[發明專利]檢測窗口、化學機械拋光墊及拋光系統

有效

• 申請號: 202110834098.0
• 申請日: 2021-07-20
• 公開（公告）號: CN113478382B
• 公開（公告）日: 2022-11-04
• 發明（設計）人: 王騰;劉敏;羅乙杰;王淑芹;楊浩;林文多
• 申請（專利權）人: 湖北鼎匯微電子材料有限公司;湖北鼎龍控股股份有限公司
• 主分類號: B24B37/20
• 分類號: B24B37/20;B24B37/04
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種檢測窗口，設置在拋光層中，其特征在于，所述檢測窗口包括透光部和加強部，透光部下表面設置凹陷區域，加強部位于凹陷區域內，加強部與透光部一體成型或粘合為一體；所述加強部設置鏤空部分，0＜鏤空部分橫截面積≤凹陷區域橫截面積的80％；所述加強部中部鏤空、互不連通的加強部中部鏤空和邊緣鏤空；

所述檢測窗口的壓縮比為大于0且≤2.0％。

2.根據權利要求1所述的檢測窗口，其特征在于，粘合為一體的透光部和加強部間剝離強度大于40oz/inch。

3.根據權利要求1所述的檢測窗口，其特征在于，所述檢測窗口的壓縮比大于0且≤0.4％。

4.根據權利要求1所述的檢測窗口，其特征在于，所述檢測窗口的壓縮比大于0且≤0.33％。

5.根據權利要求1所述的檢測窗口，其特征在于，所述檢測窗口的壓縮比大于0且＜0.31％。

6.根據權利要求1所述的檢測窗口，其特征在于，所述加強部的橫截面為軸對稱圖形。

7.根據權利要求1所述的檢測窗口，其特征在于，鏤空部分的截面形狀為菱形、橢圓形、圓形、長方形、正方形。

8.根據權利要求1所述的檢測窗口，其特征在于，凹陷區域橫截面積的50％≤鏤空部分橫截面積＜凹陷區域橫截面積的80％。

9.根據權利要求1所述的檢測窗口，其特征在于，鏤空部分包括互不連通的中部鏤空和邊緣鏤空，所述邊緣鏤空數量＞1，邊緣鏤空均勻分布在加強部的邊和/或角。

10.根據權利要求1所述的檢測窗口，其特征在于，邊緣鏤空數量為4的倍數，邊緣鏤空均勻分布在加強部的四個角和/或四條邊。

11.根據權利要求1所述的檢測窗口，其特征在于，透光部肖氏硬度為30-90D，加強部肖氏硬度為50-90D。

12.根據權利要求1所述的檢測窗口，其特征在于，加強部肖氏硬度＞透光部肖氏硬度。

13.根據權利要求1所述的檢測窗口，其特征在于，0＜加強部肖氏硬度-透光部肖氏硬度≤30D。

14.根據權利要求1所述的檢測窗口，其特征在于，靠近拋光墊中心一側的加強部肖氏硬度＞遠離拋光墊中心一側的加強部肖氏硬度。

15.一種化學機械拋光墊，其特征在于，包括權利要求1-14任一項所述的檢測窗口。

16.一種拋光系統，其特征在于，包括權利要求15所述的化學機械拋光墊、平臺以及監測裝置。

17.根據權利要求16所述的拋光系統，其特征在于，所述拋光系統用于拋光晶圓。