[發(fā)明專(zhuān)利]基板處理方法以及基板處理裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110864672.7
• 申請(qǐng)日: 2021-07-29
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN114068358A
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-02-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 合田和樹(shù);巖田敬次;松永恭幸;高橋朋宏
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 株式會(huì)社斯庫(kù)林集團(tuán)
• 主分類(lèi)號(hào): H01L21/67
• 分類(lèi)號(hào): H01L21/67
• 代理公司: 隆天知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003
• 代理人: 宋曉寶;向勇

1.一種基板處理方法，使用處理液處理基板，其中，

包含：

向具有多個(gè)開(kāi)口的氣泡供給管供給氣體，并向所述處理液中供給所述氣體以形成氣泡的工序；

在所述處理液中測(cè)量由被供給了所述氣泡的所述處理液的狀態(tài)引起的物理量的工序；

基于所述物理量，判定所述多個(gè)開(kāi)口的狀態(tài)的工序。

2.如權(quán)利要求1所述的基板處理方法，其中，

所述物理量表示被供給了所述氣泡的所述處理液的比重，

在所述判定的工序中，基于所述比重判定所述多個(gè)開(kāi)口的狀態(tài)。

3.如權(quán)利要求1所述的基板處理方法，其中，

所述物理量表示在被供給了所述氣泡的所述處理液中產(chǎn)生的壓力，

在所述判定的工序中，基于所述壓力判定所述多個(gè)開(kāi)口的狀態(tài)。

4.如權(quán)利要求1所述的基板處理方法，其中，

在判定所述狀態(tài)的所述工序中，比較在第一時(shí)間測(cè)量的所述物理量即基準(zhǔn)物理量與在第二時(shí)間測(cè)量的所述物理量即測(cè)量物理量，來(lái)判定所述多個(gè)開(kāi)口的狀態(tài)，

所述第一時(shí)間與所述第二時(shí)間不同。

5.如權(quán)利要求4所述的基板處理方法，其中，

所述第一時(shí)間表示處理所述基板之前的時(shí)間，

所述第二時(shí)間表示處理所述基板之后的時(shí)間，

在判定所述狀態(tài)的所述工序中，基于所述基準(zhǔn)物理量與所述測(cè)量物理量的差分，來(lái)判定所述多個(gè)開(kāi)口的狀態(tài)是否異常。

6.如權(quán)利要求1～5中任一項(xiàng)所述的基板處理方法，其中，

在供給所述氣體的所述工序中，

在處理所述基板時(shí)，向所述氣泡供給管供給第一流量的所述氣體；

在判定所述多個(gè)開(kāi)口的狀態(tài)時(shí)，向所述氣泡供給管供給第二流量的所述氣體；

所述第二流量比所述第一流量多。

7.一種基板處理裝置，其中，

具備：

處理槽，貯留處理液并浸漬基板；

氣泡供給管，具有向所述處理液中供給氣體以形成氣泡的多個(gè)開(kāi)口；

測(cè)量部，在所述處理液中測(cè)量由被供給了所述氣泡的所述處理液的狀態(tài)引起的物理量；以及

判定部，基于所述物理量判定所述多個(gè)開(kāi)口的狀態(tài)。

8.如權(quán)利要求7所述的基板處理裝置，其中，

所述測(cè)量部是比重計(jì)，具有：

管，配置在所述處理槽內(nèi)；以及

氣體供給機(jī)構(gòu)，向所述管供給氣體。