[發(fā)明專利]增材制造系統(tǒng)和方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110789550.6 | 申請日： | 2016-10-27 |
| 公開（公告）號： | CN113561478B | 公開（公告）日： | 2023-06-06 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 詹姆斯·A·德姆斯;海納·費斯;埃里克·圖姆爾;尤金·伯蒂切夫斯基;弗朗西斯·L·利爾德;庫羅什·卡姆沙德 | 申請（專利權(quán)）人： | 速爾特技術(shù)有限公司 |
| 主分類號： | B29C64/153 | 分類號： | B29C64/153;B29C64/268;B29C64/277;B29C64/20;B33Y10/00;B33Y30/00 |
| 代理公司： | 北京安信方達知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11262 | 代理人： | 湯慧華;楊明釗 |
| 地址： | 美國馬*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 制造 系統(tǒng) 方法 | ||
1.一種增材制造系統(tǒng)，包括：
第一激光器，所述第一激光器被配置為以第一波長發(fā)射第一光束；
第二激光器，所述第二激光器被配置為以不同于所述第一波長的第二波長發(fā)射第二光束；
射束成形光學器件，所述射束成形光學器件被配置為接收所述第一光束和所述第二光束并形成公共射束，所述射束成形光學器件包括至少一個波長濾波器，所述至少一個波長濾波器被配置為在所述公共射束中使所述第一波長的所述第一光束通過并且反射所述第二波長的所述第二光束；
光圖案化單元，所述光圖案化單元被配置為接收所述公共射束并形成二維圖案化射束；和
圖像中繼器，所述圖像中繼器被配置為接收所述二維圖案化射束并將其作為二維圖像朝向預定義位置聚焦；
其中，所述光圖案化單元還包括像素可尋址閥，所述像素可尋址閥被配置為在光的所述公共射束上施加圖案以提供光的所述二維圖案化射束。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的增材制造系統(tǒng)，其中，所述射束成形光學器件還包括透射光學器件。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的增材制造系統(tǒng)，其中，所述射束成形光學器件還包括反射光學器件。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的增材制造系統(tǒng)，其中，所述射束成形光學器件還包括衍射光學器件。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的增材制造系統(tǒng)，其中，所述射束成形光學器件還包括具有至少三種波長的三個以上的激光器，所述至少三種波長彼此不同，并且其中所述射束成形光學器件被配置為組合所述至少三種波長的光。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的增材制造系統(tǒng)，還包括：
多個透鏡組件，其包括可交換部分，所述透鏡組件被配置為提供多個放大率，所述放大率成比例地增加或減小入射光的圖像的尺寸；
機械組件，所述機械組件能夠選擇所述透鏡組件中的一個以提供所述放大率中的一個，以根據(jù)所述放大率中的所述一個將所述入射光的第一圖像轉(zhuǎn)換成所述入射光的第二圖像；
構(gòu)建平臺機架；和
最終射束調(diào)向設(shè)備，其安裝在所述構(gòu)建平臺機架上并且引導從所述透鏡組件發(fā)出的所述入射光，使得所述入射光的第二圖像在保持粉末化材料的粉末床的位置形成，所述粉末床由所述構(gòu)建平臺機架支撐。
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