[發(fā)明專利]一種異質(zhì)結(jié)太陽(yáng)能電池及其制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110765904.3 | 申請(qǐng)日: | 2021-07-06 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113451431A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-09-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 徐曉華;辛科;周肅;龔道仁;王文靜;李晨;梅志綱 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 安徽華晟新能源科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L31/0352 | 分類號(hào): | H01L31/0352;H01L31/0288;H01L31/072;H01L31/074;H01L31/20 |
| 代理公司: | 北京三聚陽(yáng)光知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11250 | 代理人: | 安志嬌 |
| 地址: | 242000 安徽省宣城市宣城*** | 國(guó)省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 異質(zhì)結(jié) 太陽(yáng)能電池 及其 制備 方法 | ||
1.一種異質(zhì)結(jié)太陽(yáng)能電池,包括:N型襯底,所述N型襯底的一側(cè)自內(nèi)而外至少設(shè)置有第一鈍化層與N型摻雜層;所述N型襯底的另一側(cè)自內(nèi)而外至少設(shè)置有第二鈍化層與P型摻雜層;其特征在于,所述N型摻雜層包括層疊設(shè)置的種子層與精細(xì)晶硅層;
所述種子層為N型非晶硅薄膜層,所述種子層與所述第一鈍化層接觸;
所述精細(xì)晶硅層為N型納米晶氧化硅薄膜層、N型微晶氧化硅薄膜層、N型納米晶碳化硅薄膜層以及N型微晶碳化硅薄膜層中的任意一種或多種的結(jié)合。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的異質(zhì)結(jié)太陽(yáng)能電池,其特征在于,
所述N型摻雜層還包括接觸層,所述接觸層與所述第一透明導(dǎo)電層接觸,所述接觸層為N型微晶硅薄膜層。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的異質(zhì)結(jié)太陽(yáng)能電池,其特征在于,
所述N型摻雜層的總厚度范圍為5nm-25nm;
所述種子層的厚度范圍為0.5nm-3nm;
所述接觸層的厚度范圍為0.5nm-2nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的異質(zhì)結(jié)太陽(yáng)能電池,其特征在于,
所述N型摻雜層背對(duì)所述N型襯底的一面自內(nèi)而外設(shè)置有第一透明導(dǎo)電層和第一電極;
所述P型摻雜層背對(duì)所述N型襯底的一面自內(nèi)而外設(shè)置有第二透明導(dǎo)電層和第二電極。
5.一種異質(zhì)結(jié)太陽(yáng)能電池的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
在N型襯底的一側(cè)制備第一鈍化層,在N型襯底的另一側(cè)制備第二鈍化層;
在所述第一鈍化層的表面形成N型摻雜層,其中,所述N型摻雜層包括層疊設(shè)置的種子層與精細(xì)晶硅層;所述種子層為N型非晶硅薄膜層;所述精細(xì)晶硅層包括N型納米晶氧化硅薄膜層、N型微晶氧化硅薄膜層、N型納米晶碳化硅薄膜層以及N型微晶碳化硅薄膜層的至少一種;
在所述第二鈍化層的表面形成P型摻雜層。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的異質(zhì)結(jié)太陽(yáng)能電池的制備方法,其特征在于,
在所述第一鈍化層的表面形成N型摻雜層還包括在所述精細(xì)晶硅層的表面制備接觸層。
7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的異質(zhì)結(jié)太陽(yáng)能電池的制備方法,其特征在于,形成所述種子層時(shí)的工藝參數(shù)為:
鍍膜腔室內(nèi)PH3與SiH4的比例范圍為:1:2-2:1之間;
鍍膜腔室內(nèi)SiH4與H2的比例范圍為:1:10-1:1之間;
鍍膜腔室內(nèi)的工藝氣體的壓力范圍為:0.2mBar-1mBar;
鍍膜時(shí)電源的功率密度范圍為:153W/m2-612W/m2;
工藝時(shí)間范圍為:10s-100s;
工藝溫度范圍為:175℃-220℃。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的異質(zhì)結(jié)太陽(yáng)能電池的制備方法,其特征在于,在形成所述接觸層時(shí)的工藝參數(shù)為:
鍍膜腔室內(nèi)PH3與SiH4的比例范圍為:1:2-2:1之間;
鍍膜腔室內(nèi)SiH4與H2的比例范圍為:1:200-1:50之間;
鍍膜腔室內(nèi)的工藝氣體的壓力范圍為:0.5mBar-5mBar;
鍍膜時(shí)電源的功率密度范圍為:612W/m2-2296W/m2;
工藝時(shí)間范圍為:10s-100s;
工藝溫度范圍為:175℃-220℃。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于安徽華晟新能源科技有限公司,未經(jīng)安徽華晟新能源科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110765904.3/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過(guò)該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
- 用于測(cè)試異質(zhì)結(jié)太陽(yáng)能電池的IV測(cè)試儀
- 異質(zhì)結(jié)遂穿場(chǎng)效應(yīng)晶體管及其制備方法
- 基于天線直接匹配的鍺硅異質(zhì)結(jié)雙極晶體管探測(cè)器
- 一種具有鈣鈦礦能級(jí)修飾層的雙體異質(zhì)結(jié)有機(jī)太陽(yáng)能電池及其制備方法
- 一種硫化鉬-石墨烯異質(zhì)結(jié)光電導(dǎo)探測(cè)器及其制備方法
- 一種異質(zhì)結(jié)電池制備方法
- 一種微管式三維異質(zhì)結(jié)器件結(jié)構(gòu)及其制備方法和應(yīng)用
- 半導(dǎo)體器件制備方法及半導(dǎo)體器件
- 高效異質(zhì)結(jié)光伏組件
- 異質(zhì)結(jié)太陽(yáng)能電池片的制造方法及異質(zhì)結(jié)太陽(yáng)能電池片





