[發明專利]一種卷對卷雙面數字化激光直寫曝光機及曝光對位方法有效
| 申請號: | 202110763479.4 | 申請日: | 2021-07-06 |
| 公開(公告)號: | CN113589656B | 公開(公告)日: | 2023-10-13 |
| 發明(設計)人: | 白國梁;梅文輝;汪孝軍;羅覃東;洪俊輝;麻秀芝 | 申請(專利權)人: | 杭州新諾微電子有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司: | 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205 | 代理人: | 伍傳松 |
| 地址: | 310000 浙江省杭州市蕭*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 雙面 數字化 激光 曝光 對位 方法 | ||
1.一種卷對卷雙面數字化激光直寫曝光機的曝光對位方法,其特征在于,包括以下步驟:
當對曝光卷料進行首次曝光時:
標定三組對位相機的位置;
捕捉所述曝光卷料兩側邊的邊緣,并在該兩側邊的邊緣上確定三組標記點,通過該三組標記點的坐標獲取所述曝光卷料的偏移角度和曝光區域;
根據當前所述曝光卷料的偏移角度和曝光區域進行曝光操作;
在位于當前曝光圖形外且靠近下一次需要進行曝光的曝光區域的區域范圍內標記兩顆Mark點;
當對所述曝光卷料進行第二次曝光時:
重新標定三組所述對位相機的位置;
移動所述曝光卷料使對應的所述對位相機捕捉到上一次曝光標記的兩顆Mark點并對該兩顆Mark點進行校對;
捕捉所述曝光卷料其中一側邊的邊緣,并在該側邊的邊緣上確定兩組標記點,通過該兩組標記點和兩顆校對后的所述Mark點的坐標獲取所述曝光卷料的偏移角度和曝光區域;
將當前所述曝光卷料的偏移角度與可調角度、極限角度進行比較以確定當前曝光圖形的偏轉角度;
根據所述偏轉角度和當前所述曝光卷料的曝光區域進行曝光操作;
在位于當前曝光圖形外且靠近下一次需要進行曝光的曝光區域的區域范圍內標記新的兩組Mark點;
后續曝光時重復第二次曝光時的步驟。
2.根據權利要求1所述的卷對卷雙面數字化激光直寫曝光機的曝光對位方法,其特征在于,所述標定三組所述對位相機的位置具體包括:
根據指定對位點數據進行數字化坐標轉換得到三組所述對位相機在曝光坐標系下的理論坐標;
將三組所述對位相機分別移動到所述理論坐標位置;
對三組所述對位相機進行精確定位。
3.根據權利要求2所述的卷對卷雙面數字化激光直寫曝光機的曝光對位方法,其特征在于,所述對三組所述對位相機進行精確定位具體包括:
通過高精度移動平臺分別將三組所述對位相機的相源中心對準同一個標定點;
根據高精度移動平臺的移動距離獲取三組所述對位相機在曝光坐標系下的實際坐標;
根據所述理論坐標與所述實際坐標調整三組所述對位相機的位置。
4.根據權利要求1所述的卷對卷雙面數字化激光直寫曝光機的曝光對位方法,其特征在于,所述對該兩顆Mark點進行校對具體包括:
將兩顆所述Mark點的實際間距與其理論間距的差值的絕對值與設定值進行比較:
在所述差值的絕對值大于所述設定值時,重新捕捉兩顆所述Mark點;
在所述差值的絕對值小于等于所述設定值時,保留兩顆所述Mark點;
分別計算校對后的兩顆所述Mark點距離對應的所述對位相機相源中心的距離,根據所述距離的平均值對所述曝光卷料的位置進行調整。
5.根據權利要求1所述的卷對卷雙面數字化激光直寫曝光機的曝光對位方法,其特征在于,所述將當前所述曝光卷料的偏移角度與可調角度、極限角度進行比較以確定當前曝光圖形的偏轉角度具體包括:
在當前所述曝光卷料的偏移角度小于可調角度時,設定當前曝光圖形的偏轉角度為所述偏移角度;
在當前所述曝光卷料的偏移角度大于等于可調角度且小于所述極限角度時,設定當前曝光圖形的偏轉角度為所述可調角度;
在當前所述曝光卷料的偏移角度大于等于所述極限角度時,停止曝光。
6.一種卷對卷雙面數字化激光直寫曝光機,包括可沿曝光坐標系Y軸方向運動的第一對位相機(100)和第二對位相機(200)、可沿曝光坐標系X軸和Y軸方向運動的第三對位相機(300),其特征在于,應用了如權利要求1至5任一項所述的卷對卷雙面數字化激光直寫曝光機的曝光對位方法。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于杭州新諾微電子有限公司,未經杭州新諾微電子有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110763479.4/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





