[發明專利]一種實現狀態探測的方法、裝置、計算機存儲介質及終端

有效

• 申請號: 202110796797.0
• 申請日: 2021-07-14
• 公開（公告）號: CN113449871B
• 公開（公告）日: 2022-09-02
• 發明（設計）人: 段路明;楊蒿翔
• 申請（專利權）人: 清華大學
• 主分類號: G06N10/00
• 分類號: G06N10/00;G06V10/764
• 代理公司: 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262
• 代理人: 李丹;栗若木

1.一種實現狀態探測的方法，包括：

通過第一探測激光照射第一量子比特陣列，獲得第一熒光；

將獲得的第一熒光與參數調整后的第二探測激光的光斑重合并生成干涉圖像；

對生成的干涉圖像基于預先獲得兩張以上特征圖像進行分析，以確定第一量子比特陣列中包含的量子比特的亮暗狀態；

其中，所述第一探測激光與所述第二探測激光為頻率相同、相位差為固定預設差值的兩束激光；所述熒光與所述光斑的光強和偏振相同；所述特征圖像包括：由僅包含一個量子比特為亮態的第二量子比特陣列生成的干涉圖像。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述對生成的干涉圖像基于預先獲得特征圖像進行分析之前，所述方法還包括：

每一次獲得一個僅制備其中一個量子比特為亮態的第二量子比特陣列；

對獲得的每一個所述第二量子比特陣列分別進行：將所述第一探測激光照射獲得的第二量子比特陣列上，獲得相應的第二熒光；將獲得的第二熒光與參數調整后的第二探測激光的光斑重合，并生成相應的所述特征圖像；

將生成的所有所述特征圖像確定為所述兩張以上特征圖像；

其中，獲得的各所述第二量子比特陣列中制備為亮態的量子比特互不相同；所述兩張以上特征圖像的張數與所述第二量子比特陣列中包含的量子比特個數相同。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述對生成的干涉圖像基于預先獲得特征圖像集合進行分析之前，所述方法還包括：

探測生成的所述干涉圖像。

4.根據權利要求1～3任一項所述的方法，其特征在于，所述對生成的干涉圖像基于預先獲得特征圖像集合進行分析，包括：

對所述干涉圖像基于預先獲得特征圖像集合進行貝葉斯分析，獲得所述第一量子比特陣列中包含的量子比特的亮暗狀態。

5.一種計算機存儲介質，所述計算機存儲介質中存儲有計算機程序，所述計算機程序被處理器執行時實現如權利要求1～4中任一項所述的實現狀態探測的方法。

6.一種終端，包括：存儲器和處理器，所述存儲器中保存有計算機程序；其中，

處理器被配置為執行存儲器中的計算機程序；

所述計算機程序被所述處理器執行時實現如權利要求1～4中任一項所述的實現狀態探測的方法。

7.一種實現狀態探測的裝置，包括：照射單元、重合單元和確定單元；其中，

照射單元設置為：通過第一探測激光照射第一量子比特陣列，獲得第一熒光；

重合單元設置為：將獲得的第一熒光與參數調整后的第二探測激光的光斑重合并生成干涉圖像；

確定單元設置為：對生成的干涉圖像基于預先獲得兩張以上特征圖像進行分析，以確定第一量子比特陣列中包含的量子比特的亮暗狀態；

其中，所述第一探測激光與所述第二探測激光為頻率相同、相位差為固定預設差值的兩束激光；所述熒光與所述光斑的光強和偏振相同；所述特征圖像包括：由僅包含一個量子比特為亮態的第二量子比特陣列生成的干涉圖像。

8.根據權利要求7所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括：制備單元、特征單元及處理單元；其中，

制備單元設置為：每一次獲得一個僅制備其中一個量子比特為亮態的第二量子比特陣列；

特征單元設置為：對獲得的每一個所述第二量子比特陣列分別進行：將所述第一探測激光照射獲得的第二量子比特陣列上，獲得相應的第二熒光；將獲得的第二熒光與參數調整后的第二探測激光的光斑重合，并生成相應的所述特征圖像；

處理單元設置為：將生成的所有所述特征圖像確定為所述兩張以上特征圖像；

其中，獲得的各所述第二量子比特陣列中制備為亮態的量子比特互不相同；所述兩張以上特征圖像的張數與所述第二量子比特陣列中包含的量子比特個數相同。

9.根據權利要求8所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括探測單元，設置為：

探測生成的所述干涉圖像。

10.根據權利要求7～9任一項所述的裝置，其特征在于，所述確定單元是設置為：

對所述干涉圖像基于預先獲得特征圖像集合進行貝葉斯分析，獲得所述第一量子比特陣列中包含的量子比特的亮暗狀態。