[發(fā)明專利]一種磁性可控的二維磁性復(fù)合材料及其制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110816328.0
• 申請(qǐng)日: 2021-07-20
• 公開（公告）號(hào): CN113667934B
• 公開（公告）日: 2023-04-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李領(lǐng)偉;周健;胡亮;楊秉璋
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 杭州電子科技大學(xué)
• 主分類號(hào): C23C14/08
• 分類號(hào): C23C14/08;C23C14/28;H01F1/00
• 代理公司: 杭州杭誠專利事務(wù)所有限公司 33109
• 代理人: 李博

1.一種磁性可控的二維磁性復(fù)合材料，其特征是，所述磁性可控的二維磁性復(fù)合材料由底襯層與磁性層耦合而成，所述磁性可控的二維磁性復(fù)合材料通過調(diào)節(jié)溫度改變磁性；

所述磁性層為鐵鍺碲納米片；

所述底襯層為在室溫下呈弱鐵磁性的單斜晶體二氧化釩薄膜；

所述二維磁性復(fù)合材料的制作方法包括以下步驟：

（1）在基底上沉積制備底襯層薄膜；

（2）剝離磁性材料晶體，得到磁性層納米片；

（3）將磁性層納米片轉(zhuǎn)移到制備好的底襯層薄膜上，形成磁性層納米片與底襯層薄膜結(jié)合的二維磁性復(fù)合材料；

步驟（1）中基底為藍(lán)寶石；

步驟（1）中底襯層薄膜由脈沖激光沉積PLD的方法得到，PLD的成膜溫度為600℃，氧壓為10mTorr。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁性可控的二維磁性復(fù)合材料，其特征是，所述底襯層厚度為20~30nm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁性可控的二維磁性復(fù)合材料，其特征是，所述磁性層厚度均值為10~50nm，橫向尺寸為1~20μm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁性可控的二維磁性復(fù)合材料，其特征是，所述步驟（1）中，藍(lán)寶石基底的厚度為1~2mm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁性可控的二維磁性復(fù)合材料，其特征是，所述步驟（1）中，脈沖波長為248nm，脈沖寬度為10~30ns，脈沖重復(fù)頻率在1~20Hz，能量密度為2~4J/cm²，脈沖激光器靶材到基底的距離為40~50mm。