[發(fā)明專利]貼壁細胞加載裝置的新型均勻應變小室

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• 申請日: 2021-07-29
• 公開（公告）號: CN115029245A
• 公開（公告）日: 2022-09-09
• 發(fā)明（設計）人: 張春秋;王紫琪;王鑫;高麗蘭
• 申請（專利權）人: 天津理工大學
• 主分類號: C12M3/04
• 分類號: C12M3/04
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種貼壁細胞加載裝置的新型均勻應變小室，其特征在于：所述的小室結構包括兩個靜定位孔1、兩個動定位孔2、彈性基底膜上端平面3、彈性基底膜下端曲面4；兩個靜定位孔1與貼壁細胞應變加載裝置固定樁的定子相連，兩個動定位孔2與貼壁細胞應變加載裝置的動子相連。加載過程中，兩個靜定位孔1靜止不動，兩個動定位孔2隨著驅動進行不同位移的運動拉伸；彈性基底膜上端平面3添加細胞培養(yǎng)液種植細胞；彈性基底膜下端曲面4的縱向截面為“M”型結構，與彈性基底膜上端平面3的距離是彈性基底膜的厚度，其厚度變化符合小室加載過程中彈性基底膜上端平面3應變的均勻性要求。

2.根據(jù)權利要求1所示的貼壁細胞加載裝置的新型均勻應變小室，其特征在于：拉伸過程中，不斷調整彈性基底膜的厚度。對彈性基底膜上端平面3應變較大的部分增大其相對位置彈性基底膜下端曲面4與彈性基底膜上端平面3的距離即彈性基底膜的厚度，實際加載過程中彈性基底膜上端平面3的應變值就會有所減小；對彈性基底膜上端平面3應變較小的部分減小其相對位置彈性基底膜下端曲面4與彈性基底膜上端平面3的距離即彈性基底膜的厚度，實際加載過程中彈性基底膜上端平面3的應變值就會有所增大，以此達到彈性基底膜上端平面3應變均勻的目的。

3.根據(jù)權利要求1所示的貼壁細胞加載裝置的新型均勻應變小室，其特征在于：小室橫向總長70mm，縱向30mm，內腔縱向距離為26.8mm，橫向距離為40mm，高度為15mm，兩個靜定位孔1直徑為4mm，兩個動定位孔2直徑為4mm。小室在1％、5％、10％三個不同的拉伸率下，具有不同的結構，其區(qū)別是彈性基底膜上端平面3與彈性基底膜下端曲面4之間的距離即彈性基底膜的厚度，彈性基底膜下端曲面4的任一縱向截面形狀為“M”型。

4.根據(jù)權利要求3所示的貼壁細胞加載裝置的新型均勻應變小室，其特征在于：拉伸率為1％時，彈性基底膜最大厚度為0.651mm，最小厚度為0.231mm。

5.根據(jù)權利要求3所示的貼壁細胞加載裝置的新型均勻應變小室，其特征在于：拉伸率為5％時，彈性基底膜最大厚度為0.692mm，最小厚度為0.314mm。

6.根據(jù)權利要求3所示的貼壁細胞加載裝置的新型均勻應變小室，其特征在于：拉伸率為10％時，彈性基底膜最大厚度為0.616mm，最小厚度為0.314mm。