[發明專利]一種碟式分離機減摩方法

在審

• 申請號: 202110794524.2
• 申請日: 2021-07-14
• 公開（公告）號: CN113477417A
• 公開（公告）日: 2021-10-08
• 發明（設計）人: 李邦;楊山崗;趙奇峰;王聚平;潘晶晶;王金林;季梅蓮
• 申請（專利權）人: 南京中船綠洲機器有限公司
• 主分類號: B04B7/08
• 分類號: B04B7/08;B23P23/06
• 代理公司: 南京蘇科專利代理有限責任公司 32102
• 代理人: 姚姣陽

一種碟式分離機減摩方法，鍍層前處理：密封面為“E”面，“E”面與轉鼓蓋接觸，鍍硬鉻前后，不得對該表面造成凹凸缺陷；鍍層位置：鍍前部位“C”的表面粗糙度Ra≤0.80μm；鍍層表面：鍍層表面光滑，不存在對最后拋光狀態具有不良影響的缺陷，在電鍍后的拋光表面上無鉻瘤；鍍層厚度：鍍后拋光或無需拋光的鍍層厚度為0.08~0.1mm；鍍層粗糙度：鍍層拋光后表面粗糙度應達到Ra≤0.30μm；鍍層硬度：鍍層的顯微硬度值HV≥750。該方法通過在轉鼓的活塞內部排渣口邊緣鍍一層硬硬鉻，使排渣面耐磨又光滑，排渣干凈通暢，減低了能耗，延長了維修周期，提高了分離機連續運轉的可靠性。

技術領域

本發明屬于碟式分離機技術領域，具體涉及一種碟式分離機減摩方法。

背景技術

碟式分離機（以下簡稱分離機）是一種用于“液-固”、“液-液-固”分離凈化的精密設備。由于分離機分離出來的雜質及部分水形成的淤渣，在轉鼓內沿著內壁向上向外移動，并淤積在活塞近轉鼓蓋區域。當於渣累積到一定量時，會通過瞬間開啟的活塞與轉鼓蓋間隙向外噴出，從而達到排渣目的。

現有碟式分離機轉鼓內壁存在積渣堆積，堵住排渣口，維修拆卸困難，影響分離機的可靠性。

發明內容

本發明所要解決的技術問題是克服現有技術的不足，提供一種碟式分離機減摩方法，該方法可以使轉鼓與物料接觸面粗糙度大大降低，從而減少物料在分離機轉鼓中的淤積。避免量由于由于轉鼓積渣引起一次排渣量變少，排渣不暢，或完全堵住不排渣。

本發明提供一種碟式分離機減摩方法，鍍層前處理：密封面為“E”面，“E”面與轉鼓蓋接觸，鍍硬鉻前后，不得對該表面造成凹凸缺陷；

鍍層位置：鍍前部位“C”的表面粗糙度Ra≤0.80μm；

鍍層表面：鍍層表面光滑，不存在對最后拋光狀態具有不良影響的缺陷，在電鍍后的拋光表面上無鉻瘤；

鍍層厚度：鍍后拋光或無需拋光的鍍層厚度為0.08~0.1mm；

鍍層粗糙度：鍍層拋光后表面粗糙度應達到Ra≤0.30μm；

鍍層硬度：鍍層的顯微硬度值HV≥750。

作為本發明的進一步技術方案，在活塞未進行鍍硬鉻前，分離機需對“E”面及“C”面由于淤渣造成的磨損點蝕處進行修平、打磨及補焊，當補焊深度超過2mm或累計焊補次數超過三次時，則更換活塞。

進一步的，鍍層結合強度：鍍硬鉻層的結合強度根據“GB5270規定的陰級試驗”進行檢查，并要求30min覆蓋層不起泡。

進一步的，完成鍍硬鉻處理后，鍍層表面不能有鐵屑、處理液以及銹蝕，非鍍硬鉻表面同時進行臨時防銹處理。

本發明的優點在于，該方法通過在轉鼓的活塞內部排渣口邊緣鍍一層硬硬鉻，使排渣面耐磨又光滑，排渣干凈通暢，減低了能耗，延長了維修周期，提高了分離機連續運轉的可靠性。

附圖說明

圖1為本發明的活塞鍍層位置示意圖。

具體實施方式

請參閱圖1，本實施例提供一種碟式分離機減摩方法，鍍層前處理：密封面為“E”面，“E”面與轉鼓蓋接觸，鍍硬鉻前后，不得對該表面造成凹凸缺陷；

鍍層位置：鍍前部位“C”的表面粗糙度Ra≤0.80μm；

鍍層表面：鍍層表面光滑，不存在對最后拋光狀態具有不良影響的缺陷，在電鍍后的拋光表面上無鉻瘤；

鍍層厚度：鍍后拋光或無需拋光的鍍層厚度為0.08~0.1mm；

鍍層粗糙度：鍍層拋光后表面粗糙度應達到Ra≤0.30μm；

鍍層硬度：鍍層的顯微硬度值HV≥750。

在活塞未進行鍍硬鉻前，分離機需對“E”面及“C”面由于淤渣造成的磨損點蝕處進行修平、打磨及補焊，當補焊深度超過2mm或累計焊補次數超過三次時，則更換活塞。