[發明專利]背光模組、背光模組制作方法及顯示裝置有效
| 申請號: | 202110765113.0 | 申請日: | 2021-07-07 |
| 公開(公告)號: | CN113433736B | 公開(公告)日: | 2022-09-27 |
| 發明(設計)人: | 楊勇 | 申請(專利權)人: | 武漢華星光電技術有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/13357 | 分類號: | G02F1/13357;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570 | 代理人: | 蔡艾瑩 |
| 地址: | 430079 湖北省武漢市*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 背光 模組 制作方法 顯示裝置 | ||
1.一種背光模組,其特征在于,包括:
基底;
發光二極管,設于所述基底上;
半透反射層,固定設于所述基底上,所述半透反射層包括多個間隔設置的半透反射單元,所述半透反射單元包括至少一層透明承載膜層和至少一層半透反射膜層,所述半透反射單元圍繞所述發光二極管設置;
封裝層,覆蓋在所述半透反射層遠離所述基底的一側,且填充相鄰的兩所述半透反射單元之間的間隙。
2.如權利要求1所述的背光模組,其特征在于,所述半透反射單元為碗狀形狀,包括相對的頂部開口和底部開口,所述底部開口的長度小于所述頂部開口的長度,所述頂部開口位于所述底部開口遠離所述基底的一側。
3.如權利要求2所述的背光模組,其特征在于,所述半透反射單元包括透明承載膜層和半透反射膜層的多層間隔結構。
4.如權利要求3所述的背光模組,其特征在于,所述發光二極管設置于所述半透反射單元內,所述底部開口在所述基底上的正投影圍繞所述發光二極管在所述基底上的正投影。
5.如權利要求4所述的背光模組,其特征在于,由靠近所述發光二極管指向遠離所述發光二極管的方向上,同一所述半透反射單元的所述半透反射膜層的厚度逐漸增大或逐漸減小。
6.如權利要求3所述的背光模組,其特征在于,所述半透反射膜層包括氮化硅、氧化硅中的任一種。
7.如權利要求6所述的背光模組,其特征在于,所述透明承載膜層包括有機材料。
8.如權利要求7所述的背光模組,其特征在于,所述發光二極管包括襯底和設于所述襯底上的發光芯片,所述襯底位于所述發光芯片遠離所述基底的一側,所述襯底上設有反射層。
9.一種背光模組制作方法,其特征在于,包括如下步驟:
步驟S100,提供一模具襯底,所述模具襯底包括多個凹陷;
步驟S200,在所述凹陷形成多個半透反射單元,所述半透反射單元為碗狀形狀,包括相對的頂部開口和底部開口,所述底部開口的長度小于所述頂部開口的長度,所述半透反射單元包括至少一層透明承載膜層和至少一層半透反射膜層;
步驟S300,將所述半透反射單元從所述模具襯底上剝離;
步驟S400,提供一基底,所述基底上設置有多個發光二極管;
步驟S500,在所述基底上固定設置半透反射層,所述半透反射層包括間隔設置的多個所述半透反射單元,所述發光二極管設置于所述半透反射單元內,所述底部開口在所述基底上的正投影圍繞所述發光二極管在所述基底上的正投影,所述頂部開口位于所述底部開口遠離所述基底的一側;
步驟S600,在所述半透反射層上形成封裝層,所述封裝層填充相鄰的兩所述半透反射單元之間的間隙。
10.一種顯示裝置,其特征在于,包括如權利要求1至8所述的任一項背光模組,所述顯示裝置還包括液晶顯示面板,所述液晶顯示面板設于所述背光模組的出光側。
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