[發(fā)明專利]研磨盤窗口蓋、研磨盤及研磨機(jī)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110787237.9 | 申請(qǐng)日: | 2021-07-12 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113319736B | 公開(公告)日: | 2022-06-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 田國軍;崔凱 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京爍科精微電子裝備有限公司 |
| 主分類號(hào): | B24B37/34 | 分類號(hào): | B24B37/34;B24B37/20;B24B37/04 |
| 代理公司: | 北京三聚陽光知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11250 | 代理人: | 王鍇 |
| 地址: | 100176 北京市大興區(qū)*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 研磨 窗口 研磨機(jī) | ||
本發(fā)明公開了一種研磨盤窗口蓋、研磨盤及研磨機(jī),其中,研磨盤窗口蓋包括窗口蓋本體和保護(hù)件;保護(hù)件設(shè)于窗口蓋本體上,以用于在研磨時(shí)與研磨墊接觸。本發(fā)明改進(jìn)了研磨盤窗口蓋的結(jié)構(gòu),解決了研磨盤窗口蓋容易被研磨墊粘下來的問題,保護(hù)了研磨盤窗口蓋,避免了多次重新安裝,也解決了因研磨盤窗口蓋安裝不到位而導(dǎo)致研磨墊磨平的問題。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及研磨機(jī)技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種研磨盤窗口蓋、研磨盤及研磨機(jī)。
背景技術(shù)
隨著5G的興起,它所具有的超高速率,超低延時(shí),超高密度等優(yōu)點(diǎn),使物聯(lián)網(wǎng),人工智能,無人駕駛等新興技術(shù)迅猛發(fā)展。這就要求生產(chǎn)5G技術(shù)的芯片具有高效率,低能耗等特點(diǎn)。隨著半導(dǎo)體芯片制造技術(shù)的發(fā)展,200mm及以上晶圓的化學(xué)機(jī)械平坦化工藝(ChemicalMechanical Planarization,簡稱CMP)在芯片生產(chǎn)中的作用和要求也就越來越高。這對(duì)CMP研磨機(jī)臺(tái)的性能要求也是越來越嚴(yán)格,包括效率、穩(wěn)定性、成本控制、機(jī)臺(tái)保養(yǎng)方便易行等參數(shù)。
目前研磨盤使用的材質(zhì)是不銹鋼材料,在表面開一個(gè)固定大小的窗口,將研磨盤窗口蓋蓋在研磨盤的窗口上。設(shè)置研磨盤窗口蓋的目的是保證研磨盤平整性,避免研磨液和水等液體漏到機(jī)臺(tái)內(nèi)部而造成機(jī)臺(tái)電路短路。在對(duì)晶圓進(jìn)行研磨時(shí),需要將研磨墊貼在研磨盤上,晶圓在研磨墊上進(jìn)行研磨。研磨墊長時(shí)間的進(jìn)行研磨,研磨墊的背膠會(huì)與研磨盤窗口連接緊密,當(dāng)?shù)竭_(dá)使用壽命而需要更換時(shí),研磨墊的背膠經(jīng)常將研磨盤窗口蓋粘下來,需要再次將窗口蓋裝回研磨盤,若安裝不到位,還會(huì)存在因凸起的窗口蓋而導(dǎo)致研磨墊磨平的風(fēng)險(xiǎn),影響晶圓的均勻度,降低了產(chǎn)品的良率。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的在于提供一種研磨盤窗口蓋、研磨盤及研磨機(jī),旨在避免研磨盤窗口蓋被研磨墊粘起的問題,避免多次重新安裝,解決因研磨盤窗口蓋安裝不到位而導(dǎo)致研磨墊磨平的問題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提出一種研磨盤窗口蓋,應(yīng)用于研磨機(jī),所述研磨盤窗口蓋包括:
窗口蓋本體;以及
保護(hù)件,設(shè)于所述窗口蓋本體上,以用于在研磨時(shí)與研磨墊接觸。
可選地,所述保護(hù)件由透明材質(zhì)制成。
可選地,所述保護(hù)件為涂布于所述窗口蓋本體上的PVC、PP或PC透明涂層。
可選地,所述保護(hù)件的厚度為0.0001um~5.00cm。
可選地,所述保護(hù)件包括多個(gè)第一子涂層,多個(gè)所述第一子涂層依次層疊涂布于所述窗口蓋本體上;或者
所述保護(hù)件包括多個(gè)貼合片,多個(gè)所述貼合片依次層疊粘貼于所述窗口蓋本體上。
可選地,在所述保護(hù)件為多個(gè)所述第一子涂層時(shí),各所述第一子涂層之間的粘合力小于所述保護(hù)件與所述窗口蓋本體之間的粘合力;或者
在所述保護(hù)件為多個(gè)所述貼合片時(shí),各所述貼合片之間的粘合力小于所述保護(hù)件與所述窗口蓋本體之間的粘合力。
可選地,所述保護(hù)件的耐壓壓力為0~15psi。
可選地,所述保護(hù)件的適應(yīng)溫度為0~70℃。
可選地,所述窗口蓋本體由透明材料制成。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明還提出一種研磨盤,所述研磨盤開設(shè)有信號(hào)窗口,所述信號(hào)窗口上蓋設(shè)有如上所述的研磨盤窗口蓋,所述研磨盤窗口蓋包括:
窗口蓋本體;以及
保護(hù)件,設(shè)于所述窗口蓋本體上,以用于在研磨時(shí)與研磨墊接觸。
可選地,所述研磨盤窗口蓋與所述信號(hào)窗口的周壁之間通過密封件密封連接。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明還提出一種研磨機(jī),所述研磨機(jī)包括如上所述的研磨盤。
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