠鉛垂方向下方位移而使記錄介質彎曲部件、以及維持該彎曲狀態的部件(例如，參照專利文獻1)。若采用該技術，則能夠抑制記錄介質在排紙盤上卷曲而使堆疊性提高。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2014－196182號公報

然而，若使用噴墨式的記錄裝置對多張記錄介質連續地進行記錄處理，則有如下情況：第二張之后的記錄介質(后續介質)在輸送方向上的下游端與在先載置于排紙盤上的記錄介質(在先介質)的上表面抵接，后續介質的下游端向下方彎折。特別是，近年來，伴隨著對多個記錄介質實施裝訂處理等而生成介質摞的后處理裝置被使用，也產生了后續排出的介質摞的下游端抵接于先載置在排紙盤上的介質摞的上表面而彎折這一問題。在專利文獻1所記載的那種以往的技術中，未考慮到這樣的問題，期待有效的對策。

發明內容

本發明鑒于該情況而完成，目的在于提供能夠抑制后續介質的輸送方向上的下游端抵接于排紙盤上的在先介質的上表面而彎折的介質排出裝置。

為了實現上述目的，本發明的第一介質排出裝置為，接收通過處理裝置的排出輥排出的介質，并具備：排紙盤，配置于比所述排出輥的高度位置靠下方處，并具有供通過所述排出輥排出的所述介質載置的載置面；以及支承部件，能夠在所述排出輥與所述載置面之間的空間，在介質排出方向上的上游側的退避位置與下游側的推進位置之間進退，所述支承部件的上表面的摩擦系數設定為所述載置面的摩擦系數以下，在介質排出方向上，與無所述支承部件的情況下排出的所述介質在介質排出方向上的下游端最初接觸先載置在所述載置面上的所述介質的上表面的位置相比，位于所述推進位置的所述支承部件在介質排出方向上的下游端的位置配置于靠下游側處。

若采用該結構，支承部件構成為能夠在排出輥與排紙盤的載置面之間的空間中，在介質排出方向上的上游側的退避位置與下游側的推進位置之間進退，支承部件的上表面的摩擦系數被設定為載置面的摩擦系數以下，與無支承部件的情況下排出的介質(后續介質)的下游端最初接觸在先介質(先載置在排紙盤的載置面上的介質)的上表面的位置相比，位于推進位置的支承部件的下游端的位置配置于靠下游側處，因此能夠使后續介質的下游端先于在先介質的上表面地接觸具有相對較小的摩擦系數的支承部件的上表面。因而，能夠防止后續介質的下游端抵接于在先介質的上表面而向下方彎折。