[發明專利]一種透光發電玻璃的激光刻劃方法有效
| 申請號: | 202110863913.6 | 申請日: | 2021-07-29 |
| 公開(公告)號: | CN113594300B | 公開(公告)日: | 2023-10-24 |
| 發明(設計)人: | 彭壽;潘錦功;傅干華;王金萍;蔣猛;張正明;趙雷;青漢森;唐茜;龍偉剛;李浩;劉鑫;王川;柳大為;沈新才 | 申請(專利權)人: | 成都中建材光電材料有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;B23K26/362 |
| 代理公司: | 成都市集智匯華知識產權代理事務所(普通合伙) 51237 | 代理人: | 韓曉霞 |
| 地址: | 610000 四川省成*** | 國省代碼: | 四川;51 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 透光 發電 玻璃 激光 刻劃 方法 | ||
1.一種透光發電玻璃的激光刻劃方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1、玻璃基底層表面依次生長前電極層、發電層、背電極層,采用激光刻線完成串聯;
S2、采用波長為532nm的激光透過所述前電極,對所述發電層和背電極層進行激光刻劃,得到透光發電玻璃;所述激光刻劃的方向為垂直于S1中所述的激光刻線,所述激光刻劃的透光線寬度為80~800μm。
2.根據權利要求1所述的透光發電玻璃的激光刻劃方法,其特征在于,所述發電層包括吸收層,所述吸收層為非晶硅吸收層或碲化鎘吸收層。
3.根據權利要求1所述的建筑用透光發電玻璃的激光刻劃方法,其特征在于,所述激光的透光線寬度為100~600μm。
4.根據權利要求1所述的建筑用透光發電玻璃的激光刻劃方法,其特征在于,所述S2中激光的功率為90~120kW。
5.根據權利要求1所述的建筑用透光發電玻璃的激光刻劃方法,其特征在于,所述S2中激光的頻率為30~50kHz。
6.根據權利要求1所述的建筑用透光發電玻璃的激光刻劃方法,其特征在于,所述S2中激光刻劃的刻劃速度為8000~12000mm/s。
7.一種透光發電玻璃,其特征在于,由權利要求1-6任意一項透光發電玻璃的激光刻劃方法制備得到。
8.一種透光發電玻璃組件,其特征在于,包括權利要求7所述的透光發電玻璃。
9.根據權利要求8所述的透光發電玻璃組件,其特征在于,所述組件由上至下依次為前板玻璃、膠膜、所述透光發電玻璃、膠膜、背板玻璃。
10.根據權利要求8所述的透光發電玻璃組件,其特征在于,所述組件由上至下依次為前板玻璃、膠膜、所述透光發電玻璃、背板玻璃,所述透光發電玻璃與所述背板玻璃之間通過粘接結構膠和間隔條形成中空層。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于成都中建材光電材料有限公司,未經成都中建材光電材料有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110863913.6/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





