[發(fā)明專利]抑制由含釕液體產(chǎn)生含釕氣體的方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110835309.2
• 申請(qǐng)日: 2021-07-23
• 公開（公告）號(hào): CN114000151A
• 公開（公告）日: 2022-02-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 佐藤伴光;佐藤冬樹;根岸貴幸
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社德山
• 主分類號(hào): C23F1/38
• 分類號(hào): C23F1/38;H01L21/3213
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;李茂家

1.一種抑制RuO₄氣體產(chǎn)生的方法，其包括在含釕液體中添加RuO₄氣體的產(chǎn)生抑制劑的工序。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，通過所述抑制劑的添加，使所述含釕液體中的含釕化合物還原。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，通過所述抑制劑的添加，使所述含釕液體的氧化還原電位降低。

4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的方法，其中，所述RuO₄氣體的產(chǎn)生抑制劑為還原劑。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的方法，其中，所述RuO₄氣體的產(chǎn)生抑制劑為堿性化合物。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其中，包含所述堿性化合物的含釕液體的pH為12以上。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其中，所述堿性化合物為氫氧化鈉、氫氧化鉀、四烷基氫氧化銨、膽堿或氨。

8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中，所述還原劑為過氧化氫或硫酸鹽類。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中，所述硫酸鹽類為硫代硫酸鈉或亞硫酸鈉。

10.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的方法，其中，添加有所述抑制劑的含釕液體的氧化還原電位為600mV以下。

11.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中，所述還原劑向含釕液體的添加量相對(duì)于還原對(duì)象物質(zhì)為0.1摩爾當(dāng)量以上且100摩爾當(dāng)量以下。

12.一種RuO₄氣體的產(chǎn)生抑制劑，其是包含還原劑和堿性化合物中的至少一者而成的。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的RuO₄氣體的產(chǎn)生抑制劑，其中，所述還原劑為過氧化氫、硫代硫酸鈉或亞硫酸鈉。

14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的RuO₄氣體的產(chǎn)生抑制劑，其中，所述堿性化合物為氫氧化鈉、氫氧化鉀、四烷基氫氧化銨、膽堿或氨。