[發明專利]一種濕法刻蝕設備及其管理方法

在審

• 申請號: 202110827092.0
• 申請日: 2021-07-21
• 公開（公告）號: CN113552042A
• 公開（公告）日: 2021-10-26
• 發明（設計）人: 王偉
• 申請（專利權）人: 樂金顯示光電科技（中國）有限公司
• 主分類號: G01N15/14
• 分類號: G01N15/14;H01L21/67;G08B21/12
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 黃玉霞

本發明公開了一種濕法刻蝕設備及其管理方法，濕法刻蝕設備包括緩沖區和刻蝕區，在緩沖區內靠近刻蝕區的入口處設置有氣霧監控裝置，以在入口打開時監控從刻蝕區擴散至緩沖區的氣霧的顆粒數量；氣霧監控裝置與濕法刻蝕設備的上位機連接，在氣霧的顆粒數量積累到預設值時，氣霧監控裝置向上位機發送報警信號；上位機根據報警信號控制報警器報警。本發明的技術方案可以對擴散至緩沖區的氣霧的顆粒數量進行監控，在氣霧的顆粒數量達到需要清理的閾值時，通知人員及時對緩沖區進行清理，避免現有技術中清理不及時容易污染基板增加不良率，或清理過于頻繁造成能源浪費。

技術領域

本發明涉及濕法刻蝕設備管理技術，尤其涉及一種濕法刻蝕設備及其管理方法。

背景技術

在顯示面板的制備工藝中，常常用到濕法刻蝕工藝，此工藝利用刻蝕液將玻璃基板上未被光刻膠覆蓋的部分刻蝕掉，以形成所需的金屬圖案。

濕法刻蝕設備主要包括緩沖區、刻蝕區、清洗區、緩沖區和干燥區等，刻蝕設備通過傳送軸將基板傳送至各個區間，進行相應的處理。其中，刻蝕區中設置有一定數量的噴管，用于噴灑刻蝕液，噴管會在基板進入前提前打開，以對刻蝕區進行清洗。緩沖區與刻蝕區之間具有旋轉門，在基板準備進入時，旋轉門打開，再通過傳送軸將基板從緩沖區傳送至刻蝕區。由于刻蝕區提前噴灑刻蝕液，而刻蝕液中含有揮發性的酸，因此，旋轉門打開后，會有酸性氣霧從刻蝕區擴散至緩沖區，氣霧凝結后會殘留在傳送軸、旋轉門的轉軸、或基板上，造成殘渣不良，影響基板的最終刻蝕形貌，因此需要及時對緩沖區進行清理。

目前的一種解決方案是定期對緩沖區進行清理，然而，由于不同時間內，濕法刻蝕設備的使用情況以及刻蝕液的流量等因素存在差異，若固定周期對緩沖區進行清理，可能會出現清理不及時殘渣過量造成嚴重不良或清理過于頻繁殘渣較少暫時無需清理的情況，導致清理不及時或清理過于頻繁。另一種解決方案是在緩沖區設置清洗裝置，在設備使用過程中持續對擴散至緩沖區的氣霧進行清洗，但是，在氣霧顆粒較少時便對其進行清洗會造成能源浪費。

發明內容

本發明提供一種濕法刻蝕設備及其管理方法，以對擴散至緩沖區的氣霧的顆粒數量進行監控，在氣霧的顆粒數量達到需要清理的閾值時，通知人員及時對緩沖區進行清理，避免清理不及時容易污染基板增加不良率，或清理過于頻繁造成能源浪費。

第一方面，本發明提供了一種濕法刻蝕設備，包括緩沖區和刻蝕區；

在緩沖區內靠近刻蝕區的入口處設置有氣霧監控裝置，以在入口打開時監控從刻蝕區擴散至緩沖區的氣霧的顆粒數量；

氣霧監控裝置與濕法刻蝕設備的上位機連接，在氣霧的顆粒數量積累到預設值時，氣霧監控裝置向上位機發送報警信號；

上位機根據報警信號控制報警器報警。

可選的，氣霧監控裝置包括激光光源、光路調整元件和第一感光元件；光路調整元件包括第一反射器；

第一反射器和第一感光元件固定于緩沖區靠近刻蝕區的腔壁上，且分別位于入口的相對兩側；激光光源出射的激光經第一反射器反射后形成封閉入口的光幕，在無氣霧遮擋時，光幕中與入口投影重疊的光線入射至第一感光元件；

第一感光元件感測入射至第一感光元件的第一光強信息，并根據第一光強信息確定擴散至緩沖區的氣霧的顆粒數量。

可選的，氣霧監控裝置還包括第二感光元件，第二感光元件固定于緩沖區靠近刻蝕區的腔壁上；激光光源出射的部分激光經光路調整元件后入射至第二感光元件；

第二感光元件感測入射至第二感光元件的第二光強信息，并將第二光強信息發送至上位機；

上位機根據第二光強信息調整激光光源的功率。

可選的，光路調整元件還包括半透半反射器；