[發明專利]一種席夫堿擴大共軛性的氮化碳傷口敷料及其制備方法

有效

• 申請號: 202110790619.7
• 申請日: 2021-07-13
• 公開（公告）號: CN113476644B
• 公開（公告）日: 2022-08-02
• 發明（設計）人: 劉虎;苗若巖;張良
• 申請（專利權）人: 西安建筑科技大學
• 主分類號: A61L26/00
• 分類號: A61L26/00;C01B21/082;B82Y40/00
• 代理公司: 西安通大專利代理有限責任公司 61200
• 代理人: 李紅霖

本發明公開了一種席夫堿擴大共軛性的氮化碳傷口敷料及其制備方法，制備過程包括：將三聚氰胺與乙二醛在無水乙醇中進行反應，之后分離回收反生成的沉淀物，將沉淀物進行干燥；將干燥后的沉淀物在500?600℃下充分反應，得到產物g?C_xN₄；將g?C_xN₄在500?600℃下充分反應，進行熱剝離，得到片狀g?C_xN₄；將片狀g?C_xN₄分散于去離子水中，得到g?C_xN₄分散液，然后向分散液中加入PVA，并使PVA完全溶解，然后加入硼酸溶液進行交聯，得到反應液A；待交聯完全后，向反應液A中加入NaCO₃溶液進行反應，反應結束后得到所述席夫堿擴大共軛性的氮化碳傷口敷料。本發明敷料具有高效的光催化效率，對可見光的吸收能力強，且克服了傳統光催化劑光生電子?空穴對復合、工業上難以量產等問題。

技術領域

本發明屬于皮膚傷口敷料技術領域，具體涉及一種席夫堿擴大共軛性的氮化碳傷口敷料及其制備方法。

背景技術

皮膚是人體重要的組成部分，是抵御外界污染及細菌感染的天然屏障，但在生活中，皮膚不可避免地會受到一定損傷，繼而受到細菌感染而引發一系列的疾病(如潰瘍、慢性傷口、皮膚病、身體各個部位的炎癥等)甚至死亡。傷口敷料作為預防和治療細菌感染的方法得到了人們的廣泛應用。一般而言，傷口敷料是通過將具有殺菌活性的物質(如天然抑菌劑、抗生素、金屬離子)附著在紗布、纖維素、水凝膠等材料表面，以達到殺菌消毒的效果，但這些具有殺菌活性的物質受到了成本、抗生素耐藥性、毒性、環境污染等方面的限制，因此迫切需要提出一種綠色、無毒、環保的策略來解決上述問題。

近年來，光催化技術廣泛應用于產氫、污染物的降解、二氧化碳的還原等。該技術利用光激發光催化劑分離光生電子-空穴，從而氧化周圍的水分子產生的大量ROS(即Reactive Oxygen Species活性氧)，產生的ROS可以侵入細胞內部破壞細菌細胞的DNA和RNA進而導致細菌死亡。大多數已經提出的光催化劑包括金屬類(如TiO₂、ZnO、Bi₂O₃、Cu₂O、MOFs、MoS₂、CdS)、非金屬類(如g-C₃N₄、CNTs、GO)，通常金屬類光催化劑只能在紫外區域起作用，且它們除了在工業化量產上有難度，還存在對人體細胞有毒的問題。非金屬類有機半導體g-C₃N₄近年來受到了人們的關注，廣泛的應用于光催化、水處理、食品消毒、殺菌等領域，但是g-C₃N₄的禁帶寬度約為2.7ev，存在光生電子-空穴對復合的固有問題。為了克服這一問題，通常用貴金屬作為助催化劑負載半導體進行電子轉移，這樣避免了光生電子-空穴對的復合^[18]。基于此，之前研究者們通過構建異質結的方法提高光生電子-空穴的分離效率，但絕大多數研究都是通過二元或三元組分來提高g-C₃N₄的光催化活性以達到殺菌消毒的目的，在沒有助催化劑或犧牲供體的情況下(即二元或三元)，無金屬光催化劑通常不能進行全面的水裂解從而生成活性氧，只有與金屬基助催化劑偶聯才能發揮良好的光催化性能。因此，在可見光照射下，在沒有助催化劑或犧牲供體的情況下，開發新的策略來促進g-C₃N₄的氧化還原活性，從而有效地提高光催化效率是十分必要的。

現有技術的缺陷和不足：傷口敷料是預防和治療傷口感染最快速有效的途徑。但現有的傷口敷料大多以抗生素、天然抑菌劑、金屬離子為抑菌劑。但隨著抗生素的廣泛使用，越來越多的細菌產生耐藥性，使抗生素的抑制效果下降；天然抑菌劑提取過程復雜，所需條件及方法較為嚴格，受到了成本的限制；金屬離子除了對宿主細胞有一定的副作用，還對環境有害。

發明內容