[發(fā)明專利]一種微陣列平板顯示器件在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110782242.0 | 申請日: | 2021-07-12 |
| 公開(公告)號: | CN113517166A | 公開(公告)日: | 2021-10-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 葛偉 | 申請(專利權(quán))人: | 葛偉 |
| 主分類號: | H01J31/12 | 分類號: | H01J31/12;H01J29/46;H01J29/02 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 518109 廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 陣列 平板 顯示 器件 | ||
本發(fā)明公開了一種微陣列平板顯示器件,其結(jié)構(gòu)包括微陣列顯示器主體、固定支架、操作面板,固定支架嵌固安裝在微陣列顯示器主體的頂部后側(cè),操作面板安裝在微陣列顯示器主體的前端右側(cè),發(fā)射體在陰極基板內(nèi)部安裝,使其與陰極基板接觸面積增大,接觸電阻減小,電子更均勻更大量地發(fā)射而形成電子束,并且與陰極基板的頂部邊緣不對準(zhǔn),使得電子束聚焦,且到達熒光層電子束的強度增加,提高整個圖像質(zhì)量,下柵極接入電壓,有效抑制陽極電壓引起的電子發(fā)射,且形成均勻電勢,防止柵極局部電弧放電形成漏電流而發(fā)散電子束,提高成像亮度,電子束通過貫穿孔,使得電子在熒光層底部聚焦,提高顯示器分辨率。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及平板顯示器件領(lǐng)域,更具體地說,尤其是涉及到一種微陣列平板顯示器件。
背景技術(shù)
微陣列平板顯示器將電信號形式的信息改變成圖像并將該圖像提供給使用者來運行,從顯示器的結(jié)構(gòu)和工作方式來看,它實際上是一種以微尖發(fā)射陣列為陰極的平板,具有主動發(fā)光、無圖像畸變、寬視角、快速響應(yīng)、環(huán)境適應(yīng)性強等特點,但是微尖陣列發(fā)射體和陰極之間的接觸面積小,會導(dǎo)致接觸電阻增加,干擾電子發(fā)射,此外當(dāng)發(fā)射體形成在陰極上時,發(fā)射體的配置不均勻,使得電子發(fā)射出現(xiàn)在部分區(qū)域中,當(dāng)所發(fā)射的電子束到達陽極時,該所發(fā)射的電子束大大地發(fā)散,這些現(xiàn)象會劣化微陣列顯示器件的特性,使得發(fā)射不容易受控,導(dǎo)致成像的顏色純度和整個圖像質(zhì)量退化,并且微陣列顯示器件的微陣列發(fā)射體的碳納米管或碳納米纖維,通過形成在絕緣體上的大的柵極開口而暴露,使得發(fā)射的電子常常流入到微陣列發(fā)射柵極中從而成為漏電流,引起電子發(fā)射和電子束發(fā)散,從而導(dǎo)致成像亮度和整個圖像質(zhì)量降低。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明實現(xiàn)技術(shù)目的所采用的技術(shù)方案是:該一種微陣列平板顯示器件,其結(jié)構(gòu)包括微陣列顯示器主體、外殼、固定支架、散熱槽、急停按鈕、操作面板,所述外殼安裝在微陣列顯示器主體的外側(cè),所述固定支架嵌固安裝在微陣列顯示器主體的頂部后側(cè),所述微陣列顯示器主體的頂部設(shè)有散熱槽,所述操作面板安裝在微陣列顯示器主體的前端右側(cè),所述操作面板的頂部設(shè)有急停按鈕,所述微陣列顯示器主體包括平板顯示屏、密封板、真空腔、微陣列裝置、底板,所述平板顯示屏安裝在密封板的前端,所述微陣列裝置嵌固安裝在真空腔的內(nèi)部,所述底板與真空腔的后端嵌固連接,所述密封板嵌固安裝在真空腔的前端,所述真空腔的外側(cè)與外殼嵌固連接,并且底板的后端與外殼相連接。
作為本發(fā)明的進一步改進,所述微陣列裝置包括陽極基板、熒光層、支撐裝置、柵極結(jié)構(gòu)、發(fā)射裝置、陰極基板,所述陽極基板的底部設(shè)有熒光層,所述支撐裝置的一端安裝在柵極結(jié)構(gòu)的頂部,并且支撐裝置的另一端與陽極基板的底部相連接,所述柵極結(jié)構(gòu)嵌固安裝在陰極基板的頂部,所述陰極基板的頂端內(nèi)部設(shè)有發(fā)射裝置,所述陽極基板的頂端與密封板的后端相連接,所述底板的前端與陰極基板的底端相連接,所述陽極基板與陰極基板材質(zhì)均為玻璃,絕緣性好,所述支撐裝置在陽極基板與柵極結(jié)構(gòu)之間安裝,所述發(fā)射裝置在陰極基板頂側(cè)內(nèi)部均勻設(shè)有九個。
作為本發(fā)明的進一步改進,所述支撐裝置包括支撐板、孔隙、支撐柱、彈簧,所述支撐板的底部設(shè)有孔隙,所述支撐柱嵌固安裝在支撐板的兩側(cè)內(nèi)部,所述彈簧在支撐柱的頂側(cè)和底側(cè)的外部間隙配合,所述支撐柱的底端在柵極結(jié)構(gòu)的頂側(cè)內(nèi)部滑動連接,并且支撐柱的頂端與陽極基板的底部相連接,所述支撐柱在左右兩端各設(shè)有一個,所述支撐板位于陽極基板與柵極結(jié)構(gòu)之間,并且支撐板的材質(zhì)為陶瓷,絕緣性好、硬度大,所述孔隙設(shè)為開口寬、進口窄的倒梯形形狀。
作為本發(fā)明的進一步改進,所述發(fā)射裝置包括固定槽、發(fā)射體、發(fā)射極,所述陰極基板的頂部設(shè)有固定槽,所述發(fā)射體的左右兩側(cè)與固定槽的內(nèi)部兩端嵌固連接,所述發(fā)射體的頂部安裝有發(fā)射極,所述發(fā)射體在陰極基板頂側(cè)內(nèi)部均勻設(shè)有九個,所述發(fā)射體與發(fā)射極材質(zhì)均為碳納米管,并且發(fā)射體安裝在固定槽的內(nèi)部,所述發(fā)射體底部與固定槽之間設(shè)有間隙。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于葛偉,未經(jīng)葛偉許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110782242.0/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





