[發明專利]一種致冷件側面瓷板研磨裝置和致冷件側面瓷板研磨方法

在審

• 申請號: 202110809292.3
• 申請日: 2021-07-17
• 公開（公告）號: CN113386043A
• 公開（公告）日: 2021-09-14
• 發明（設計）人: 陳建民;趙麗萍;張文濤;惠小青;李永校;蔡水占;錢俊有;張建中;任保國;韓笑;馮玉杰;王軍霞
• 申請（專利權）人: 河南鴻昌電子有限公司
• 主分類號: B24B37/00
• 分類號: B24B37/00;B24B37/11;B24B37/27;B24B37/34;B24B49/12;B24B55/03
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1.一種致冷件側面瓷板研磨裝置，包括裝置架，在裝置架上有研磨平臺，所述的研磨平臺下面安裝有電動機，所述研磨平臺中間是鏤空區域并在鏤空區域內安裝有運行輪，所述的電動機連接動運行輪，所述運行輪上面周圍具有圓周陣列的內凸柱；在研磨平臺上、運行輪外周還有圓周陣列的外凸柱；所述內凸柱和外凸柱兩個圓環之間是研磨區域；還有一個或多個限位片在研磨區域內，所述的限位片周圍具有配合內凸柱和外凸柱的凹口，所述的限位片上還有多個卡著致冷件的卡槽；其特征是：所述的研磨區域內、研磨平臺上安裝有多個研磨片，所述的研磨片是金剛石微粒研磨片，所述的研磨片鑲嵌在研磨區域內。

2.根據權利要求1所述的致冷件側面瓷板研磨裝置，其特征是：還有一個可以旋轉的拐臂安裝在裝置架上，所述的拐臂上具有朝下的上研磨盤，所述的上研磨盤和研磨區域上下對應，所述的上研磨盤具有多個朝下的研磨片，所述的研磨片是金剛石微粒研磨片，所述的研磨片鑲嵌在上研磨盤上。

3.根據權利要求2所述的致冷件側面瓷板研磨裝置，其特征是：所述的研磨區域內或/和上研磨盤上具有間隔設置的氣孔或/和氣槽，所述的氣孔在研磨區域內或/和上研磨盤上點狀分布，所述的氣槽在研磨區域內或/和上研磨盤上溝槽狀分布。

4.根據權利要求2或3所述的致冷件側面瓷板研磨裝置，其特征是：所述上研磨盤還經過伸縮部件連接，所述的上研磨盤安裝有電子測距儀，所述的電動機連接控制裝置，所述的電子測距儀連接控制裝置，當電子測距儀測得達到設定數據時，所述的電子測距儀將信號傳遞給控制裝置，控制裝置使電動機停止運行。

5.根據權利要求4所述的致冷件側面瓷板研磨裝置，其特征是：所述的伸縮部件還連接控制裝置，控制裝置使電動機停止運行時或之后使伸縮部件收縮，上研磨盤升起。

6.根據權利要求5所述的致冷件側面瓷板研磨裝置，其特征是：在控制裝置的作用下，所述的電動機正轉和倒轉間隔進行，電動機帶動運行輪正轉和倒轉間隔進行，運行輪在研磨區域內正轉和倒轉間隔進行。

7.根據權利要求4所述的致冷件側面瓷板研磨裝置，其特征是：還有噴水頭對著研磨區域。

8.根據權利要求6或7所述的致冷件側面瓷板研磨裝置，其特征是：在研磨平臺下面還有一個研磨屑的收集槽，所述的收集槽中間還安裝有濾網，所述的收集槽還有回收管道連接噴水頭。

9.根據權利要求8所述的致冷件側面瓷板研磨裝置，其特征是：所述的回收管道中間還安裝有降溫裝置；所述的降溫裝置可以使回收管道里面的水保持20—30℃。

10.致冷件側面瓷板研磨方法，用上述致冷件側面瓷板研磨裝置對致冷件進行研磨，不用研磨劑，只用上述致冷件側面瓷板研磨裝置的研磨片進行研磨；研磨時所述的致冷件側面板和研磨片之間處于松動狀態；研磨時溫度控制在20—30℃。