[發(fā)明專(zhuān)利]一種頁(yè)巖CT圖像裁剪方法及系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110784450.4 | 申請(qǐng)日: | 2021-07-12 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113538460B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-04-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張珂;薛雷;陳竑然;許超;翟夢(mèng)陽(yáng);崔遠(yuǎn) | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院地質(zhì)與地球物理研究所 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G06T7/11 | 分類(lèi)號(hào): | G06T7/11;G06T7/155;G06T7/194 |
| 代理公司: | 北京高沃律師事務(wù)所 11569 | 代理人: | 王愛(ài)濤 |
| 地址: | 100029 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 頁(yè)巖 ct 圖像 裁剪 方法 系統(tǒng) | ||
本發(fā)明涉及一種頁(yè)巖CT圖像裁剪方法及系統(tǒng),先對(duì)頁(yè)巖樣品進(jìn)行CT掃描,得到多張切片圖像。然后利用矩形掩膜對(duì)每一切片圖像進(jìn)行粗剪,得到粗剪后圖像,再基于形態(tài)學(xué)閉合方法生成裁剪掩膜,并利用裁剪掩膜對(duì)每一粗剪后圖像進(jìn)行裁剪,得到裁剪后圖像,能夠?qū)⑽挥跇悠愤吔绲牧芽p斷點(diǎn)通過(guò)形態(tài)學(xué)閉合方法自動(dòng)連接為連續(xù)邊界,為后續(xù)形成裁剪掩膜省去人工連接時(shí)間。最后根據(jù)所有裁剪后圖像和所有切片圖像判斷是否需要繼續(xù)裁剪,當(dāng)不再需要繼續(xù)裁剪時(shí),即可得到與真實(shí)頁(yè)巖樣品形狀最近似的裁剪后圖像。本發(fā)明裁剪精準(zhǔn)度高,能夠保留更多位于樣品邊界的數(shù)據(jù),降低后續(xù)樣品分析的誤差。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及頁(yè)巖CT圖像處理技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種基于形態(tài)學(xué)閉合方法的頁(yè)巖CT圖像裁剪方法及系統(tǒng)。
背景技術(shù)
目前,在頁(yè)巖CT圖像裁剪方面多使用商業(yè)軟件,首先將某頁(yè)巖樣品的所有CT掃描圖像導(dǎo)入,組合成為三維圖像,然后以盡可能保證裁剪后圖像內(nèi)部不包含外圍背景值為原則,采用規(guī)則的圓柱狀或長(zhǎng)方體等形狀,對(duì)組合后的三維圖像進(jìn)行規(guī)則裁剪,最后導(dǎo)出可供下一步分析使用的圖件,或繼續(xù)在商業(yè)軟件中進(jìn)行下一步分析。
上述裁剪方法對(duì)于規(guī)則形狀的頁(yè)巖樣品裁剪具有較好效果,但對(duì)因壓裂形成裂縫而導(dǎo)致的形狀不規(guī)則、邊界不連續(xù)的頁(yè)巖樣品CT圖像進(jìn)行分析時(shí),由于裂縫的存在使得原本連續(xù)的邊界出現(xiàn)斷點(diǎn),造成頁(yè)巖邊界從原樣品的圓形變?yōu)椴灰?guī)則的形狀,此時(shí)若還使用規(guī)則形狀裁剪圖像,不可避免會(huì)犧牲掉邊界的一些細(xì)節(jié),并且由于每張切片邊界不同,采用同一形狀裁剪所被裁掉的樣品體積也不同,甚至可能會(huì)裁剪掉距離邊界非常接近的裂縫,容易導(dǎo)致圖像裁剪不夠精準(zhǔn),缺失部分樣品數(shù)據(jù),造成后續(xù)樣品分析誤差變高。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種頁(yè)巖CT圖像裁剪方法及系統(tǒng),利用形態(tài)學(xué)閉合方法形成裁剪掩膜對(duì)圖像進(jìn)行裁剪,裁剪精準(zhǔn)度高,能夠保留更多位于樣品邊界的數(shù)據(jù),降低后續(xù)樣品分析的誤差。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了如下方案:
一種頁(yè)巖CT圖像裁剪方法,所述裁剪方法包括:
對(duì)頁(yè)巖樣品進(jìn)行CT掃描,得到多張切片圖像;所述切片圖像包括樣品區(qū)域和背景;
對(duì)于每一所述切片圖像,利用矩形掩膜對(duì)所述切片圖像進(jìn)行粗剪,得到粗剪后圖像;
對(duì)于每一所述粗剪后圖像,基于形態(tài)學(xué)閉合方法生成裁剪掩膜,并利用所述裁剪掩膜對(duì)所述粗剪后圖像進(jìn)行裁剪,得到裁剪后圖像;
根據(jù)所有所述裁剪后圖像和所有所述切片圖像判斷是否需要繼續(xù)裁剪;
若是,則以所述裁剪后圖像作為下一循環(huán)中的粗剪后圖像,返回“對(duì)于每一所述粗剪后圖像,基于形態(tài)學(xué)閉合方法生成裁剪掩膜”的步驟。
本發(fā)明還用于提供一種頁(yè)巖CT圖像裁剪系統(tǒng),所述裁剪系統(tǒng)包括:
掃描模塊,用于對(duì)頁(yè)巖樣品進(jìn)行CT掃描,得到多張切片圖像;所述切片圖像包括樣品區(qū)域和背景;
粗剪模塊,用于對(duì)于每一所述切片圖像,利用矩形掩膜對(duì)所述切片圖像進(jìn)行粗剪,得到粗剪后圖像;
細(xì)剪模塊,用于對(duì)于每一所述粗剪后圖像,基于形態(tài)學(xué)閉合方法生成裁剪掩膜,并利用所述裁剪掩膜對(duì)所述粗剪后圖像進(jìn)行裁剪,得到裁剪后圖像;
判斷模塊,用于根據(jù)所有所述裁剪后圖像和所有所述切片圖像判斷是否需要繼續(xù)裁剪;
返回模塊,用于在若是時(shí),則以所述裁剪后圖像作為下一循環(huán)中的粗剪后圖像,返回“對(duì)于每一所述粗剪后圖像,基于形態(tài)學(xué)閉合方法生成裁剪掩膜”的步驟。
根據(jù)本發(fā)明提供的具體實(shí)施例,本發(fā)明公開(kāi)了以下技術(shù)效果:
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于中國(guó)科學(xué)院地質(zhì)與地球物理研究所,未經(jīng)中國(guó)科學(xué)院地質(zhì)與地球物理研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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