[發明專利]一種金屬支架拋光設備及工藝在審
| 申請號: | 202110778992.0 | 申請日: | 2021-07-09 |
| 公開(公告)號: | CN113481584A | 公開(公告)日: | 2021-10-08 |
| 發明(設計)人: | 趙杰;顧怡;吳健平;李志剛;王國輝 | 申請(專利權)人: | 上海心瑋醫療科技股份有限公司 |
| 主分類號: | C25F3/16 | 分類號: | C25F3/16;C25F7/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 200120 上海市浦東新區中國(上海)自*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 金屬支架 拋光 設備 工藝 | ||
1.一種金屬支架拋光設備,其特征在于,包括:
電控系統;
電解槽,其內有拋光液;
拋光機構,用以夾持金屬支架于所述電解槽內進行電解拋光處理,其中,所述電控系統用以控制所述拋光處理中的電解拋光參數,所述電解拋光參數包括,拋光液溫度,金屬支架電解拋光的電壓和電流大小,以及電解拋光工作模式。
2.根據權利要求1所述的金屬支架拋光設備,其特征在于,所述電控系統包括一制冷系統,所述制冷系統包括冷卻槽、循環管、溫度顯示器;
所述冷卻槽可通過調節制冷液溫度進而控制所述電解槽內的所述拋光液達到所述金屬支架所需的拋光溫度;
所述循環管用于輸送制冷液至所述冷卻槽及輸出制冷液;
所述溫度顯示器用于實時監控所述拋光液的溫度。
3.根據權利要求1所述的金屬支架拋光設備,其特征在于,所述電控系統包括一脈沖電源系統,所述脈沖電源系統用以控制所述金屬支架的電解拋光的電壓和電流大小。
4.根據權利要求1所述的金屬支架拋光設備,其特征在于,所述電控系統包括一參數控制系統,所述參數控制系統用以對所述拋光機構進行位移調節、對所述金屬支架進行拋光時間及拋光速度、電流模式以及所述拋光工作模式進行調節。
5.根據權利要求1所述的金屬支架拋光設備,其特征在于,所述拋光機構用以在所述電控系統的控制下進行移動,所述拋光機構包括,懸臂及夾持工裝,所述懸臂用于懸掛所述夾持工裝,所述夾持工裝用以夾持所述金屬支架。
6.根據權利要求1所述的金屬支架拋光設備,其特征在于,所述夾持工裝為夾子、彈簧、芯軸中的任意一個。
7.根據權利要求1所述的金屬支架拋光設備,其特征在于,還包括一攪拌器,所述攪拌器與所述電解槽配合,用以對所述電解槽內的所述拋光液進行攪拌。
8.根據權利要求7所述的金屬支架拋光設備,其特征在于,所述攪拌器為磁力攪拌機或者機械攪拌機。
9.根據權利要求1所述的金屬支架拋光設備,其特征在于,所述電解槽為單槽或雙槽或三槽。
10.一種金屬支架拋光方法,其特征在于,包括以下步驟:
將金屬支架放置于一有拋光液的電解槽中;
控制電解拋光參數對所述金屬支架進行電解拋光處理,其中,所述電解拋光參數包括,拋光液溫度,金屬支架電解拋光的電壓和電流大小,以及電解拋光工作模式。
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