[發(fā)明專利]液體噴射頭以及液體噴射裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110829663.4 | 申請日: | 2021-07-22 |
| 公開(公告)號: | CN113978122A | 公開(公告)日: | 2022-01-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 渡邊英一郎 | 申請(專利權(quán))人: | 精工愛普生株式會社 |
| 主分類號: | B41J2/01 | 分類號: | B41J2/01;B41J2/175;B41J29/393 |
| 代理公司: | 北京金信知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11225 | 代理人: | 敖敦格日樂;權(quán)太白 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 液體 噴射 以及 裝置 | ||
1.一種液體噴射頭,其通過將多個基板在第一方向上進行層疊而構(gòu)成,并具備:
多個獨立流道,其與向所述第一方向噴射液體的多個噴嘴分別連通;
供給側(cè)共同液室,其在與所述第一方向交叉的方向上延伸并且與所述多個獨立流道連通,并向所述多個獨立流道供給液體;
排出側(cè)共同液室,其在與所述第一方向交叉的方向上延伸并且與所述多個獨立流道連通,并供從所述多個獨立流道排出的液體進行流動;
旁通流道,其將所述供給側(cè)共同液室和所述排出側(cè)共同液室連接,
所述供給側(cè)共同液室以及所述排出側(cè)共同液室被形成于所述多個基板中的同一層中,
所述旁通流道具有第一部分,所述第一部分被形成于所述多個基板中的與所述供給側(cè)共同液室以及所述排出側(cè)共同液室不同的層中。
2.如權(quán)利要求1所述的液體噴射頭,其中,
所述旁通流道具有:
第二部分,其將所述供給側(cè)共同液室和所述第一部分的一端連接,并且從所述供給側(cè)共同液室起向與所述第一方向相反的方向延伸;
第三部分,其將所述排出側(cè)共同液室和所述第一部分的另一端連接,并且從所述排出側(cè)共同液室起向所述相反的方向延伸。
3.如權(quán)利要求1或2所述的液體噴射頭,其中,具備:
供給流道,其向所述供給側(cè)共同液室供給液體;以及
排出流道,其供從所述排出側(cè)共同液室排出的液體進行流動,
所述供給流道的一部分以及所述排出流道的一部分中的至少一方和所述第一部分被形成于所述多個基板中的同一層中。
4.如權(quán)利要求1或2所述的液體噴射頭,其中,具備:
供給流道,其向所述供給側(cè)共同液室供給液體;以及
排出流道,其供從所述排出側(cè)共同液室排出的液體進行流動,
所述第一部分、所述供給流道的一部分和所述排出流道的一部分被形成于所述多個基板中的同一層中。
5.如權(quán)利要求1所述的液體噴射頭,其中,
所述多個噴嘴通過在與所述第一方向正交的第二方向上排列而構(gòu)成噴嘴列,
所述供給側(cè)共同液室以及所述排出側(cè)共同液室在所述第二方向上延伸,
所述液體噴射頭具備配線部件,在向所述第一方向進行觀察的平面觀察時所述配線部件被配置于所述供給側(cè)共同液室與所述排出側(cè)共同液室之間,
所述配線部件具有在所述平面觀察時相對于所述多個噴嘴中的被配置于最靠所述第二方向處的噴嘴而位于所述第二方向處的部分,
所述第一部分具有以繞過所述配線部件的方式彎曲的彎曲部。
6.如權(quán)利要求1所述的液體噴射頭,其中,
所述多個基板具有劃定出所述供給側(cè)共同液室的一部分或全部以及所述排出側(cè)共同液室的一部分或全部的外殼,
與所述供給側(cè)共同液室連通的所述多個噴嘴通過在與所述第一方向正交的第二方向上排列而構(gòu)成噴嘴列,
所述供給側(cè)共同液室以及所述排出側(cè)共同液室在所述第二方向上延伸,
所述第一部分具有在向所述第一方向觀察的平面觀察時不與所述外殼重疊的部分。
7.如權(quán)利要求1所述的液體噴射頭,其中,
所述多個基板具有劃定出所述供給側(cè)共同液室的一部分或全部以及所述排出側(cè)共同液室的一部或全部的外殼,
與所述供給側(cè)共同液室連通的所述多個噴嘴通過在與所述第一方向正交的第二方向上排列而構(gòu)成噴嘴列,
所述供給側(cè)共同液室以及所述排出側(cè)共同液室在所述第二方向上延伸,
所述第一部分的全部在向所述第一方向觀察的平面觀察時與所述外殼重疊。
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