[發明專利]光刻機及光刻機的基底表面液膜蒸發功率測量方法

在審

• 申請號: 202110872056.6
• 申請日: 2021-07-30
• 公開（公告）號: CN115684249A
• 公開（公告）日: 2023-02-03
• 發明（設計）人: 戴思雨
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備（集團）股份有限公司
• 主分類號: G01N25/20
• 分類號: G01N25/20
• 代理公司: 上海思捷知識產權代理有限公司 31295
• 代理人: 鄭星

1.一種光刻機，其特征在于，包括照射系統、掩模、投影系統、基底和基底表面液膜蒸發功率測量裝置，所述照射系統將所述掩模上的圖案經所述投影系統投射到基底上；所述基底表面液膜蒸發功率測量裝置包括基底承載單元、流體傳輸單元、流體流量控制單元、流體溫度控制單元以及流體溫度測量單元，所述基底承載單元用于承載基底，所述基底承載單元為中空結構；所述流體傳輸單元用于向所述基底承載單元中通入流體介質，所述流體介質為氣體，所述流體流量控制單元用于控制和測量流入所述基底承載單元的流體介質的流量，所述流體溫度控制單元用于控制流入所述基底承載單元的流體介質的溫度，所述流體溫度測量單元用于測量流入與流出所述基底承載單元的流體介質的溫度差。

2.如權利要求1所述的光刻機，其特征在于，還包括流體輸入單元和流體輸出單元，所述基底承載單元包括流體入口以及流體出口，所述流體傳輸單元通過所述流體輸入單元與所述流體入口連通，所述流體輸出單元與所述流體出口連通。

3.如權利要求2所述的光刻機，其特征在于，所述流體溫度測量單元包括第一溫度傳感器和第二溫度傳感器；所述第一溫度傳感器設置于所述流體輸入單元處，用于測量流入所述基底承載單元的流體介質的溫度；所述第二溫度傳感器設置于所述流體輸出單元處，用于測量流出所述基底承載單元的流體介質的溫度。

4.如權利要求1所述的光刻機，其特征在于，所述基底承載單元內部設置有至少一個肋板。

5.如權利要求4所述的光刻機，其特征在于，所述基底承載單元內部設置有多個肋板，所述多個肋板交錯陣列設置。

6.如權利要求4所述的光刻機，其特征在于，所述肋板的形狀為直線形或曲線形。

7.如權利要求6所述的光刻機，其特征在于，所述肋板的形狀為J型。

8.如權利要求1所述的光刻機，其特征在于，所述流體介質為空氣或者惰性氣體。

9.如權利要求1所述的光刻機，其特征在于，所述流體溫度控制單元為換熱器。

10.如權利要求1所述的光刻機，其特征在于，所述流量控制單元為體積流量控制單元或質量流量控制單元。

11.一種光刻機的基底表面液膜蒸發功率測量方法，其特征在于，利用如權利要求1至10中任一項所述的光刻機的基底表面液膜蒸發功率測量裝置測量光刻機的基底表面液膜蒸發功率，所述基底被放置于基底承載單元上，向所述基底承載單元通入的流體介質為氣體，所述光刻機的基底表面液膜蒸發功率測量方法包括：

測量流入所述基底承載單元的流體介質的流量以及流入與流出所述基底承載單元的流體介質的溫度差；以及，

根據流入所述基底承載單元的流體介質的流量以及流入與流出所述基底承載單元的流體介質的溫度差得到基底表面液膜蒸發功率。