[發(fā)明專利]井上采坑的回填方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110772911.6 | 申請(qǐng)日: | 2021-07-08 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113494311A | 公開(公告)日: | 2021-10-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 白國良;李鳳明;桑盛;丁鑫品;王勇;李曉俊;韓科明;門雷雷 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中煤科工集團(tuán)北京土地整治與生態(tài)修復(fù)科技研究院有限公司;中煤科工生態(tài)環(huán)境科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | E21F15/00 | 分類號(hào): | E21F15/00 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 曲進(jìn)華 |
| 地址: | 102209 北京市昌平區(qū)未來*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 井上采坑 回填 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種井上采坑的回填方法,所述井上采坑的回填方法包括:將井巷的外周區(qū)域劃分成對(duì)稱的第一回填區(qū)和第二回填區(qū),以及對(duì)稱的第三回填區(qū)和第四回填區(qū);對(duì)所述第一回填區(qū)和所述第二回填區(qū)同時(shí)回填;對(duì)所述第三回填區(qū)和所述第四回填區(qū)同時(shí)回填。本發(fā)明的井上采坑的回填方法可以避免施工過程中產(chǎn)生不均勻應(yīng)力、偏應(yīng)力和應(yīng)力集中等問題,以保證井巷受到的應(yīng)力相對(duì)平衡,從而提高巷道的穩(wěn)定性。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及礦山回填技術(shù)領(lǐng)域,尤其是涉及一種井上采坑的回填方法。
背景技術(shù)
在礦山開采中為了保護(hù)開采環(huán)境,防止采空區(qū)過大造成地勢(shì)下陷,同時(shí)為了保證新的開采工作區(qū)的安全,對(duì)采空區(qū)回填是必不可少的重要工程,相關(guān)技術(shù)提出了采坑回填方法對(duì)巷道四周的采空區(qū)進(jìn)行填充,但是相關(guān)技術(shù)中的采坑回填方法產(chǎn)生的附加應(yīng)力,會(huì)破壞巷道的初始平衡狀態(tài),導(dǎo)致巷道失穩(wěn)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明旨在至少在一定程度解決相關(guān)技術(shù)中的技術(shù)問題之一。為此,本發(fā)明的實(shí)施例提出一種井上采坑的回填方法,所述井上采坑的回填方法可以避免施工過程中產(chǎn)生不均勻應(yīng)力、偏應(yīng)力和應(yīng)力集中等問題,以保證井巷受到的應(yīng)力相對(duì)平衡,從而提高巷道的穩(wěn)定性。
根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的井上采坑的回填方法包括:將井巷的外周區(qū)域劃分成對(duì)稱的第一回填區(qū)和第二回填區(qū),以及對(duì)稱的第三回填區(qū)和第四回填區(qū);對(duì)所述第一回填區(qū)和所述第二回填區(qū)同時(shí)回填;對(duì)所述第三回填區(qū)和所述第四回填區(qū)同時(shí)回填。
根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的井上采坑的回填方法,通過將井巷的外周區(qū)域劃分成對(duì)稱的第一回填區(qū)和第二回填區(qū),以及對(duì)稱的第三回填區(qū)和第四回填區(qū),并同時(shí)對(duì)第一回填區(qū)和第二回填區(qū)回填,同時(shí)對(duì)第三回填區(qū)和第四回填區(qū)回填,可以避免施工過程中產(chǎn)生不均勻應(yīng)力、偏應(yīng)力和應(yīng)力集中等問題,以保證井巷受到的應(yīng)力相對(duì)平衡,從而提高巷道的穩(wěn)定性。
在一些實(shí)施例中,所述井上采坑的回填方法還包括:在所述第一回填區(qū)內(nèi)逐層回填以構(gòu)成多個(gè)第一回填層;在所述第二回填區(qū)內(nèi)逐層回填以構(gòu)成多個(gè)第二回填層,多個(gè)所述第二回填層與多個(gè)所述第一回填層相對(duì)應(yīng)。
在一些實(shí)施例中,所述井上采坑的回填方法還包括:所述第一回填層與對(duì)應(yīng)的所述第二回填層同步填充。
在一些實(shí)施例中,所述井上采坑的回填方法還包括:在所述第三回填區(qū)內(nèi)逐層回填以構(gòu)成多個(gè)第三回填層;在所述第四回填區(qū)內(nèi)逐層回填以構(gòu)成多個(gè)第四回填層,多個(gè)所述第四回填層與多個(gè)所述第三回填層相對(duì)應(yīng)。
在一些實(shí)施例中,所述井上采坑的回填方法還包括:所述第三回填層與對(duì)應(yīng)的所述第四回填層同步填充。
在一些實(shí)施例中,所述井上采坑的回填方法還包括:在對(duì)所述第一回填區(qū)、所述第二回填區(qū)、所述第三回填區(qū)和所述第四回填區(qū)回填的過程中,先采用較緩的邊坡角度進(jìn)行推進(jìn)覆蓋,形成邊坡平緩的基礎(chǔ)填充體。
在一些實(shí)施例中,所述井上采坑的回填方法還包括:在所述基礎(chǔ)填充體上繼續(xù)填充以形成邊坡陡峭的完整填充體。
附圖說明
圖1是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的井上采坑的回填方法的填充區(qū)域劃分示意圖。
圖2是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的井上采坑的回填方法的回填方向示意圖。
附圖標(biāo)記:
第一回填區(qū)1,第二回填區(qū)2,第三回填區(qū)3,第四回填區(qū)4,井巷5。
具體實(shí)施方式
下面詳細(xì)描述本發(fā)明的實(shí)施例,所述實(shí)施例的示例在附圖中示出。下面通過參考附圖描述的實(shí)施例是示例性的,旨在用于解釋本發(fā)明,而不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。
如圖1和圖2所示,根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的井上采坑的回填方法包括:將井巷5的外周區(qū)域劃分成對(duì)稱的第一回填區(qū)1和第二回填區(qū)2,以及對(duì)稱的第三回填區(qū)3和第四回填區(qū)4,然后對(duì)第一回填區(qū)1和第二回填區(qū)2同時(shí)回填,對(duì)第三回填區(qū)3和第四回填區(qū)4同時(shí)回填。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中煤科工集團(tuán)北京土地整治與生態(tài)修復(fù)科技研究院有限公司;中煤科工生態(tài)環(huán)境科技有限公司,未經(jīng)中煤科工集團(tuán)北京土地整治與生態(tài)修復(fù)科技研究院有限公司;中煤科工生態(tài)環(huán)境科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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