[發(fā)明專利]工作平臺及光刻設(shè)備

在審

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• 申請日: 2021-07-30
• 公開（公告）號: CN113467196A
• 公開（公告）日: 2021-10-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳國軍;吳景舟;馬迪
• 申請（專利權(quán)）人: 江蘇迪盛智能科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 蘇州謹和知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 32295
• 代理人: 葉棟

本申請涉及一種工作平臺，用于光刻設(shè)備以支撐工件，光刻設(shè)備包括機架和光學(xué)裝置，機架可相對工作平臺運動，工作平臺包括平臺及與平臺連接的泵體，平臺包括具有工作面的平臺本體及設(shè)置在平臺本體上的支撐組件，支撐組件可相對平臺本體沿平臺本體高度方向移動，并至少部分突伸出工作面，從而支撐工件，或支撐組件的上端面平行或低于工作面，從而使得工件位于工作面上。通過在平臺上設(shè)置支撐組件，在使用托舉件將工件移動至平臺的工作面上或從工作面移走時，支撐組件支撐工件，使得工件和工作面之間具有間隙，可輕松將托舉件脫離工件或插入到工件底部以支撐工件，操作簡單、省力，且可輕松實現(xiàn)大體積或較重工件的上下料，提高了工作平臺的實用性。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種工作平臺及光刻設(shè)備。

背景技術(shù)

光刻，也就是光學(xué)蝕刻，是將光照射在光反應(yīng)材料上，使光反應(yīng)材料發(fā)生反應(yīng)，通常是依照特定的圖案將光照射在光反應(yīng)材料上以得到需要的結(jié)構(gòu)。光刻一般也稱為曝光，進行光刻的設(shè)備即光刻機或曝光機。

常見的被光刻對象為涂覆有光反應(yīng)材料的網(wǎng)版、干膜或玻璃等。網(wǎng)版是將紗網(wǎng)固定在木框或鋼框上，并在紗網(wǎng)上涂上光反應(yīng)材料，該網(wǎng)版在經(jīng)過曝光以及后續(xù)的處理后，可以用于印刷布匹。干膜是涂有光反應(yīng)材料的薄膜，通常用于制造PCB板。涂有光反應(yīng)材料的玻璃通常是用于制備顯示屏。

網(wǎng)版、干膜、玻璃的重量都比較輕，1-3人即可完成搬運和上下料的工作。但是在一些特殊需求下，設(shè)備需要對質(zhì)量、體積較大的對象進行光刻，例如鋼板、大理石等。這類對象的長寬尺寸有2-3米，重量超過150Kg，無法通過人工搬運、上下料車運輸或者流水線運輸，所以需要新的設(shè)備和流程進行上下料。

但是，這類對象不能其在上安裝吊鉤進行吊裝，只能用托舉的方式搬運。托舉方式是在大鋼板等對象的底部用托舉件向上舉起大鋼板，但是當運到工作平臺上時，托舉件無法直接脫離大鋼板，造成大鋼板無法放置到平臺上。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種能夠使用托舉方式實現(xiàn)大體積或大重量工件上下料的工作平臺。

為達到上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：一種工作平臺，用于光刻設(shè)備以支撐工件，光刻設(shè)備還包括機架和安裝在所述機架上的光學(xué)裝置，所述機架可相對所述工作平臺運動，所述工作平臺包括平臺及與所述平臺連接的泵體，所述平臺包括具有工作面的平臺本體及設(shè)置在所述平臺本體上的支撐組件，所述支撐組件可相對所述平臺本體沿所述平臺本體高度方向移動，并至少部分突伸出所述工作面，從而支撐工件，或所述支撐組件的上端面平行或低于所述工作面，從而使得工件位于所述工作面上。

進一步地，所述平臺本體上開設(shè)有收容腔，所述支撐組件設(shè)置在所述收容腔內(nèi)并可在所述收容腔內(nèi)移動。

進一步地，所述收容腔為貫穿所述平臺本體的貫通孔或設(shè)置在所述工作面上的凹槽。

進一步地，所述支撐組件包括可相對所述平臺本體移動的支撐件、及用以驅(qū)動所述支撐件移動的驅(qū)動件，所述驅(qū)動件設(shè)置在所述工作面的下方。

進一步地，所述收容腔在所述工作面上具有開口，所述支撐件的上端面移動至所述工作面上時，可封堵所述開口。

進一步地，所述驅(qū)動件為電機、氣缸、液壓缸中的任一個。

進一步地，至少兩個所述支撐組件相離設(shè)置。

進一步地，所述平臺還包括貫穿所述平臺本體設(shè)置且與所述泵體連通的若干氣孔，所述氣孔內(nèi)設(shè)置有浮動組件，所述浮動組件可在所述氣孔內(nèi)移動并部分突伸出所述工作面以支撐工件。

進一步地，所述浮動組件突伸出所述工作面的距離小于所述支撐組件突伸出所述工作面的距離。

本發(fā)明還提供一種光刻設(shè)備，包括如上所述的工作平臺。