[發(fā)明專利]用于圖片序列的去塊濾波方法、裝置、電子設(shè)備和介質(zhì)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110844516.4
• 申請日: 2021-07-26
• 公開（公告）號: CN113573055A
• 公開（公告）日: 2021-10-29
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 鄒箭;丁文鵬
• 申請（專利權(quán)）人: 北京百度網(wǎng)訊科技有限公司
• 主分類號: H04N19/117
• 分類號: H04N19/117;H04N19/176;H04N19/42;H04N19/80
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 范芳茗

1.一種用于圖片序列的去塊濾波方法，包括：

基于預(yù)定閾值，確定序列中的當前圖片的類別；

基于確定的類別，調(diào)整對當前圖片內(nèi)的兩個相鄰塊之間的塊邊界進行去塊濾波的邊界閾值；以及

基于所述邊界閾值，選擇要應(yīng)用于所述塊邊界的去塊濾波濾波器。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括：

計算多個樣本圖片的紋理度；以及

基于計算出的紋理度設(shè)置所述預(yù)定閾值。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，還包括：

計算所述當前圖片的紋理度；以及

將計算出的紋理度與所述預(yù)定閾值進行比較，以確定所述當前圖片的類別。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括：

通過改變邊界閾值的偏移值，來調(diào)整所述邊界閾值，所述偏移值用于所述當前圖片中的條帶。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中，所述邊界閾值包括第一邊界閾值和第二邊界閾值，并且所述偏移值包括針對所述第一邊界閾值的第一偏移值和針對所述第二邊界閾值的第二偏移值，其中，通過語法元素slice_beta_offset_div2和slice_tc_offset_div2在比特流中表示所述第一偏移值和所述第二偏移值。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，還包括：

計算所述兩個相鄰塊中位于所述塊邊界兩側(cè)的樣本之間的變化度和平坦度；以及

基于所述變化度和平坦度以及所述第一邊界閾值和所述第二邊界閾值，選擇要應(yīng)用于所述塊邊界的去塊濾波濾波器。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括：

對所述當前圖片進行預(yù)測，得到針對所述當前圖片的預(yù)測圖片；

對所述當前圖片和所述預(yù)測圖片之間的殘差依次進行變換/量化和逆量化/逆變換，得到所述當前圖片的殘差圖片；

基于所述預(yù)測圖片和所述殘差圖片得到所述當前圖片的重構(gòu)圖片；以及

利用所述去塊濾波濾波器處理所述重構(gòu)圖片，以得到經(jīng)濾波的重構(gòu)圖片。

8.一種用于圖片序列的去塊濾波裝置，包括：

圖片類別確定模塊，基于預(yù)定閾值，確定序列中的當前圖片的類別；

調(diào)整模塊，基于確定的類別，調(diào)整對當前圖片內(nèi)的兩個相鄰塊之間的塊邊界進行去塊濾波的邊界閾值；以及

選擇模塊，基于所述邊界閾值，選擇要應(yīng)用于所述塊邊界的去塊濾波濾波器。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，還包括：

第一計算模塊，計算多個樣本圖片的紋理度；以及

設(shè)置模塊，基于計算出的紋理度設(shè)置所述預(yù)定閾值。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置，還包括：

第二計算模塊，計算所述當前圖片的紋理度；以及

比較模塊，將計算出的紋理度與所述預(yù)定閾值進行比較，以由所述圖片類別確定模塊確定所述當前圖片的類別。

11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，還包括：

改變模塊，通過改變邊界閾值的偏移值，來調(diào)整所述邊界閾值，所述偏移值用于所述當前圖片中的條帶。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的裝置，其中，所述邊界閾值包括第一邊界閾值和第二邊界閾值，并且所述偏移值包括針對所述第一邊界閾值的第一偏移值和針對所述第二邊界閾值的第二偏移值，其中，通過語法元素slice_beta_offset_div2和slice_tc_offset_div2在比特流中表示所述第一偏移值和所述第二偏移值。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的裝置，還包括：

第三計算模塊，計算所述兩個相鄰塊中位于所述塊邊界兩側(cè)的樣本之間的變化度和平坦度；以及

所述選擇模塊基于所述變化度和平坦度以及所述第一邊界閾值和所述第二邊界閾值，選擇要應(yīng)用于所述塊邊界的去塊濾波濾波器。