[發明專利]圖像傳感器、制備方法、成像方法及電子設備

在審

• 申請號: 202110775613.2
• 申請日: 2021-07-08
• 公開（公告）號: CN115604592A
• 公開（公告）日: 2023-01-13
• 發明（設計）人: 譚炳輝;石文杰;王婉晴
• 申請（專利權）人: 思特威（上海）電子科技股份有限公司
• 主分類號: H04N25/57
• 分類號: H04N25/57;H04N25/60;H04N25/76;H04N23/70;H01L27/146
• 代理公司: 上海漢聲知識產權代理有限公司 31236
• 代理人: 胡晶

1.一種圖像傳感器，其特征在于，所述圖像傳感器包括：

第一類像素，所述第一類像素包括第一感光區；

第二類像素，所述第二類像素包括第二感光區，且所述第一類像素與所述第二類像素之間具有間隔區；以及

調制功能層，至少包括遮光部，所述遮光部位于所述第一類像素上以遮擋入射光；

基于所述調制功能層，入射光進入所述第二類像素對應的區域并產生衍生光，所述衍生光至少經由所述間隔區進入所述第一類像素，其中，所述第一感光區接收所述衍生光以產生第一信號，所述第二感光區接收所述入射光以產生第二信號，且同一所述第一類像素對應的各所述第二類像素響應于同種類型的光信號。

2.根據權利要求1所述的圖像傳感器，其特征在于，所述第一類像素的側面由若干個入光表面構成，所述衍生光經由所述入光表面進入所述第一類像素的所述第一感光區，其中，各所述入光表面與所述第二類像素或其他所述第一類像素一一對應。

3.根據權利要求2所述的圖像傳感器，其特征在于，所述第二類像素為所述第一類像素的最近鄰像素，且至少同一所述第一類像素對應的各所述第二類像素覆蓋同一種濾色器，以使得各所述第二類像素響應同種類型的光信號。

4.根據權利要求1所述的圖像傳感器，其特征在于，所述圖像傳感器還包括第三類像素，所述第三類像素與所述第一類像素之間的對應面積小于所述第二類像素與所述第一類像素之間的對應面積的1/10，或者，所述第三類像素與所述第一類像素之間間隔設置。

5.根據權利要求1所述的圖像傳感器，其特征在于，所述圖像傳感器包括若干個像素單元，每一所述像素單元包括若干個所述像素子單元，其中，每一所述像素子單元包括至少一個所述第一類像素及至少一個所述第二類像素。

6.根據權利要求5所述的圖像傳感器，其特征在于，所述圖像傳感器還包括若干個濾色單元層，所述濾色單元層與所述像素子單元一一對應，其中，所述濾色單元層位于所述第二類像素上或者同時覆蓋所述第一類像素及所述第二類像素上，所述像素單元基于與各所述像素子單元對應的濾色單元層獲取對應類型的光信號，以獲取對應的圖像信號。

7.根據權利要求6所述的圖像傳感器，其特征在于，所述像素單元至少包括響應紅光的第一像素子單元、響應綠光的第二像素子單元及響應藍光的第三像素子單元，且各像素子單元分別對應包括第一遮光部、第二遮光部、第三遮光部，且所述像素單元中不同所述像素子單元的所述第一類像素的尺寸相同，其中，所述第一遮光部的尺寸大于所述第二遮光部的尺寸大于所述第三遮光部的尺寸，或者，不同所述像素子單元對應的遮光部的尺寸相同，且所述遮光部的尺寸大于、小于或等于對應的所述第一類像素的尺寸。

8.根據權利要求7所述的圖像傳感器，其特征在于，所述第二遮光部的尺寸與對應的所述第一類像素的尺寸相同，所述第一遮光部的尺寸不大于所述第二遮光部尺寸的120％，所述第三遮光部的尺寸不小于所述第二遮光部尺寸的70％。

9.根據權利要求5所述的圖像傳感器，其特征在于，所述像素子單元中像素的排布方式包括：所述像素子單元包括中心區及環繞所述中心區的外圍區，所述第一類像素位于所述中心區，所述第二類像素至少位于所述外圍區；或者，所述像素子單元包括邊緣區，所述第一類像素位于所述邊緣區，且位于所述邊緣區的第一類像素具有顯露的入光接觸部，所述入光接觸部與相鄰像素子單元位于所述邊緣區的第一類像素相接觸。

10.根據權利要求9所述的圖像傳感器，其特征在于，所述像素單元包括四個所述像素子單元，所述像素子單元的排布方式包括：所述像素子單元的像素構成3×3結構，所述第一類像素位于中心，所述第二類像素位于四周；或者，所述像素子單元的像素構成2×2結構，所述第一類像素位于一角部，所述第二類像素位于其余位置；或者，所像素子單元的像素構成改進2×2結構，所述第一類像素位于中心且具有四個受光側面，四個所述第二類像素位于所述第一類像素的周圍且與四個所述受光側面一一對應。