[發(fā)明專利]顯示面板在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110866483.3 | 申請日: | 2021-07-29 |
| 公開(公告)號: | CN113629113A | 公開(公告)日: | 2021-11-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張淑媛;陳建鋒 | 申請(專利權(quán))人: | 武漢華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/32 | 分類號: | H01L27/32 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570 | 代理人: | 宋煜 |
| 地址: | 430079 湖北省武漢市東湖新技術(shù)*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 面板 | ||
1.一種顯示面板,其特征在于,包括:
基底;以及
像素驅(qū)動電路層,設(shè)置于所述基底上,所述像素驅(qū)動電路層包括多個(gè)像素驅(qū)動電路;
所述像素驅(qū)動電路層包括:層疊設(shè)置在所述基底上的第一半導(dǎo)體層、第一絕緣層以及第二半導(dǎo)體層;
其中,所述像素驅(qū)動電路層包括位于各所述像素驅(qū)動電路之間且開設(shè)于所述第一絕緣層上的第一凹槽,以及設(shè)置于所述第一凹槽內(nèi)的第一有機(jī)間隔層。
2.如權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述顯示面板包括顯示區(qū),所述第一凹槽包括位于所述顯示區(qū)內(nèi)的多個(gè)第一子槽和與所述第一子槽交叉設(shè)置的多個(gè)第二子槽,多個(gè)所述第一子槽和多個(gè)所述第二子槽將所述顯示區(qū)劃分為多個(gè)子區(qū),每一所述子區(qū)內(nèi)至少設(shè)有一所述像素驅(qū)動電路。
3.如權(quán)利要求2所述的顯示面板,其特征在于,所述顯示面板包括至少一位于所述顯示區(qū)內(nèi)的彎折中心線,所述第一子槽或所述第二子槽沿垂直于所述彎折中心線的方向設(shè)置。
4.如權(quán)利要求2所述的顯示面板,其特征在于,所述顯示面板還包括位于所述顯示區(qū)一側(cè)的彎折走線區(qū),所述第二半導(dǎo)體層上設(shè)有第二絕緣層,所述第二絕緣層上設(shè)有第一金屬層;
所述像素驅(qū)動電路層包括位于所述彎折走線區(qū)內(nèi)且至少穿過所述第一絕緣層和第二絕緣層的第二凹槽、以及設(shè)置于所述第二凹槽內(nèi)的第二有機(jī)間隔層。
5.如權(quán)利要求4所述的顯示面板,其特征在于,所述顯示區(qū)和所述彎折走線區(qū)沿第一方向并列排布,所述第二有機(jī)間隔層內(nèi)開設(shè)有多個(gè)第三凹槽;
在所述第一方向上,相鄰兩所述第三凹槽呈波浪型排布,且所述第三凹槽內(nèi)填充有無機(jī)間隔層。
6.如權(quán)利要求5所述的顯示面板,其特征在于,所述第一金屬層包括多條沿所述第一方向延伸且位于所述彎折走線區(qū)內(nèi)的信號走線,每一所述信號走線下方對應(yīng)設(shè)有多個(gè)所述第三凹槽,所述信號走線對應(yīng)所述第三凹槽部分沿各所述第三凹槽內(nèi)壁呈W型設(shè)置且位于所述第二有機(jī)間隔層與所述無機(jī)間隔層之間。
7.如權(quán)利要求6所述的顯示面板,其特征在于,所述像素驅(qū)動電路層還包括設(shè)置于所述第一金屬層上的平坦層,所述平坦層與所述無機(jī)間隔層為一體成型結(jié)構(gòu)。
8.如權(quán)利要求4所述的顯示面板,其特征在于,所述第一凹槽穿過所述第一絕緣層和所述第二絕緣層,且所述第一有機(jī)間隔層與所述第二有機(jī)間隔層為一體成型結(jié)構(gòu)。
9.如權(quán)利要求8所述的顯示面板,其特征在于,所述第二絕緣層與所述第一金屬層之間設(shè)有一有機(jī)絕緣層,所述有機(jī)絕緣層、所述第一有機(jī)間隔層和所述第二有機(jī)間隔層為一體成型結(jié)構(gòu)。
10.如權(quán)利要求4所述的顯示面板,其特征在于,所述基底包括襯底和設(shè)置于所述襯底上的無機(jī)絕緣層,所述第一凹槽依次穿過所述無機(jī)絕緣層、第一絕緣層和所述第二絕緣層,所述第一有機(jī)間隔層填充于所述第一凹槽內(nèi)。
11.如權(quán)利要求10所述的顯示面板,其特征在于,所述基底還包括位于所述襯底與所述無機(jī)絕緣層之間的緩沖層,所述第二凹槽依次穿過所述緩沖層、無機(jī)絕緣層、第一絕緣層和所述第二絕緣層,所述第二有機(jī)間隔層填充于所述第二凹槽內(nèi)。
12.如權(quán)利要求4-11任一項(xiàng)所述的顯示面板,其特征在于,所述第一金屬層包括位于所述第二絕緣層和所述第一有機(jī)間隔層上的掃描橋接走線,相鄰且位于不同所述子區(qū)內(nèi)的兩所述像素驅(qū)動電路通過所述掃描橋接走線橋接。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





