[發(fā)明專利]洗滌液組合物及使用其的洗滌方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110832189.0 | 申請(qǐng)日： | 2021-07-22 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN113969215A | 公開（公告）日： | 2022-01-25 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 樸健熙;鄭用昊;鄭敬振;尹永鎬 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 凱斯科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C11D1/14 | 分類號(hào)： | C11D1/14;C11D1/22;C11D1/34;C11D3/04;C11D3/20;C11D3/30;C11D3/34;C11D3/36;C11D3/37;C11D3/60;C09K13/10;C09K13/08;C09K13/00;H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京康信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240 | 代理人： | 曲在丹 |
| 地址： | 韓國*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 洗滌液 組合 使用 洗滌 方法 | ||
本發(fā)明涉及一種洗滌液組合物及使用其的洗滌方法。根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供一種洗滌液組合物，其包括：螯合劑，其包括第一有機(jī)酸及第二有機(jī)酸；以及蝕刻劑，其包括氟化物化合物。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種洗滌液組合物及使用其的洗滌方法。
背景技術(shù)
近年來，隨著半導(dǎo)體器件小型化的發(fā)展，人們對(duì)基板各層的平坦度提出更高的要求。此外，為了提高生產(chǎn)效率，需要同時(shí)對(duì)不同硬度或性能的不同類型的表面進(jìn)行平坦化處理。
化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)是一種保證半導(dǎo)體器件基板的平坦度的技術(shù)。化學(xué)機(jī)械拋光在提供含有拋光粒子的拋光劑的同時(shí)，使用拋光墊對(duì)基板表面進(jìn)行拋光及平坦。作為拋光劑，以二氧化硅粒子為拋光粒子的二氧化硅漿料和以氧化鈰粒子為拋光粒子的氧化鈰漿料得到了廣泛的應(yīng)用。二氧化硅漿料主要用于銅等金屬及二氧化硅的拋光，氧化鈰漿料用于二氧化硅及氮化硅的拋光。
在使用諸如二氧化硅漿料或氧化鈰漿料之類的拋光劑執(zhí)行拋光工藝之后，需要一種洗滌過程以去除殘留在基板表面上的拋光碎屑、顆粒、有機(jī)殘留物、副產(chǎn)物等。
在使用二氧化鈰漿料執(zhí)行CMP工藝之后，通常執(zhí)行氫氟酸洗滌以去除殘留在基板表面上的二氧化鈰(一種拋光粒子)。然而，在氫氟酸洗滌中，由于對(duì)熱氧化膜的溶解性過強(qiáng)，因此會(huì)產(chǎn)生劃痕或表面缺陷，導(dǎo)致影響洗滌后的工藝，還會(huì)降低半導(dǎo)體器件的成品率及質(zhì)量。另外，當(dāng)使用稀氟化氫(dHF)時(shí)，對(duì)氧化膜的刻蝕作用不大。
因此，需要開發(fā)一種既能替代氟化氫，又能有效地去除CMP工藝后的殘留物，并可減少缺陷發(fā)生的洗滌液。
上述描述已經(jīng)在構(gòu)思本公開的過程中被發(fā)明人所擁有或獲取，并且，不一定是在提出本申請(qǐng)之前公知的技術(shù)。
發(fā)明內(nèi)容
要解決的技術(shù)問題
本發(fā)明的目的在于解決上述問題，為此提供一種洗滌液組合物及使用其的洗滌方法，其中所述洗滌液組合物能夠減少表面缺陷的發(fā)生，同時(shí)有效地去除使用氧化鈰粒子進(jìn)行拋光過程后的洗滌過程中的殘留物。
然而，本發(fā)明要解決的問題并非受限于上述言及的問題，未言及的其他問題將通過下面的記載由本領(lǐng)域普通技術(shù)人員所明確理解。
解決問題的技術(shù)方法
根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供一種洗滌液組合物，其包括：螯合劑，其包括第一有機(jī)酸及第二有機(jī)酸；以及蝕刻劑，其包括氟化物化合物。
根據(jù)一實(shí)施例，所述第一有機(jī)酸可以包括羧基或砜基，所述第二有機(jī)酸可以包括磷酸基。
根據(jù)一實(shí)施例，所述第一有機(jī)酸的含量可以為1重量％至10重量％，所述第二有機(jī)酸的含量可以為0.01重量％至5重量％。
根據(jù)一實(shí)施例，所述第一有機(jī)酸可以包括從由蘋果酸、丙二酸、己二酸、琥珀酸、酒石酸、戊二酸、乙醇酸、天冬氨酸、衣康酸、谷氨酸、丙三羧酸、庚二酸、辛二酸、癸二酸、硬脂酸、丙酮酸、乙酰乙酸、乙醛酸、壬二酸、富馬酸、戊烯二酸、創(chuàng)傷酸、粘康酸、烏頭酸、丙三羧酸(carballylic acid)、三元酸、苯六甲酸、異檸檬酸、檸檬酸、乳酸、葡萄糖酸、馬來酸、抗壞血酸、亞氨基乙酸、草酸、焦性沒食子酸、甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、戊酸、己酸、庚酸、辛酸、壬酸、癸酸、十一酸、月桂酸、十三酸、肉豆蔻酸、十五酸、棕櫚酸、氨基磺酸、水楊酸、對(duì)甲苯磺酸、聚苯乙烯磺酸、2-萘磺酸、聚乙烯磺酸、十二烷基苯磺酸、對(duì)羥基苯磺酸、甲基磺酸及硝基苯磺酸組成的組中選擇的一種以上。
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