[發(fā)明專利]一種用于實(shí)現(xiàn)高分辨的大口徑拼接主鏡光學(xué)系統(tǒng)

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110853193.5
• 申請(qǐng)日: 2021-07-27
• 公開（公告）號(hào): CN113568151A
• 公開（公告）日: 2021-10-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王臣臣;謝遠(yuǎn);張蕾;王文成;田曉;張陳俊;魏麗敏;李香草
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 西安航空學(xué)院
• 主分類號(hào): G02B17/02
• 分類號(hào): G02B17/02;G02B17/06;G02B27/00
• 代理公司: 北京金智普華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11401
• 代理人: 巴曉艷

1.一種用于實(shí)現(xiàn)高分辨的大口徑拼接主鏡光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，所述光學(xué)系統(tǒng)沿光線傳播方向依次包括第一拼接反射主鏡、第二反射鏡、第三反射鏡和折軸鏡；

所述第一拼接反射主鏡和所述第二反射鏡相對(duì)設(shè)置，兩者之間的距離大于所述第二反射鏡的焦距；

所述第三反射鏡和所述折軸鏡分設(shè)在所述第一拼接反射主鏡的兩側(cè)，且所述折軸鏡設(shè)置在所述第二反射鏡的焦點(diǎn)與所述第一拼接反射主鏡之間；

所述系統(tǒng)在所述折軸鏡的焦面上成像。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于實(shí)現(xiàn)高分辨的大口徑拼接主鏡光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，所述第一拼接反射主鏡由若干子鏡拼接而成；每個(gè)子鏡相互獨(dú)立，所有子鏡對(duì)稱分布，對(duì)系統(tǒng)成像產(chǎn)生的影響能夠疊加。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于實(shí)現(xiàn)高分辨的大口徑拼接主鏡光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，所述子鏡的個(gè)數(shù)為4個(gè)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于實(shí)現(xiàn)高分辨的大口徑拼接主鏡光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)采用偏視場(chǎng)，防止所述第三反射鏡的反射光線被遮擋。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于實(shí)現(xiàn)高分辨的大口徑拼接主鏡光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，所述第一拼接反射主鏡光學(xué)特性為：-0.25f′＜f′₁＜-0.075f′，-0.5f′＜R₁＜-0.15f′；所述第二反射鏡的光學(xué)特性為：-0.025f′＜f′₂＜-0.005f′，-0.05f′＜R₂＜-0.01f′；所述第三反射鏡的光學(xué)特性為：-0.025f′＜f′₃＜-0.01f′，-0.05f′＜R₃＜-0.02f′；所述折軸鏡的光學(xué)特性為：f′₄＝∞，R₄＝∞；

其中，f′為系統(tǒng)焦距，f′₁、f′₂、f′₃、f′₄均為焦距；R₁、R₂、R₃、R₄均為曲率半徑。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于實(shí)現(xiàn)高分辨的大口徑拼接主鏡光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，所述第一拼接反射主鏡的填充因子小于1，有效口徑小于6m。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于實(shí)現(xiàn)高分辨的大口徑拼接主鏡光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，所述子鏡為圓形凹面鏡。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于實(shí)現(xiàn)高分辨的大口徑拼接主鏡光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，所述光學(xué)系統(tǒng)焦距為75-85m，視場(chǎng)大小為0.1°×0.3°-0.3°×0.5°，口徑為5.5-6.5m，探測(cè)器像元尺寸大小為5-15μm。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于實(shí)現(xiàn)高分辨的大口徑拼接主鏡光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，所述光學(xué)系統(tǒng)成像譜段覆蓋0.5-1.2μm。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于實(shí)現(xiàn)高分辨的大口徑拼接主鏡光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，在整個(gè)光學(xué)系統(tǒng)存在無法校正的像差的條件下，能夠通過所述光學(xué)系統(tǒng)的成像結(jié)果對(duì)成像質(zhì)量進(jìn)行分析；分析方式為成像亮斑尺寸對(duì)比、傳遞函數(shù)曲線分析和波前圖分析。