[發(fā)明專利]輻照系統(tǒng)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110786851.3
• 申請(qǐng)日: 2021-07-12
• 公開（公告）號(hào): CN113470861A
• 公開（公告）日: 2021-10-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 崔愛軍;張立鋒;朱志斌;竇玉玲;劉保杰;秦成
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)原子能科學(xué)研究院
• 主分類號(hào): G21K5/00
• 分類號(hào): G21K5/00;G21K5/10;A61L2/08
• 代理公司: 北京市創(chuàng)世宏景專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11493
• 代理人: 劉向輝

1.一種輻照系統(tǒng)，其特征在于，包括：

輻照裝置(100)，用于形成輻照被輻照物的輻照區(qū)；

束下傳輸系統(tǒng)(200)，用于將所述被輻照物運(yùn)輸至所述輻照區(qū)；

輻照通道(300)，用于放置所述輻照裝置(100)和所述束下傳輸系統(tǒng)(200)；

屏蔽裝置(400)，設(shè)置于束下傳輸系統(tǒng)(200)的兩側(cè)及頂部，以屏蔽所述輻照裝置(100)產(chǎn)生的輻射射線；

其中，所述輻照通道(300)為回字型迷宮通道。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻照系統(tǒng)，其特征在于，所述屏蔽裝置(400)包括：

外層屏蔽體(410)，所述外層屏蔽體(410)安裝于所述束下傳輸系統(tǒng)(200)的四周和頂部，以屏蔽所述輻照裝置(100)產(chǎn)生的射線。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的輻照系統(tǒng)，其特征在于，

所述外層屏蔽體(410)包括依次連接的第一外層屏蔽體(411)、第二外層屏蔽體(412)、第三外層屏蔽體(413)、第四外層屏蔽體(414)和第五外層屏蔽體(415)，以圍成放置所述輻照系統(tǒng)的空間。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的輻照系統(tǒng)，其特征在于，

所述第一外層屏蔽體(411)與所述第二外層屏蔽體(412)垂直設(shè)置；

所述第二外層屏蔽體(412)與所述第三外層屏蔽體(413)垂直設(shè)置；

所述第三外層屏蔽體(413)與所述第四外層屏蔽體(414)垂直設(shè)置；

所述第四外層屏蔽體(414)與所述第五外層屏蔽體(415)垂直設(shè)置。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的輻照系統(tǒng)，其特征在于，

所述第二外層屏蔽體(412)與所述第四外層屏蔽體(414)位于所述第三外層屏蔽體(413)的同一側(cè)；

所述第一外層屏蔽體(411)與所述第三外層屏蔽體(413)位于所述第二外層屏蔽體(412)的同一側(cè)；

所述第三外層屏蔽體(413)與所述第五外層屏蔽體(415)位于所述第四外層屏蔽體(414)的同一側(cè)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的輻照系統(tǒng)，其特征在于，所述第二外層屏蔽體(412)的長(zhǎng)度與所述第四外層屏蔽體(414)的長(zhǎng)度相等。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的輻照系統(tǒng)，其特征在于，

所述第三外層屏蔽體(413)包括依次連接的第一外層模塊(4131)、第二外層模塊(4132)和第三外層模塊(4133)；

其中，所述第一外層模塊(4131)與所述第二外層那個(gè)屏蔽體連接；

所述第三外層模塊(4133)與所述第四外層屏蔽體(414)連接。

8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的輻照系統(tǒng)，其特征在于，所述外層屏蔽體(410)為“口”字型結(jié)構(gòu)。

9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的輻照系統(tǒng)，其特征在于，所述屏蔽裝置(400)還包括：

中層屏蔽體(420)，所述中層屏蔽體(420)安裝于所述外層屏蔽體(410)的內(nèi)部，以屏蔽所述輻照裝置(100)產(chǎn)生的射線。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的輻照系統(tǒng)，其特征在于，所述中層屏蔽體(420)包括依次連接的第一中層屏蔽體(421)、第二中層屏蔽體(422)和第三中層屏蔽體(423)。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的輻照系統(tǒng)，其特征在于，

自所述第二中層屏蔽體(422)向所述外層屏蔽體(410)延伸設(shè)置有隔斷屏蔽體(424)，所述隔斷屏蔽體(424)與所述第二中層屏蔽體(422)垂直。