[發(fā)明專利]涂覆有無定形碳層用于其相對于其它硬度較低部件的滑動性的機械元件在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110798296.6 | 申請日: | 2014-07-07 |
| 公開(公告)號: | CN113584431A | 公開(公告)日: | 2021-11-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | C·埃奧 | 申請(專利權(quán))人: | 流體力學與摩擦公司 |
| 主分類號: | C23C14/06 | 分類號: | C23C14/06;C23C14/54;G01B21/30 |
| 代理公司: | 中國貿(mào)促會專利商標事務(wù)所有限公司 11038 | 代理人: | 張力更 |
| 地址: | 法國安德*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 涂覆有 無定形碳 用于 相對于 其它 硬度 部件 滑動 機械 元件 | ||
1.機械元件,所述機械元件具有無定形碳涂層(具有至少70%原子的碳,氫除外)并且旨在通過滑動與其表面硬度為涂層硬度的至多三分之二的對應(yīng)元件協(xié)同工作,這個涂層具有通過輪廓測定法測量為大于0.025微米且至多等于0.050微米的粗糙度Ra,以及通過原子力顯微術(shù)測量為至少等于0.004微米并且至多等于0.009微米的微粗糙度,其中該無定形碳是氫化的或非氫化的。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的元件,其通過輪廓測定法測量的粗糙度至多等于0.046微米并且通過原子力顯微術(shù)的微粗糙度為0.004-0.0075微米。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2的元件,其涂層包含按照ERDA的技術(shù)測量的含量為20+/-5%原子的氫。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項的元件,在氫化的無定形碳涂層之下包含至多一微米CrN的層。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項的元件,其中無定形碳涂層具有至少兩微米的厚度,該涂層在從元件的表面開始的至多一微米上摻雜有鎢。
6.通過摩擦協(xié)同工作的元件對,包含根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項的元件以及其表面硬度為涂層硬度的至多三分之二的對應(yīng)元件。
7.根據(jù)權(quán)利要求6的元件對,其中對應(yīng)元件由銅合金制成。
8.根據(jù)權(quán)利要求6的元件對,其中對應(yīng)元件是鋁合金。
9.根據(jù)權(quán)利要求6的元件對,其中對應(yīng)元件由錫合金制成。
10.通過摩擦協(xié)同工作的元件對,包含:
-機械元件,所述機械元件具有無定形碳涂層(具有至少70%原子的碳,氫除外)并且旨在通過滑動與其表面硬度為涂層硬度的至多三分之二的對應(yīng)元件協(xié)同工作,這個涂層具有通過輪廓測定法測量為大于0.025微米且至多等于0.050微米的粗糙度Ra,以及通過原子力顯微術(shù)測量為至少等于0.004微米并且至多等于0.009微米的微粗糙度μRa;以及
-其表面硬度為涂層硬度的至多三分之二的對應(yīng)元件。
11.根據(jù)權(quán)利要求10的元件對,其通過輪廓測定法測量的粗糙度至多等于0.046微米并且通過原子力顯微術(shù)的微粗糙度為0.004-0.0075微米。
12.根據(jù)權(quán)利要求10-11任一項的元件對,其涂層包含按照ERDA的技術(shù)測量的含量為20+/-5%原子的氫。
13.根據(jù)權(quán)利要求10-12任一項的元件對,在氫化的無定形碳涂層之下包含至多一微米CrN的層。
14.根據(jù)權(quán)利要求10-12任一項的元件對,對于至少兩微米的膜來說,在從元件的表面開始的至多一微米上包含鎢摻雜。
15.根據(jù)權(quán)利要求10的元件對,其中對應(yīng)元件由銅合金制成。
16.根據(jù)權(quán)利要求10的元件對,其中對應(yīng)元件是鋁合金。
17.根據(jù)權(quán)利要求10的元件對,其中對應(yīng)元件由錫合金制成。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





