[發(fā)明專利]顯示面板及其制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110846410.8
• 申請日: 2021-07-26
• 公開（公告）號: CN113488602B
• 公開（公告）日: 2023-10-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 楊星星;邢汝博
• 申請（專利權(quán)）人: 合肥維信諾科技有限公司
• 主分類號: H10K50/85
• 分類號: H10K50/85;H10K50/86;H10K59/122;H10K71/00
• 代理公司: 北京布瑞知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11505
• 代理人: 王海臣

1.一種顯示面板，其特征在于，包括透明顯示區(qū)，所述透明顯示區(qū)包括：

陣列基板；

發(fā)光器件層，設(shè)于所述陣列基板一側(cè)，所述發(fā)光器件層包括沿所述發(fā)光器件層的發(fā)光方向?qū)盈B設(shè)置的陽極層、發(fā)光層和陰極層，所述陽極層包括多個間隔設(shè)置的陽極塊；

像素限定層，所述像素限定層包括多個像素限定塊，每個所述像素限定塊圍設(shè)并暴露至少一個所述陽極塊形成像素開口，所述發(fā)光層設(shè)于所述像素開口內(nèi)；

其中，所述像素限定塊與該像素限定塊圍設(shè)的所述陽極塊在所述陣列基板上的正投影重疊，且所述像素限定塊在所述陣列基板上的正投影的外輪廓為隨機圖形。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述像素限定塊的外輪廓線為隨機鋸齒線。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述像素限定塊在所述陣列基板上的正投影外輪廓和該像素限定塊圍設(shè)的所述陽極塊在所述陣列基板上的正投影外輪廓之間的距離隨機分布；所述像素限定塊在所述陣列基板上的正投影外輪廓線和該像素限定塊圍設(shè)的所述陽極塊在所述陣列基板上的正投影外輪廓之間的間距大于或等于2.5微米并且不大于4微米。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述像素限定層的材料為黑色有機膠。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述多個像素限定塊被劃分為多個單元組，不同所述單元組中相應(yīng)位置的所述像素限定塊的所述外輪廓線的形狀相同。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，還包括薄膜封裝層，所述薄膜封裝層填充相鄰所述像素限定塊之間的間隔。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述多個陽極塊分別對應(yīng)多個子像素，所述多個子像素按預(yù)定方式排布，所述預(yù)定方式包括：RGB排列、RGBW排列、RGB Delta排列、Pentile排列、鉆石排列中的任一項。

8.一種顯示面板的制備方法，其特征在于，包括：

提供陣列基板；

在所述陣列基板上制備陽極層，所述陽極層包括多個陽極塊；

制備像素限定層，所述像素限定層包括多個像素限定塊，每個所述像素限定塊圍設(shè)并暴露至少一個所述陽極塊形成像素開口，每個所述像素限定塊與該像素限定塊圍設(shè)的所述陽極塊在所述陣列基板上的正投影重疊，且所述像素限定塊在所述陣列基板上的正投影的外輪廓為隨機圖形；

制備發(fā)光層，所述發(fā)光層位于所述像素開口內(nèi)；

制備陰極層，所述陰極層覆蓋所述發(fā)光層和所述像素限定層。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，所述制備像素限定層，所述像素限定層包括多個像素限定塊，每個所述像素限定塊圍設(shè)并暴露至少一個所述陽極塊形成像素開口，每個所述像素限定塊與該像素限定塊圍設(shè)的所述陽極塊在所述陣列基板上的正投影重疊，且所述像素限定塊在所述陣列基板上的正投影的外輪廓為隨機圖形包括：

在所述陣列基板上制備像素限定材料層，所述像素限定材料層覆蓋所述陽極層；

采用第一掩膜板對所述像素限定材料層進(jìn)行圖案化處理，得到多個所述像素開口；

采用第二掩膜板對所述像素限定材料層進(jìn)行圖案化處理，形成多個所述像素限定塊。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，還包括：

制備薄膜封裝層，所述薄膜封裝層填充所述像素限定塊之間的間隔。