[發明專利]一種半亮光細膩質感干粒釉及其在陶瓷板中的應用

有效

• 申請號: 202110851214.X
• 申請日: 2021-07-27
• 公開（公告）號: CN113480174B
• 公開（公告）日: 2022-12-16
• 發明（設計）人: 潘利敏;龐偉科;黃玲艷;王賢超
• 申請（專利權）人: 蒙娜麗莎集團股份有限公司
• 主分類號: C03C8/00
• 分類號: C03C8/00;C04B41/89
• 代理公司: 上海瀚橋專利代理事務所(普通合伙) 31261
• 代理人: 曹芳玲;牛彥存

本發明公開一種半亮光細膩質感干粒釉及其在陶瓷板中的應用。所述半亮光細膩質感干粒釉的化學組成包括：以質量百分比計，SiO₂：40?60%；Al₂O₃：15?25%；堿土金屬氧化物：9?20%；堿金屬氧化物：2?5%；ZnO：3?5%。所述半亮光細膩質感干粒釉利用玻璃粉和始融溫度比較低的拋釉對干粒進行局部填充及包裹，并和干粒部分反應融合形成質感細膩釉面。

技術領域

本發明屬于陶瓷建材領域，具體涉及一種半亮光細膩質感干粒釉及其在陶瓷板中的應用。

背景技術

當前建筑陶瓷的應用市場越來越廣闊，同時對陶瓷裝飾技術有著愈加苛刻的要求。借助其他材料的交叉融合豐富陶瓷裝飾，使陶瓷裝飾效果更加豐富多樣，是現代陶瓷釉面裝飾的重要風向標之一。

發明內容

對此本發明提出一種半亮光細膩質感干粒釉及其在陶瓷板中的應用。所述半亮光細膩質感干粒釉利用玻璃粉和始融溫度比較低的拋釉對(啞光細膩質感)干粒進行局部填充及包裹，并和干粒部分反應融合形成質感細膩釉面。該局部還可以使玻璃粉的玻璃相更好地和金屬電光水反應形成幻彩。

第一方面，本發明提供一種半亮光細膩質感干粒釉。所述半亮光細膩質感干粒釉的化學組成包括：以質量百分比計，SiO₂：40-60％；Al₂O₃：15-25％；堿土金屬氧化物：9-20％；堿金屬氧化物：2-5％；ZnO：3-5％。

較佳地，所述半亮光細膩質感干粒釉的化學組成包括：以質量百分比計，IL：0.5-1.5％；SiO₂：40-60％；Al₂O₃：15-25％；CaO：4-6％；MgO：1-3％；K₂O：1-3％；Na₂O：1-2％；ZnO：3-5％；BaO：3-8％；SrO：1-3％。

較佳地，所述半亮光細膩質感干粒釉的硅鋁摩爾比保持在2.5-4.0之間，優選為3.0-4.0。

較佳地，所述半亮光細膩質感干粒釉的原料組成包括：以質量份計，干粒90-100質量份，亮光拋釉1-5質量份和玻璃粉3-5質量份。

較佳地，所述干粒的化學組成包括：以質量百分比計，IL：0.3-0.5％；SiO₂：54-58％；Al₂O₃：16-20％；CaO：15-18％；MgO：0.3-0.5％；K₂O：2.0-3.0％；Na₂O：3.0-4.0％；ZnO4-5％；BaO：0.2-0.3％；SrO：0_.5-0.8％。

較佳地，所述亮光拋釉的化學組成包括：以質量百分比計，IL：1.0-1.5％；SiO₂：55-65％；Al₂O₃：15-18％；CaO：10-15％；MgO：3.0-4.5％；K₂O：2.0-3.0％；Na₂O：2.0-3.0％；ZnO：3-4％；BaO：5.0-7.0％；TiO₂：0.2-0.5％；Fe₂O₃：0.1-0.2％；P₂O₅：0.2-0.4％。

較佳地，所述干粒的始融溫度在1115-1135℃之間；所述亮光拋釉的始融溫度低于干粒，優選為低于干粒10-20℃。