[發明專利]抗-B7-H4抗體及免疫綴合物

在審

• 申請號: 202110815708.2
• 申請日: 2015-09-11
• 公開（公告）號: CN113698488A
• 公開（公告）日: 2021-11-26
• 發明（設計）人: S·R·利翁;A·波爾森;P·波拉基斯;Y·吳;W-C·梁;R·法爾斯坦
• 申請（專利權）人: 基因泰克公司
• 主分類號: C07K16/46
• 分類號: C07K16/46;C12N15/13;A61K47/68;A61K45/00;A61P35/00
• 代理公司: 北京坤瑞律師事務所 11494
• 代理人: 岑曉東

1.一種雙表位抗體，其包含第一半抗體及第二半抗體，其中該第一半抗體包含結合B7-H4之第一表位之第一VH/VL單元，且其中該第二半抗體包含結合B7-H4之第二表位之第二VH/VL單元。

2.如權利要求1之雙表位抗體，其中：

a)該第一半抗體結合整個或一部分含有B7-H4 Ig-V之結構域內的表位，且該第二半抗體結合整個或一部分含有B7-H4 Ig-C之結構域內的表位；或

b)該第一半抗體結合整個或一部分含有B7-H4 Ig-V之結構域內的表位，且該第二半抗體結合整個或一部分含有B7-H4 Ig-V及Ig-C之結構域內的表位；或

c)該第一半抗體結合整個或一部分含有B7-H4 Ig-C之結構域內的表位，且該第二半抗體結合整個或一部分含有B7-H4 Ig-V及Ig-C之結構域內的表位；或

d)該第一半抗體結合整個或一部分含有B7-H4 Ig-C之結構域內的表位，且該第二半抗體結合整個或一部分含有B7-H4 Ig-V之結構域內的表位；或

e)該第一半抗體結合整個或一部分含有B7-H4 Ig-V及Ig-C之結構域內的表位，且該第二半抗體結合整個或一部分含有B7-H4 Ig-V之結構域內的表位；或

f)該第一半抗體結合整個或一部分含有B7-H4 Ig-V及Ig-C之結構域內的表位，且該第二半抗體結合整個或一部分含有B7-H4 Ig-C之結構域內的表位。

3.如權利要求1之雙表位抗體，其中該第一半抗體包含：

(a)(i)包含SEQ ID NO:58之氨基酸序列之HVR-H1，(ii)包含SEQ ID NO:59之氨基酸序列之HVR-H2，(iii)包含SEQ ID NO:60之氨基酸序列之HVR-H3，(iv)包含SEQ ID NO:61之氨基酸序列之HVR-L1，(v)包含SEQ ID NO:62之氨基酸序列之HVR-L2，及(vi)包含SEQ ID NO:63之氨基酸序列之HVR-L3；或

(b)SEQ ID NO:56之VH序列及SEQ ID NO:55之VL序列。

4.如權利要求1之雙表位抗體，其中該第二半抗體包含：

(a)(i)包含SEQ ID NO:58之氨基酸序列之HVR-H1，(ii)包含SEQ ID NO:59之氨基酸序列之HVR-H2，(iii)包含SEQ ID NO:60之氨基酸序列之HVR-H3，(iv)包含SEQ ID NO:61之氨基酸序列之HVR-L1，(v)包含SEQ ID NO:62之氨基酸序列之HVR-L2，及(vi)包含SEQ ID NO:63之氨基酸序列之HVR-L3；或

(b)SEQ ID NO:56之VH序列及SEQ ID NO:55之VL序列。

5.一種分離核酸，其編碼：

如權利要求1至4中任一項之雙表位抗體。

6.一種宿主細胞，其包含如權利要求5之核酸。

7.一種產生抗體之方法，其包含培養如權利要求6之宿主細胞，從而產生該抗體或半抗體。

8.一種免疫綴合物，其包含如權利要求1至4中任一項之抗體及細胞毒性劑。

9.一種藥物配制劑，其包含如權利要求8之免疫綴合物及藥學可接受載劑。

10.一種治療患有B7-H4陽性癌癥之個體之方法，該方法包含向該個體施用有效量之如權利要求8之免疫綴合物。