[發(fā)明專利]一種激光輔助原位巨量轉(zhuǎn)移方法及系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110819686.7 | 申請(qǐng)日: | 2021-07-20 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113399822B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-12-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張震;楊偉;劉義杰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 清華大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01L21/67 | 分類號(hào): | H01L21/67;B23K26/064;B23K26/0622;B23K26/082;B23K26/70 |
| 代理公司: | 北京三聚陽(yáng)光知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11250 | 代理人: | 張建綱 |
| 地址: | 100084*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 激光 輔助 原位 巨量 轉(zhuǎn)移 方法 系統(tǒng) | ||
本發(fā)明公開(kāi)了一種激光輔助原位巨量轉(zhuǎn)移方法及系統(tǒng),主要包括以下內(nèi)容:利用紅外激光波長(zhǎng)較長(zhǎng),在保證激光能量密度的前提下激光光斑半徑較大的特點(diǎn)對(duì)生長(zhǎng)有Micro?LED芯片的GaN/藍(lán)寶石襯底利用激光振鏡進(jìn)行掃描,將Micro?LED芯片從該襯底上剝離轉(zhuǎn)移至臨時(shí)轉(zhuǎn)移結(jié)構(gòu)上;利用超短脈沖激光的“冷加工”效應(yīng)及多脈沖作用的能量累計(jì)原理對(duì)臨時(shí)轉(zhuǎn)移結(jié)構(gòu),利用激光振鏡進(jìn)行逐點(diǎn)快速掃描,實(shí)現(xiàn)將Micro?LED芯片對(duì)目標(biāo)基板的高速定點(diǎn)巨量轉(zhuǎn)移;采用半反射鏡將兩種激光引入同一條激光加工光路中,在未被利用激光出光口處設(shè)置激光擴(kuò)束裝置。本發(fā)明通過(guò)采用雙激光束掃描、脈沖激光逐點(diǎn)掃描進(jìn)行Micro?LED芯片巨量轉(zhuǎn)移,轉(zhuǎn)移速率高且良品率得到保證。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于半導(dǎo)體光電技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種激光輔助原位巨量轉(zhuǎn)移方法及系統(tǒng)。
背景技術(shù)
Micro-LED即微型發(fā)光二極管,是指高密度集成的LED陣列,其中陣列中的LED像素點(diǎn)距離在10μm量級(jí),且每個(gè)LED像素都能自發(fā)光。相比LCD和OLED技術(shù),Micro-LED憑借其高解析度、低功耗、高亮度、高色彩飽和度、反應(yīng)速度快、厚度薄、壽命長(zhǎng)等特性成為業(yè)界公認(rèn)的下一代顯示技術(shù)。
Micro-LED制程主要包含四大關(guān)鍵技術(shù),即磊晶與芯片技術(shù)、巨量轉(zhuǎn)移技術(shù)、鍵結(jié)技術(shù)、彩色化方案。其中巨量轉(zhuǎn)移技術(shù)主要是指將生長(zhǎng)在外延襯底上的Micro-LED陣列快速精準(zhǔn)地轉(zhuǎn)移到驅(qū)動(dòng)電路基板上,并與驅(qū)動(dòng)電路之間形成良好的電氣連接和機(jī)械固定的技術(shù)。然而由于所需轉(zhuǎn)移的Micro-LED芯片數(shù)量龐大,且需要快速且準(zhǔn)確的轉(zhuǎn)移,因此采用傳統(tǒng)的轉(zhuǎn)移方案存在耗時(shí)過(guò)長(zhǎng)且準(zhǔn)確度不足的問(wèn)題,因此需要一種高時(shí)效且準(zhǔn)確度高的巨量轉(zhuǎn)移方法。
現(xiàn)有的巨量轉(zhuǎn)移方法主要有彈性印章法、激光輔助轉(zhuǎn)移法、靜電轉(zhuǎn)移法、電磁轉(zhuǎn)移法及流體自組裝法等。其中,彈性印模法的轉(zhuǎn)移良率目前可達(dá)99.99%,但由于其每小時(shí)轉(zhuǎn)移量?jī)H能達(dá)到1.0~2.5×104個(gè)單元體,轉(zhuǎn)移面積較小且由于存在印章變形而容易產(chǎn)生轉(zhuǎn)移誤差;靜電轉(zhuǎn)移法由于其電壓過(guò)高容易導(dǎo)致LED芯片被損壞,并且電磁轉(zhuǎn)移法需要額外的鐵磁層;激光輔助轉(zhuǎn)移法在較小的轉(zhuǎn)移誤差下,其每小時(shí)轉(zhuǎn)移量可達(dá)1×108個(gè)單元體,但其轉(zhuǎn)移良率僅能到達(dá)90%。
因此,如何提供一種解決上述技術(shù)問(wèn)題的方案是本領(lǐng)域技術(shù)人員需要解決的問(wèn)題。
發(fā)明內(nèi)容
為解決現(xiàn)有巨量轉(zhuǎn)移環(huán)節(jié)中存在的良率、效率的問(wèn)題,本發(fā)明提供一種激光輔助原位巨量轉(zhuǎn)移方法及系統(tǒng)。
本發(fā)明提供一種激光輔助原位巨量轉(zhuǎn)移方法,該巨量轉(zhuǎn)移方法包括以下步驟:
S1、準(zhǔn)備原位生長(zhǎng)有Micro-LED芯片的襯底、臨時(shí)轉(zhuǎn)移結(jié)構(gòu)、目標(biāo)基板、激光振鏡系統(tǒng)、激光器及運(yùn)動(dòng)臺(tái),所述臨時(shí)轉(zhuǎn)移結(jié)構(gòu)包括透明基板、熱敏層及粘結(jié)層;
S2、將原位生長(zhǎng)在所述襯底上的Micro-LED芯片粘接在所述臨時(shí)轉(zhuǎn)移結(jié)構(gòu)的粘接層上,通過(guò)使用所述激光振鏡系統(tǒng)采用連續(xù)掃描的方式將紅外激光作用于所述襯底的GaN/藍(lán)寶石界面上,使得靠近界面處的GaN吸收激光能量被分解,從而使得Micro-LED芯片從所述襯底上剝離;
S3、將粘接有Micro-LED芯片的所述臨時(shí)轉(zhuǎn)移結(jié)構(gòu)放置于所述目標(biāo)基板正上方,利用所述運(yùn)動(dòng)臺(tái)保證所述目標(biāo)基板上所需放置Micro-LED芯片的位置與所述臨時(shí)轉(zhuǎn)移結(jié)構(gòu)上的待轉(zhuǎn)移Micro-LED芯片位置對(duì)準(zhǔn);
S4、將脈沖激光束通過(guò)所述激光振鏡系統(tǒng)后直接作用于所述臨時(shí)轉(zhuǎn)移結(jié)構(gòu)上的待轉(zhuǎn)移Micro-LED芯片位置處,采用逐點(diǎn)掃描的激光掃描方式,即在所述臨時(shí)轉(zhuǎn)移結(jié)構(gòu)上每個(gè)待轉(zhuǎn)移Micro-LED芯片位置使用所述脈沖激光連續(xù)作用多個(gè)脈沖,利用激光能量累計(jì)原理使得激光能量作用于所述透明基板與所述熱敏層的界面處,使得Micro-LED芯片選擇性的落入所述目標(biāo)基板上。
進(jìn)一步地,在步驟S1中,所述臨時(shí)轉(zhuǎn)移結(jié)構(gòu)中的所述熱敏層材料為聚酰亞胺。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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