[發明專利]一種鈣鈦礦薄膜光活性層材料的制備方法

在審

• 申請號: 202110815079.3
• 申請日: 2021-07-19
• 公開（公告）號: CN113555520A
• 公開（公告）日: 2021-10-26
• 發明（設計）人: 宗迎夏;劉玉梅;宗成中
• 申請（專利權）人: 青島科技大學
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56;H01L51/54;H01L51/42
• 代理公司: 山東重諾律師事務所 37228
• 代理人: 冷奎亨

1.一種鈣鈦礦薄膜光活性層材料的制備方法，其特征在于，包括下面的步驟:

S1:制備得到CH₃NH₃PbI₃前驅液；

S2：制備得到具有磁性的Sr₂MnMoO₆材料，把磁性的Sr₂MnMoO₆材料加入到CH₃NH₃PbI₃前驅液，以得到磁性的CH₃NH₃PbI₃前驅液；

S3：把磁性的CH₃NH₃PbI₃前驅液經過旋涂法在基板上形成鈣鈦礦薄膜光活性層。

2.根據權利要求1所述的鈣鈦礦薄膜光活性層材料的制備方法，其特征在于，在所述S3中，向所述基板施加磁場，在磁場的作用下形成晶核。

3.根據權利要求1所述的鈣鈦礦薄膜光活性層材料的制備方法，其特征在于，磁性的Sr₂MnMoO₆材料為摻雜Bi³⁺得到的磁性材料。

4.根據權利要求1所述的鈣鈦礦薄膜光活性層材料的制備方法，其特征在于，所述磁性的Sr₂MnMoO₆材料在CH₃NH₃PbI₃前驅液占據的重量比例為1%至5%。

5.根據權利要求1所述的鈣鈦礦薄膜光活性層材料的制備方法，其特征在于，所述磁性的Sr₂MnMoO₆材料中的摻雜的Bi³⁺的摩爾占比為10%至20%。

6.根據權利要求1所述的鈣鈦礦薄膜光活性層材料的制備方法，其特征在于，CH₃NH₃PbI₃前驅液采用CH₃NH₃I和PbI₂混合形成，CH₃NH₃I和PbI₂的摩爾比為1:1至1:1.2，其中溶劑采用二甲基亞砜和丁內酯。

7.根據權利要求1所述的鈣鈦礦薄膜光活性層材料的制備方法，其特征在于，采用BiVO₄材料摻雜在Sr₂MnMoO₆材料中以得到磁性的Sr₂MnMoO₆材料。