[發(fā)明專利]一種Janus微球及其制備方法和應(yīng)用在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110771871.3 | 申請日: | 2021-07-08 |
| 公開(公告)號: | CN113564532A | 公開(公告)日: | 2021-10-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 鄭?;?/a>;江騰;鐘鈺琨;穆學(xué)良 | 申請(專利權(quán))人: | 南方科技大學(xué) |
| 主分類號: | C23C14/20 | 分類號: | C23C14/20;C23C14/22;C23C14/30;A61L31/04;A61L31/08 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 潘登 |
| 地址: | 518055 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 janus 及其 制備 方法 應(yīng)用 | ||
1.一種Janus微球的制備方法,其特征在于,所述制備方法包括如下步驟:
(1)采用濾膜過濾聚苯乙烯微球懸濁液,得到目標濾膜;
(2)將金屬沉積在步驟(1)得到的目標濾膜的聚苯乙烯微球沉積層上,分離,得到所述Janus微球。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(1)所述聚苯乙烯微球懸濁液通過如下方法制備得到,所述方法包括:將聚苯乙烯微球和分散液混合,分散處理,得到聚苯乙烯微球懸濁液;
優(yōu)選地,所述聚苯乙烯微球的粒徑為0.1~10μm;
優(yōu)選地,所述分散液包括分散溶質(zhì)和分散溶劑,所述分散溶質(zhì)包括檸檬酸鈉、聚乙烯吡咯烷酮中的任意一種或至少兩種的組合,所述分散溶劑包括去離子水和/或醇類溶劑;
優(yōu)選地,所述醇類溶劑包括乙醇、甲醇、乙醇或異丙醇中的任意一種或至少兩種的組合;
優(yōu)選地,以所述分散液體積為1L計,所述分散溶質(zhì)的質(zhì)量為0.5~3g;
優(yōu)選地,所述分散處理的方法包括震蕩和超聲;
優(yōu)選地,所述震蕩的時間為1~5min;
優(yōu)選地,所述超聲的時間為5~10min。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的制備方法,其特征在于,以步驟(1)所述聚苯乙烯懸濁液的體積為1L計,所述聚苯乙烯懸濁液中的聚苯乙烯微球的質(zhì)量為1~10g。
4.根據(jù)權(quán)利要求1~3任一項所述的制備方法,其特征在于,步驟(1)所述濾膜的孔徑為0.05~50μm;
優(yōu)選地,步驟(1)所述過濾為抽濾;
優(yōu)選地,所述抽濾通過抽濾器進行;
優(yōu)選地,所述抽濾的功率為100~200W;
優(yōu)選地,所述抽濾的速度為20~50L/min。
5.根據(jù)權(quán)利要求1~4任一項所述的制備方法,其特征在于,步驟(1)所述過濾后還包括干燥的步驟;
優(yōu)選地,所述干燥的溫度為30~90℃;
優(yōu)選地,所述干燥通過鼓風機進行。
6.根據(jù)權(quán)利要求1~5任一項所述的制備方法,其特征在于,步驟(2)所述金屬包括鋁、鎳、銀、金、鉑或鉛中的任意一種或至少兩種的組合;
優(yōu)選地,步驟(2)所述沉積的方法包括電子束蒸鍍法、磁控濺射蒸鍍或原子沉積鍍膜法中的任意一種或至少兩種的組合;
優(yōu)選地,所述電子束蒸鍍法的真空度為1×10-6~5×10-6Torr;
優(yōu)選地,步驟(2)所述沉積的速率為進一步優(yōu)選為
優(yōu)選地,步驟(2)所述沉積的沉積厚度為0.001~1μm;
優(yōu)選地,步驟(2)所述分離的方法包括超聲和離心;
優(yōu)選地,步驟(2)所述分離的方法還包括超聲和磁鐵吸附。
7.根據(jù)權(quán)利要求1~6任一項所述的制備方法,其特征在于,所述制備方法包括如下步驟:
(1)采用孔徑為0.03~7μm的濾膜,通過抽濾器在功率為100~200W,速度為20~50L/min的條件下抽濾聚苯乙烯微球懸濁液,在30~90℃下通過鼓風機干燥,得到目標濾膜;
(2)將金屬沉積在步驟(1)得到的目標濾膜的聚苯乙烯微球沉積層上,分離,得到金屬沉積層厚度為0.001~1μm的Janus微球;所述金屬包括鋁、鎳、銀、金、鉑或鉛中的任意一種或至少兩種的組合。
8.一種Janus微球,其特征在于,所述Janus微球通過如權(quán)利要求1~7任一項所述的制備方法制備得到。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
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