[發(fā)明專利]光電保護(hù)膜生產(chǎn)線及防靜電偏光片光電保護(hù)膜在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110772075.1 | 申請(qǐng)日: | 2021-07-08 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113552665A | 公開(公告)日: | 2021-10-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 費(fèi)志豪;賈良久 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 蕪湖夏鑫新型材料科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02B5/30 | 分類號(hào): | G02B5/30;G02B1/16;G02B1/14;B01F15/02;B01F13/06 |
| 代理公司: | 蕪湖安匯知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 34107 | 代理人: | 朱順利 |
| 地址: | 241100 安徽省蕪湖市*** | 國(guó)省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光電 保護(hù)膜 生產(chǎn)線 靜電 偏光 | ||
1.光電保護(hù)膜生產(chǎn)線,包括涂膠裝置和攪拌裝置,其特征在于:還包括與所述攪拌裝置連接且用于對(duì)攪拌裝置進(jìn)行抽真空處理的抽真空裝置和用于將來自攪拌裝置的膠液輸送至所述涂膠裝置的膠液輸送裝置,膠液輸送裝置與涂膠裝置和攪拌裝置連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光電保護(hù)膜生產(chǎn)線,其特征在于:所述膠液輸送裝置包括與所述攪拌裝置連接的第一輸送管、與第一輸送管連接的輸送泵、與輸送泵連接的第二輸送管、分配器和與分配器連接的進(jìn)膠管,進(jìn)膠管設(shè)置多個(gè),進(jìn)膠管與所述涂膠裝置的膠槽連接,各個(gè)進(jìn)膠管分布在不同位置處。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光電保護(hù)膜生產(chǎn)線,其特征在于:所述分配器具有多個(gè)出膠口,各個(gè)所述進(jìn)膠管的進(jìn)膠口通過第三輸送管與分配器的一個(gè)出膠口連接,進(jìn)膠管的進(jìn)膠口的高度大于進(jìn)膠管的出膠口的高度,進(jìn)膠管的出膠口與所述膠槽連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的光電保護(hù)膜生產(chǎn)線,其特征在于:所述進(jìn)膠管設(shè)置所述膠槽的四個(gè)側(cè)壁上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一所述的光電保護(hù)膜生產(chǎn)線制備得到的防靜電偏光片光電保護(hù)膜。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的防靜電偏光片光電保護(hù)膜,其特征在于,所述防靜電偏光片光電保護(hù)膜由下至上依次包括抗靜電層、耐磨層、緩沖層、基膜層、粘膠層、離型膜層。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的防靜電偏光片光電保護(hù)膜,其特征在于,所述基膜層為PET基膜層、PP基膜層、PVC基膜層、POE基膜層的任意一種。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的防靜電偏光片光電保護(hù)膜,其特征在于,所述基膜層的厚度為10~100μm。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的防靜電偏光片光電保護(hù)膜,其特征在于,所述抗靜電層、耐磨層、緩沖層的厚度分別為5~10μm。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的防靜電偏光片光電保護(hù)膜,其特征在于,所述粘膠層的厚度為2~5μm。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于蕪湖夏鑫新型材料科技有限公司,未經(jīng)蕪湖夏鑫新型材料科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110772075.1/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





