[發(fā)明專利]檢查系統(tǒng)及方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110777904.5 | 申請(qǐng)日: | 2021-07-09 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113238298B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-03-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉必成;王偉珍;宗春光;孫尚民 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 同方威視技術(shù)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01V11/00 | 分類號(hào): | G01V11/00 |
| 代理公司: | 中國(guó)貿(mào)促會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038 | 代理人: | 顏鏑 |
| 地址: | 100084 北京*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 檢查 系統(tǒng) 方法 | ||
1.一種檢查系統(tǒng),包括:
射線源(10),被配置為產(chǎn)生多種具有不同能量的射線;
探測(cè)器(30),被配置為檢測(cè)所述射線源(10)發(fā)出的射線作用在被檢對(duì)象(40)的至少一個(gè)截面時(shí)的信號(hào);和
處理器(20),與所述射線源(10)通訊連接,被配置為根據(jù)表征所述被檢對(duì)象(40)的至少一個(gè)截面的物質(zhì)參數(shù)的信息調(diào)整所述射線源(10)發(fā)出的射線的能量,
其中,所述射線源(10)包括:
電子束產(chǎn)生裝置(12),被配置為產(chǎn)生多個(gè)電子束;
微波產(chǎn)生裝置(14),被配置為產(chǎn)生微波;
微波環(huán)行器(15),具有功率輸入口和至少兩個(gè)功率輸出口,所述功率輸入口通過(guò)波導(dǎo)結(jié)構(gòu)與所述微波產(chǎn)生裝置(14)連接;
多個(gè)加速管(13),與所述電子束產(chǎn)生裝置(12)連接,并分別與所述至少兩個(gè)功率輸出口連接,被配置為分別接收所述電子束產(chǎn)生裝置(12)產(chǎn)生的多個(gè)電子束,并通過(guò)從所述至少兩個(gè)功率輸出口接收的微波分別對(duì)所述多個(gè)電子束進(jìn)行加速,以便分別產(chǎn)生多條具有不同能量的射線;和
控制器(11),與所述處理器(20)、所述電子束產(chǎn)生裝置(12)和所述微波產(chǎn)生裝置(14)信號(hào)連接,被配置為根據(jù)所述處理器(20)的指令,對(duì)所述微波產(chǎn)生裝置(14)的微波功率進(jìn)行時(shí)序控制,以及對(duì)所述電子束產(chǎn)生裝置(12)產(chǎn)生的分別對(duì)應(yīng)于所述多個(gè)加速管(13)的電子束的束流負(fù)載進(jìn)行時(shí)序控制。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢查系統(tǒng),其中,所述射線源(10)被配置為根據(jù)所述處理器(20)的指令選擇性地產(chǎn)生具有第一能量的第一射線脈沖、具有第二能量的第二射線脈沖或具有第三能量的第三射線脈沖,所述第一能量小于所述第二能量,所述第二能量小于所述第三能量。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的檢查系統(tǒng),其中,所述第一能量小于1MeV,所述第二能量和所述第三能量均大于1MeV。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一所述的檢查系統(tǒng),其中,所述處理器(20)與所述探測(cè)器(30)通訊連接,被配置為根據(jù)所述探測(cè)器(30)的探測(cè)結(jié)果確定表征所述被檢對(duì)象(40)的至少一個(gè)截面的物質(zhì)參數(shù)的信息。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的檢查系統(tǒng),其中,表征所述被檢對(duì)象(40)的至少一個(gè)截面的物質(zhì)參數(shù)的信息包括射線穿過(guò)所述被檢對(duì)象(40)且被所述探測(cè)器(30)探測(cè)到的衰減的一列信號(hào)的強(qiáng)度,或根據(jù)該列信號(hào)形成的探測(cè)圖像的灰度值。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的檢查系統(tǒng),其中,所述處理器(20)被配置為:
使所述射線源(10)通過(guò)射線脈沖對(duì)所述被檢對(duì)象(40)的多個(gè)截面依次進(jìn)行掃描,并根據(jù)所述探測(cè)器(30)的檢測(cè)信號(hào)確定表征所述被檢對(duì)象(40)的至少一個(gè)截面的物質(zhì)參數(shù)的信息;
如果根據(jù)所述信息確定所述被檢對(duì)象(40)被掃描的當(dāng)前截面的物質(zhì)參數(shù)與所述射線源(10)當(dāng)前發(fā)出的射線脈沖的穿透能力匹配,則使所述射線源(10)以當(dāng)前發(fā)出的射線脈沖繼續(xù)掃描;
如果根據(jù)所述信息確定所述被檢對(duì)象(40)被掃描的當(dāng)前截面的物質(zhì)參數(shù)超出與所述射線源(10)當(dāng)前發(fā)出的射線脈沖的穿透能力匹配的物質(zhì)參數(shù),則使所述射線源(10)發(fā)出具有更高能量的射線脈沖繼續(xù)掃描;
如果根據(jù)所述信息確定所述被檢對(duì)象(40)被掃描的當(dāng)前截面的物質(zhì)參數(shù)不足于與所述射線源(10)當(dāng)前發(fā)出的射線脈沖的穿透能力匹配的物質(zhì)參數(shù),則使所述射線源(10)發(fā)出具有更低能量的射線脈沖繼續(xù)掃描。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的檢查系統(tǒng),其中,所述處理器(20)被配置為:
使所述射線源(10)通過(guò)射線脈沖對(duì)所述被檢對(duì)象(40)的多個(gè)截面依次進(jìn)行掃描,并根據(jù)所述探測(cè)器(30)的檢測(cè)信號(hào)確定表征所述被檢對(duì)象(40)的至少一個(gè)截面的物質(zhì)參數(shù)的信息;
如果根據(jù)所述信息確定所述被檢對(duì)象(40)被掃描的當(dāng)前截面的物質(zhì)參數(shù)不足于與所述射線源(10)當(dāng)前發(fā)出的射線脈沖的穿透能力匹配的物質(zhì)參數(shù),則使所述射線源(10)發(fā)出具有最低能量的射線脈沖繼續(xù)掃描。
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