[發(fā)明專利]一種提高OVD沉積效率的裝置及方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110772121.8 | 申請日： | 2021-07-08 |
| 公開（公告）號： | CN113213753B | 公開（公告）日： | 2021-09-21 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 趙輝 | 申請（專利權(quán)）人： | 藤倉烽火光電材料科技有限公司 |
| 主分類號： | C03B37/014 | 分類號： | C03B37/014 |
| 代理公司： | 武漢智權(quán)專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 42225 | 代理人： | 何偉 |
| 地址： | 430205 湖北省武漢*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 提高 ovd 沉積 效率 裝置 方法 | ||
1.一種提高OVD沉積效率的裝置，其特征在于，包括：
至少一反應(yīng)噴燈（1），其可沿光纖預(yù)制棒（2）的軸向移動，所述反應(yīng)噴燈（1）用于噴出反應(yīng)火焰至所述光纖預(yù)制棒（2）；
導(dǎo)流裝置（3），其設(shè)于所述反應(yīng)噴燈（1）的外側(cè)，用于將所述反應(yīng)火焰向所述光纖預(yù)制棒（2）的軸向方向壓縮導(dǎo)流；
所述導(dǎo)流裝置（3）包括兩個導(dǎo)流氣管（31），其分別設(shè)于所述反應(yīng)噴燈（1）的兩側(cè)，并位于所述光纖預(yù)制棒（2）的兩側(cè)，所述導(dǎo)流氣管（31）用于噴出導(dǎo)流氣體來壓縮導(dǎo)流所述反應(yīng)火焰，使其向所述光纖預(yù)制棒（2）的軸向方向延伸。
2.如權(quán)利要求1所述的提高OVD沉積效率的裝置，其特征在于，還包括外徑測量儀（4）和控制單元（5），所述外徑測量儀（4）用于實時測量所述光纖預(yù)制棒（2）的直徑，所述控制單元（5）用于根據(jù)所述外徑測量儀（4）的直徑檢測信號，調(diào)整所述導(dǎo)流氣管（31）噴出導(dǎo)流氣體的方向以始終噴向預(yù)設(shè)位置。
3.如權(quán)利要求2所述的提高OVD沉積效率的裝置，其特征在于，所述反應(yīng)噴燈（1）與光纖預(yù)制棒（2）的軸線方向相互垂直，所述預(yù)設(shè)位置為所述反應(yīng)噴燈（1）與光纖預(yù)制棒（2）的軸線所在平面平移后與所述光纖預(yù)制棒（2）的切線。
4.如權(quán)利要求1至3任一項所述的提高OVD沉積效率的裝置，其特征在于，所述導(dǎo)流氣管（31）的噴嘴（32）均為扁平狀，用于將所述導(dǎo)流氣體沿所述光纖預(yù)制棒（2）軸線平行的平面呈扁平狀噴出。
5.如權(quán)利要求2所述的提高OVD沉積效率的裝置，其特征在于，還包括偏轉(zhuǎn)機構(gòu)（7），其與所述控制單元（5）信號連接，用于根據(jù)接收所述控制單元（5）的控制信號，調(diào)整所述導(dǎo)流氣管（31）噴出的導(dǎo)流氣體始終噴向預(yù)設(shè)位置。
6.如權(quán)利要求2所述的提高OVD沉積效率的裝置，其特征在于，還包括反應(yīng)容器（6），其套設(shè)在所述光纖預(yù)制棒（2）外側(cè)，所述反應(yīng)容器（6）包括進口側(cè)和與進口側(cè)相對設(shè)置的出口側(cè)，所述反應(yīng)噴燈（1）設(shè)在進口側(cè)，所述外徑測量儀（4）設(shè)在所述反應(yīng)容器（6）的側(cè)壁上。
7.一種提高OVD沉積效率的方法，其特征在于，包括以下步驟：
使反應(yīng)噴燈（1）沿光纖預(yù)制棒（2）的軸向移動，并使其噴出的反應(yīng)火焰至所述光纖預(yù)制棒（2）上；
同時利用導(dǎo)流裝置（3）的兩個導(dǎo)流氣管（31）噴出導(dǎo)流氣體來壓縮導(dǎo)流所述反應(yīng)火焰，使其向所述光纖預(yù)制棒（2）的軸向方向延伸，其中，兩個導(dǎo)流氣管（31）分別設(shè)于所述反應(yīng)噴燈（1）兩側(cè)，并位于所述光纖預(yù)制棒（2）兩側(cè)。
8.如權(quán)利要求7所述的提高OVD沉積效率的方法，其特征在于，所述的利用導(dǎo)流裝置（3）的兩個導(dǎo)流氣管（31）噴出導(dǎo)流氣體來壓縮導(dǎo)流所述反應(yīng)火焰，使其向所述光纖預(yù)制棒（2）的軸向方向延伸，具體包括：
導(dǎo)流氣體沿所述光纖預(yù)制棒（2）軸線平行的平面呈扁平狀噴出，并根據(jù)所述光纖預(yù)制棒（2）的直徑調(diào)整角度，使所述導(dǎo)流氣體始終噴向預(yù)設(shè)位置，所述預(yù)設(shè)位置為所述反應(yīng)噴燈（1）與光纖預(yù)制棒（2）的軸線所在平面平移后與所述光纖預(yù)制棒（2）的切線。
9.如權(quán)利要求8所述的提高OVD沉積效率的方法，其特征在于，所述導(dǎo)流氣體的流量隨所述光纖預(yù)制棒（2）的直徑實時調(diào)整。
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