[發(fā)明專利]一種N型TOPCon電池正面繞鍍的去除方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110837884.6
• 申請(qǐng)日: 2021-07-23
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113745106A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-12-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 郎芳;張偉;王子謙;李青娟;張磊;李鋒;史金超;李龍;田思;陳志軍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 英利能源（中國(guó)）有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/311
• 分類號(hào): H01L21/311;H01L21/3213;H01L31/18
• 代理公司: 石家莊國(guó)為知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所 13120
• 代理人: 張沙沙

1.一種N型TOPCon電池正面繞鍍的去除方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟一，將經(jīng)過(guò)背面超薄氧化硅及多晶硅沉積和背面磷摻雜后的硅片的正面浸入HF與HNO₃的混合酸溶液中進(jìn)行酸洗，酸洗時(shí)間為1～10min；

步驟二，將經(jīng)過(guò)酸洗后的硅片整體浸入濃度為0.5wt％～5wt％堿溶液中進(jìn)行堿洗，堿洗時(shí)間為1～15min；

步驟三，將經(jīng)過(guò)堿洗的硅片浸入濃度為5％～10％v/v的HF溶液中清洗，清洗時(shí)間為1～10min。

2.如權(quán)利要求1所述的N型TOPCon電池正面繞鍍的去除方法，其特征在于：所述混合酸溶液中HF、HNO₃和去離子水的體積比為2～10:125～135:65，所述清洗時(shí)間為2～8min。

3.如權(quán)利要求2所述的N型TOPCon電池正面繞鍍的去除方法，其特征在于：所述混合酸溶液中HF、HNO₃和去離子水的體積比為4～10:128～130:65，所述清洗時(shí)間為3～5min。

4.如權(quán)利要求1所述的N型TOPCon電池正面繞鍍的去除方法，其特征在于：步驟二中，所述堿溶液為KOH水溶液或NaOH水溶液。

5.如權(quán)利要求4所述的N型TOPCon電池正面繞鍍的去除方法，其特征在于：所述堿溶液的濃度為2wt％～4wt％。

6.如權(quán)利要求5所述的N型TOPCon電池正面繞鍍的去除方法，其特征在于：所述堿溶液的溫度為50～80℃，所述堿洗時(shí)間為2～10min。

7.如權(quán)利要求1所述的N型TOPCon電池正面繞鍍的去除方法，其特征在于：步驟三中，所述HF溶液的濃度為5％～8％v/v，所述清洗時(shí)間為2～6min。

8.權(quán)利要求1～7任一項(xiàng)所述的N型TOPCon電池正面繞鍍的去除方法在制備N型TOPCon電池中的應(yīng)用。