[發(fā)明專利]過渡族金屬/二氧化鈦多層膜、電極材料、電池及方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110766999.0 | 申請日： | 2021-07-07 |
| 公開（公告）號： | CN113921697A | 公開（公告）日： | 2022-01-11 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 李強;李洪森;張鳳玲;王凱;李召輝;夏清濤;張樂清;顧方超;吳玥穎;杜中玉 | 申請（專利權(quán)）人： | 青島大學(xué) |
| 主分類號： | H01L43/10 | 分類號： | H01L43/10;H01L43/12 |
| 代理公司： | 長沙新裕知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 43210 | 代理人： | 劉加 |
| 地址： | 266100 山*** | 國省代碼： | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 過渡 金屬 氧化 多層 電極 材料 電池 方法 | ||
1.一種過渡族金屬/二氧化鈦多層膜，其特征在于，包括：
過渡族金屬薄膜和二氧化鈦薄膜，所述過渡族金屬薄膜和二氧化鈦薄膜交替設(shè)置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層膜，其特征在于，所述過渡族金屬為以下元素中的一種或其組合：
鐵、鈷和鎳。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層膜，其特征在于，所述二氧化鈦薄膜的厚度大于所述過渡族金屬薄膜的厚度。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的多層膜，其特征在于，所述二氧化鈦薄膜的厚度為2.5-3.5nm，所述過渡族金屬薄膜的厚度為0.5-1.5nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層膜，其特征在于，所述過渡族金屬薄膜的層數(shù)大于或等于1層，所述二氧化鈦薄膜的層數(shù)大于或等于1層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層膜，其特征在于，所述多層膜基于空間電荷進行能量存儲。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層膜，其特征在于，所述多層膜用于磁性調(diào)控。
8.一種過渡族金屬/二氧化鈦多層膜的制備方法，其特征在于，包括：
采用磁控濺射法，交替生長過渡族金屬薄膜和二氧化鈦薄膜，獲得權(quán)利要求1-7任一項所述的過渡族金屬/二氧化鈦多層膜。
9.一種電極材料，其特征在于，包括權(quán)利要求1-6任一項所述的過渡族金屬/二氧化鈦多層膜。
10.一種離子電池，其特征在于，包括權(quán)利要求9所述的電極材料。
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