[發(fā)明專利]一種溯源仿真模型關(guān)鍵影響因素的方法和裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110829364.0 | 申請(qǐng)日: | 2021-07-22 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113553708B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-04-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 林娟;吳開(kāi)峰;馬靜;朱希娟;劉興潤(rùn);李霞;周越;段然;吳杰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京環(huán)境特性研究所 |
| 主分類號(hào): | G06F30/20 | 分類號(hào): | G06F30/20;G06T7/00 |
| 代理公司: | 北京格允知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11609 | 代理人: | 周嬌嬌 |
| 地址: | 100854*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 溯源 仿真 模型 關(guān)鍵 影響 因素 方法 裝置 | ||
1.一種溯源仿真模型關(guān)鍵影響因素的方法,其特征在于,包括:
基于待識(shí)別區(qū)域所包括的原始參數(shù)數(shù)據(jù),生成至少兩個(gè)參數(shù)矩陣;其中,所述原始參數(shù)數(shù)據(jù)中包括至少兩個(gè)影響因素,每一個(gè)影響因素具有對(duì)應(yīng)的參數(shù)范圍,且任意兩個(gè)參數(shù)矩陣之間至少存在一個(gè)不同參數(shù);
利用預(yù)先構(gòu)建的仿真模型,針對(duì)所述至少兩個(gè)參數(shù)矩陣得到所述待識(shí)別區(qū)域的至少兩個(gè)仿真圖像;所述至少兩個(gè)仿真圖像與所述至少兩個(gè)參數(shù)矩陣一一對(duì)應(yīng);
針對(duì)所述至少兩個(gè)仿真圖像中每一個(gè)仿真圖像分別進(jìn)行特征計(jì)算,得到每一個(gè)仿真圖像的特征評(píng)價(jià)結(jié)果;
識(shí)別所述至少兩個(gè)仿真圖像中每一個(gè)仿真圖像是否包括指定目標(biāo),得到每一個(gè)仿真圖像的識(shí)別結(jié)果;
根據(jù)所述至少兩個(gè)參數(shù)矩陣、每一個(gè)仿真圖像的特征評(píng)價(jià)結(jié)果和每一個(gè)仿真圖像的識(shí)別結(jié)果,從所述至少兩個(gè)影響因素中確定出關(guān)鍵影響因素;
所述根據(jù)所述至少兩個(gè)參數(shù)矩陣、每一個(gè)仿真圖像的特征評(píng)價(jià)結(jié)果和每一個(gè)仿真圖像的識(shí)別結(jié)果,從所述至少兩個(gè)影響因素中確定出關(guān)鍵影響因素,包括:
將所述至少兩個(gè)參數(shù)矩陣劃分成若干個(gè)矩陣組;其中,每一個(gè)矩陣組中包括的各參數(shù)矩陣對(duì)應(yīng)相同影響因素的不同參數(shù);
針對(duì)每一個(gè)矩陣組,確定該矩陣組中包括的各參數(shù)矩陣的特征評(píng)價(jià)結(jié)果和識(shí)別結(jié)果,計(jì)算該矩陣組中各特征評(píng)價(jià)結(jié)果之間的離散度和各識(shí)別結(jié)果對(duì)應(yīng)的識(shí)別率,根據(jù)所述離散度和所述識(shí)別率確定是否將該矩陣組對(duì)應(yīng)的影響因素確定為所述關(guān)鍵影響因素;其中,通過(guò)對(duì)該關(guān)鍵影響因素調(diào)節(jié)獲得更接近于實(shí)測(cè)紅外圖像的仿真圖像。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,根據(jù)所述離散度和所述識(shí)別率確定是否將該矩陣組對(duì)應(yīng)的影響因素確定為所述關(guān)鍵影響因素,包括:
當(dāng)所述離散度大于預(yù)設(shè)離散度閾值且所述識(shí)別率小于預(yù)設(shè)識(shí)別率閾值時(shí),確定該離散度對(duì)應(yīng)的該矩陣組的影響因素為關(guān)鍵影響因素。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述計(jì)算該矩陣組中各特征評(píng)價(jià)結(jié)果之間的離散度,包括:
獲取該矩陣組各特征評(píng)價(jià)結(jié)果中用于表征相同特征元素的不同數(shù)值;
利用預(yù)設(shè)的算法對(duì)獲取的該不同數(shù)值進(jìn)行計(jì)算,得到離散度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,在所述從所述至少兩個(gè)影響因素中確定出關(guān)鍵影響因素之后,還包括:
基于與所述關(guān)鍵影響因素對(duì)應(yīng)的矩陣組,重新確定所述關(guān)鍵影響因素的參數(shù)范圍;
利用重新確定的所述關(guān)鍵影響因素的參數(shù)范圍以及所述仿真模型,得到對(duì)應(yīng)所述待識(shí)別區(qū)域的優(yōu)化后的仿真圖像。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述針對(duì)所述至少兩個(gè)仿真圖像中每一個(gè)仿真圖像分別進(jìn)行特征計(jì)算,得到每一個(gè)仿真圖像的特征評(píng)價(jià)結(jié)果,包括:
針對(duì)每一個(gè)仿真圖像,確定該仿真圖像的至少一個(gè)特征元素;所述特征元素包括對(duì)應(yīng)所述仿真圖像的輻射特征、位置特征、形狀特征、背景對(duì)比度特征和圖像質(zhì)量特征;
基于該仿真圖像的至少一個(gè)特征元素生成圖像特征矩陣,將所述圖像特征矩陣確定為該仿真圖像的特征評(píng)價(jià)結(jié)果。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述針對(duì)所述至少兩個(gè)仿真圖像中每一個(gè)仿真圖像分別進(jìn)行特征計(jì)算,得到每一個(gè)仿真圖像的特征評(píng)價(jià)結(jié)果,包括:
針對(duì)每一個(gè)仿真圖像,利用預(yù)先訓(xùn)練好的識(shí)別模型中的模型參數(shù),計(jì)算該仿真圖像的特征向量,將該特征向量確定為該仿真圖像的特征評(píng)價(jià)結(jié)果;其中,所述特征向量中包括至少一個(gè)特征元素;該仿真圖像的識(shí)別結(jié)果是利用所述識(shí)別模型識(shí)別得到的。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京環(huán)境特性研究所,未經(jīng)北京環(huán)境特性研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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